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1. 发明专利

JP6222145B2 金属皮膜の成膜装置およびその成膜方法有权
公开(公告)号：JP6222145B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2015048021
申请日：2015-03-11
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：平岡基記 , 柳本博 , 佐藤祐規
IPC分类号： C25D5/00 , C25D21/04 , C25D17/00
CPC分类号： C25D17/002 , C25D17/12 , C25D3/00 , C25D5/04 , C25D5/08 , C25D7/123

2. 发明专利

JP6176235B2 金属皮膜の成膜装置およびその成膜方法有权
公开(公告)号：JP6176235B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2014265951
申请日：2014-12-26
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：佐藤祐規 , 平岡基記 , 柳本博
IPC分类号： C25D21/00 , C25D17/00
CPC分类号： C25D3/02 , C25D17/00 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D17/14 , C25D3/00 , C25D5/06 , C25D3/12 , C25D3/38 , C25D5/08

3. 发明专利

JP6011559B2 金属皮膜の成膜方法有权
标题翻译：形成金属膜的方法
公开(公告)号：JP6011559B2
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：JP2014026635
申请日：2014-02-14
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：柳本博 , 平岡基記 , 佐藤祐規 , 新明良崇
IPC分类号： C25D21/12 , C25D17/00
CPC分类号： C25D3/00 , C25D5/02 , C25D5/18 , C25D17/001 , C25D17/12 , C25D17/14 , C25D3/12 , C25D5/06 , C25D5/12

4. 发明专利

JP2012222323A Through-hole substrate and manufacturing method thereof 审中-公开
标题翻译：贯通孔基板及其制造方法
公开(公告)号：JP2012222323A
公开(公告)日：2012-11-12
申请号：JP2011090122
申请日：2011-04-14
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： TEJIMA TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/76898 , C23C18/00 , C23C18/1605 , C23C18/165 , C23C18/1841 , C23C18/42 , C25D3/00 , C25D3/38 , C25D5/00 , C25D5/02 , C25D5/022 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D7/123 , H01J1/46 , H01J9/14 , H01L23/481 , H01L2924/0002 , H05K3/42 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a through-hole substrate and a manufacturing method thereof which can enhance shape accuracy, such as roundness of an opening.SOLUTION: A substrate 3 having a through-hole 2 filled with filler 4 is prepared. A structure 6, whose surface is at least partially insulated, is formed on a surface of the substrate 3. After a plating layer 7 is formed on the substrate having the structure 6 formed thereon, the filler 4 and the structure 6 are removed, thereby forming a through-hole substrate 8 in which the plating layer 7 having an opening 9 in communication with the through-hole 2 is disposed at least on one surface of a substrate 1.
摘要翻译：解决的问题：提供一种可以提高诸如开口圆度等形状精度的通孔基板及其制造方法。解决方案：制备具有填充有填料4的通孔2的基板3。在基板3的表面上形成表面至少部分绝缘的结构体6.在形成有结构体6的基板上形成镀覆层7之后，除去填料4和结构体6，由此，形成通孔基板8，其中具有与通孔2连通的开口9的镀层7至少设置在基板1的一个表面上。版权所有：（C）2013，JPO＆INPIT

5. 发明专利

KR102234820B1 KR102234820B1 - Electrochemical method and apparatus for consuming gasses 有权
公开(公告)号：KR102234820B1
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：KR1020167011604A
申请日：2014-10-03
申请人： 다니엘 에이. 슈어슨
发明人： 다니엘 에이. 슈어슨
IPC分类号： C25D21/04 , C25D3/00 , C25D17/00 , C25D17/10 , C25D21/12 , F04B37/02 , H01M16/00
CPC分类号： C25D21/04 , C25D17/00 , C25D17/10 , C25D21/12 , C25D3/00 , F04B37/02 , H01M16/00
摘要： 전기화학적 반응을 통해 밀봉된 봉입체 내에 진공을 형성하기 위한 장치는 고체 전해질 상에 지지된 캐소드 및 애노드를 포함하는 전기화학적 전지를 포함한다. 고체 전해질은 용해된 금속염을 함유하는 Li 이온 비휘발성 전해질이다. 캐소드는 리튬이 합금을 형성하는 것으로 알려져 있는 재료로 구성된다. 애노드는 리튬 이온 함유 재료로 구성된다. 전지는 캐소드 상에 리튬 금속을 노출하도록 작동 가능하다.

6. 发明专利

JP2017210634A 金属皮膜の成膜方法およびその成膜装置有权
公开(公告)号：JP2017210634A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2016102703
申请日：2016-05-23
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：佐藤祐規 , 平岡基記 , 飯坂浩文
IPC分类号： C25D5/02 , C25D7/00 , C25D21/00 , H05K3/18 , C25D17/00
CPC分类号： C25D5/22 , C25D17/004 , C25D17/005 , C25D17/06 , C25D17/14 , C25D3/00 , C25D3/38 , C25D5/022 , C25D5/06 , C25D5/54
摘要：【課題】固体電解質膜を基板の表面に均一に押圧することにより、基板の表面に均一な膜厚の金属皮膜を成膜することができる金属皮膜の成膜方法を提供する。【解決手段】本発明の成膜方法では、金属溶液Lを、ハウジング20の第1収容室21内に固体電解質膜13で封止し、流体45を、載置台40の第2収容室41内に薄膜43で封止した状態で、基板Bを載置台40に載置し、載置台40とハウジング20とを相対的に移動させて固体電解質膜13と薄膜43との間に基板Bを挟み込み、挟み込んだ状態の基板Bに、固体電解質膜13および薄膜43を押圧することにより、固体電解質膜13および薄膜43を、基板Bの表面Baおよび裏面Bbに倣わせて、金属皮膜Fの成膜を行う。【選択図】図1B

7. 发明专利

JP2015040311A 金属被膜の成膜装置および成膜方法有权
标题翻译：金属镀膜薄膜沉积装置及膜沉积方法
公开(公告)号：JP2015040311A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：JP2013170336
申请日：2013-08-20
申请人：トヨタ自動車株式会社 , Toyota Motor Corp
发明人： HIRAOKA MOTOKI , YANAGIMOTO HIROSHI , SATO YUKI
IPC分类号： C25D5/06 , C25D17/00 , C25D21/00
CPC分类号： C25D5/04 , C25D3/00 , C25D5/08 , C25D5/22 , C25D17/00 , C25D17/002 , C25D17/007 , C25D17/12 , C25D17/14 , C25D21/04
摘要：【課題】ボイドまたはピンホールなどの欠陥が生成され難い金属被膜を成膜することができる金属被膜の成膜装置およびその成膜方法を提供する。【解決手段】陽極11と、陰極となる基材Bと、の間において陽極11の表面に固体電解質膜13を配置し、固体電解質膜13を基材Bに接触させる。これと共に、陽極11と基材Bとの間に電圧を印加し、固体電解質膜13を基材Bに接触した状態で固体電解質膜13の内部に含有された金属イオンから金属を前記基材の表面に析出させて金属被膜Fを基材Bの表面に成膜する。金属被膜Fの成膜時に、固体電解質膜13と基材Bとを接触状態から非接触状態にすることにより金属被膜Fの成膜を中断し、成膜の中断後、接触状態とは異なる接触状態となるように固体電解質膜13と基材Bの接触状態を変更し、変更した接触状態で金属被膜Fの成膜を再開する。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够沉积金属涂膜的金属涂膜的薄膜沉积设备和薄膜沉积方法，所述金属涂膜不可能产生诸如空隙或针孔等的几代缺陷。溶解性：固体电解质膜13 布置在阳极11和作为阴极设置的基板B之间的阳极11的表面上，并且固体电解质膜13与基板B接触。在阳极11和基板B之间同时施加电压，并且金属涂膜F通过在固体电解质膜13与基板B接触的状态下，通过在包含金属离子的金属离子到基板表面上的沉淀而沉积在基板B的表面上在固体电解质膜13的内部。在金属涂膜F的沉积时，固体电解质膜13和基板B的接触状态切换到非接触状态 te，以便中断金属涂膜F的沉积，并且在膜沉积中断之后，固体电解质膜13和基板B的接触状态被切换到与初始接触状态不同的接触状态，并且在切换接触状态下恢复金属涂膜F的沉积。

8. 发明专利

JP2014185371A Film formation apparatus for metal film and film formation method 有权
标题翻译：用于金属膜和膜形成方法的膜形成装置
公开(公告)号：JP2014185371A
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：JP2013061534
申请日：2013-03-25
申请人： Toyota Motor Corp , トヨタ自動車株式会社
发明人： SATO YUKI , HIRAOKA MOTOKI , YANAGIMOTO HIROSHI
IPC分类号： C25D17/00
CPC分类号： C25D5/00 , C25D3/00 , C25D3/38 , C25D7/00 , C25D17/00 , C25D17/002 , C25D17/10 , C25D17/12
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film formation apparatus for a metal film which can form a metal film of a desired film thickness continuously on the surfaces of a plurality of substrates and allows increasing the film formation speed while suppressing occurrence of abnormalities in the metal film and a method of forming the metal film.SOLUTION: A film formation apparatus 1A includes an anode 11, a solid electrolyte membrane 13 arranged with a metal ion solution L on the side of the anode 11 between the anode 11 and a substrate B serving as a cathode and a power source part E applying a voltage between the anode 11 and the substrate B, and a metal film F composed of the metal of the metal ion is formed by applying a voltage between the anode 11 and the substrate B to precipitate the metal ion as the corresponding metal onto the surface of the substrate B. The anode 11 consists of a base material 11a which has insolubility in the metal ion solution L and is coated with a metal plating film 11c composed of the same metal as that of the metal film F.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够在多个基板的表面上连续地形成期望的膜厚的金属膜的金属膜的成膜装置，并且可以在抑制金属的异常发生的同时提高成膜速度膜和形成金属膜的方法。溶液：成膜装置1A包括阳极11，固体电解质膜13，其在阳极11和基板B之间的阳极11侧配置有金属离子溶液L，作为在阳极11和基板B之间施加电压的阴极和电源部分E，并且通过在阳极11和基板B之间施加电压来形成由金属离子的金属构成的金属膜F以沉淀作为相应的金属的金属离子作为相应的金属涂覆到基底B的表面上。阳极11由在金属离子溶液L中具有不溶性并涂有金属铂的基材11a g膜11c由与金属膜F相同的金属构成。

9. 发明专利

JP2018523017A 表面外観に優れた電気亜鉛めっき鋼板用の亜鉛フラッシュめっき溶液、それを用いた電気亜鉛めっき鋼板の製造方法、及び電気亜鉛めっき鋼板审中-公开
公开(公告)号：JP2018523017A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：JP2018506512
申请日：2016-07-18
申请人：ポスコ , POSCO
发明人：チョン、チン−ホ , チェ、ヤン−ホ , イム、サン−ベ , イ、ウォン−フィ , チェ、ヒョ−ジン , ハン、ヒョン−ソプ , チェ、ヨン−ファン , チョン、ジョン−ウン , ソン、ヨン−シク , ヨム、ジュン−ソン
IPC分类号： C25D5/10 , C25D5/26 , C25D3/22
CPC分类号： C21D8/02 , C23G1/02 , C25D3/00 , C25D3/22 , C25D5/10 , C25D5/16 , C25D5/36 , C25D7/00 , C25D21/12
摘要：本発明は、表面外観に優れた電気亜鉛めっき鋼板を提供できる亜鉛フラッシュめっき溶液、それを用いた電気亜鉛めっき鋼板の製造方法、及びそれにより製造された電気亜鉛めっき鋼板に関する。

10. 发明专利

JP6176234B2 金属皮膜の成膜装置およびその成膜方法有权
公开(公告)号：JP6176234B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2014265915
申请日：2014-12-26
申请人：トヨタ自動車株式会社
发明人：平岡基記 , 柳本博 , 佐藤祐規
IPC分类号： C25D7/00 , C25D17/12 , C25D5/02
CPC分类号： C25D17/002 , C25D17/005 , C25D17/14 , C25D3/00 , C25D3/12 , C25D3/46 , C25D3/48 , C25D5/02 , H05K3/242 , C25D3/38 , H05K2203/0723

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