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1. 发明专利

JP2021163694A イオナイザー及び除電システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021163694A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2020066666
申请日：2020-04-02
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：鈴木政典 , 川瀬信雄
IPC分类号： H05F3/06
摘要：【課題】イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上することができるイオナイザーおよび除電システムを提供する。【解決手段】チャンバ2と、チャンバ2内に常温のイオン搬送ガスを供給するエア供給路1と、チャンバ2内に高温蒸気を供給する蒸気供給部3と、チャンバ2内に軟X線を照射する軟X線生成装置4と、チャンバ2内で生成されたイオン化気流を搬送する搬送路5と、を備える。【選択図】図1

2. 发明专利

JP6873721B2 空気処理装置、空気処理装置の制御装置、空気処理システム及び空気処理装置の制御方法有权
公开(公告)号：JP6873721B2
公开(公告)日：2021-05-19
申请号：JP2017018621
申请日：2017-02-03
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：海老根猛
IPC分类号： F24F11/70 , F24F11/46 , B01D53/14 , F24F110/10 , F24F110/20 , F24F3/147

3. 发明专利

JP2019189474A 過酸化水素ガス発生装置および過酸化水素ガス発生方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019189474A
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2018080556
申请日：2018-04-19
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：安井文男 , 田村一 , 佐藤朋且 , 藤井美紗 , 関口和彦
IPC分类号： A61L2/20 , A61L101/22 , C01B15/032
摘要：【課題】低湿度な過酸化水素ガスを供給することのできる過酸化水素ガス発生装置および過酸化水素ガス発生方法を提供する。【解決手段】過炭酸ナトリウムが充填された容器2と、容器2を加熱する加熱装置3と、容器2に気体を供給する気体供給路Aと、を有し、加熱装置3が容器2を加熱するともに、気体供給路Aを介して過炭酸ナトリウムの加熱温度よりも低い温度の気体を、容器2に通気する。【選択図】図1

4. 发明专利

JP2019078422A 空調システム审中-公开
公开(公告)号：JP2019078422A
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：JP2017203530
申请日：2017-10-20
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：藤井美紗 , 田村一
IPC分类号： F24F7/06 , F24F7/10 , F24F13/068
摘要：【課題】優れた換気性能を有する空調システムを提供する。【解決手段】対象空間に気体を供給する給気システムと、対象空間内の気体を排出する排気システムと、を有し、対象空間Sは、床面s1と、床面s1が有する辺から立ち上がる壁面s2と、床面s1と対向する天井面s3とにより画成される空間であり、給気システムは、複数の小孔を有する半円筒型の拡散体1と、拡散体1に気体を供給する給気装置と、を有し、排気システムは、排気口2と、排気口から気体を吸引する排気装置と、を有し、拡散体1は、天井面s3に設けられ、天井面s3が有する辺に対応する長さを有し、排気口2は、天井面s3または壁面s2に設けられ、天井面s3または壁面s2が有する辺に対応する長さを有する。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2017194232A 外気処理システム、外気処理システムの制御装置及び制御方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017194232A
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：JP2016085040
申请日：2016-04-21
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：海老根猛
IPC分类号： F24F3/147
CPC分类号： F24F3/147 , F24F11/89
摘要：【課題】十分な除湿性能を発揮し、除湿にかかる負荷を低減する外気処理システムを提供する。【解決手段】外気処理システム1は、外気を空調空間Aへ給気する給気路100と、空調空間Aからの還気を排気する排気路200と、給気路100に取り込まれた外気を排気路200を通過する還気と全熱交換する全熱交換部2と、給気路100の全熱交換部2の下流側に設置され、外気を加熱する加熱コイル31と加熱コイル31により加熱された外気が通過するデシカントロータRの再生側32とを含む再生部3と、給気路100の再生部3の下流側に設置され、デシカントロータRの再生側32を通過した外気を冷却する冷却コイル41と、冷却コイル41により冷却された外気が通過して除湿されるデシカントロータRの除湿側42とを含む除湿部4と、を備える。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6044951B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6044951B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2012215294
申请日：2012-09-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：宮城雅宏 , 荒木浩之 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： H01L21/304

7. 发明专利

JP2015210031A 乾燥装置、乾燥装置の制御方法、およびその制御装置审中-公开
标题翻译：干燥装置及其控制方法及其控制装置
公开(公告)号：JP2015210031A
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：JP2014092091
申请日：2014-04-25
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：海老根猛 , 菅田大助
IPC分类号： F26B21/04 , F26B13/10
摘要：【課題】省エネルギー性を向上させた乾燥装置、乾燥装置の制御方法、および乾燥装置の制御装置を提供する。【解決手段】被乾燥物Dが送風により乾燥される複数の乾燥室1a〜1cを備え、複数の乾燥室1a〜1cのそれぞれには、乾燥室1a〜1cに導入する気体量を調整する気体量調整手段2a〜2cと、気体量調整手段2a〜2cが導入した気体を加熱する加熱手段3a〜3cと、が接続され、複数の乾燥室1a〜1cは、気体の上流側の乾燥室から排出された気体が、気体の下流側の乾燥室に順次導入されるように構成され、複数の乾燥室1a〜1cにおいて、気体の最下流側の乾燥室1cから、気体の最上流側の乾燥室1aに向けて被乾燥物Dを搬送する搬送手段Cを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种节能改进的干燥装置，干燥装置的控制方法和干燥装置的控制装置。干燥装置包括多个干燥室1a至1c，其中物体待干燥的D将吹干空气。用于调节引入干燥室1a至1c的气体量的气量调节装置2a至2c和用于加热由气量调节装置2a至2c引入的气体的加热装置3a至3c连接到多个干燥室1a至1c。多个干燥室1a〜1c构成为将气体上游侧的干燥室排出的气体依次导入气体的下游侧的干燥室。多个干燥装置1a至1c中的每一个包括输送装置C，用于将来自气体的最下游侧的干燥室1c的待干燥物体D输送到最上游侧的干燥室1a。

8. 发明专利

JP5787336B2 解剖台換気システム有权
标题翻译：解剖台上通风系统
公开(公告)号：JP5787336B2
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：JP2010032440
申请日：2010-02-17
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：長谷川正樹 , 鈴木政典 , 滝口陽介 , 安井文男
IPC分类号： A61B16/00

9. 发明专利

JP2014085100A Drying system, method for controlling drying system and its control device 有权
标题翻译：干燥系统，控制干燥系统的方法及其控制装置
公开(公告)号：JP2014085100A
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012237312
申请日：2012-10-26
申请人： Techno Ryowa Ltd , 株式会社テクノ菱和
发明人： EBINE TAKESHI
IPC分类号： F26B21/08 , F26B3/04 , F26B21/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying system, method for controlling the drying system and control device for the drying system in which an object to be dried is efficiently dried and energy-saving characteristic is improved.SOLUTION: This invention relates to a drying system comprising a drying device X including a drying chamber 1 in which an object D to be dried is dried through blown air, a heating part 2 connected to the drying chamber 1 so as to heat gas, and a gas amount adjustment part 3 and/or 4 for adjusting a gas amount into the system; and a control device Y connected to the drying device X. The drying device X has a humidity sensor H for measuring a humidity of gas passed through the heating part 2 and a temperature sensor T for measuring a temperature of gas passed through the heating part 2. The control device Y includes a gas amount control part 300 for controlling the gas amount adjustment part 3 and/or 4 in such a way that a humidity measured by the humidity sensor H may become a prescribed value, and a heating temperature control part 200 for controlling the heating part 2 in such a way that a temperature measured by the temperature sensor T may fall in a prescribed temperature range.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于控制干燥系统的干燥系统的方法和用于干燥系统的控制装置，其中待干燥物体被有效地干燥并且节能特性得到改善。解决方案本发明涉及一种干燥系统，包括：干燥装置X，其包括干燥室1，待干燥对象物D通过吹风空气干燥;加热部分2，连接到干燥室1以加热气体;以及气体量调节部分3和/ 或4用于调节系统中的气体量; 以及连接到干燥装置X的控制装置Y.干燥装置X具有用于测量通过加热部2的气体的湿度的湿度传感器H和用于测量通过加热部2的气体的温度的温度传感器T 控制装置Y包括用于控制气体量调节部3和/或4的气体量控制部300，使得由湿度传感器H测量的湿度可以变为规定值，加热温度控制部200 用于控制加热部件2，使得由温度传感器T测量的温度可能落在规定的温度范围内。

10. 发明专利

JP2014082471A Process-liquid-supplying apparatus, substrate processing apparatus, process-liquid-supplying method, and substrate processing method 有权
标题翻译：过程液体供应装置，基板处理装置，方法 - 液体供应方法和基板处理方法
公开(公告)号：JP2014082471A
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：JP2013194293
申请日：2013-09-19
申请人： Dainippon Screen Mfg Co Ltd , 大日本スクリーン製造株式会社 , Techno Ryowa Ltd , 株式会社テクノ菱和
发明人： MIYAGI MASAHIRO , ARAKI HIROYUKI , SUZUKI MASANORI , SATO TOMOKATSU , KAWASE NOBUO
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , B05C11/10 , B08B3/02 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/10 , H05F1/00 , H05F3/06
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process-liquid-supplying apparatus and a process-liquid-supplying method by which a process liquid can be supplied to a processing object while preventing the electrification of or diselectrifying the processing object, and to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method by which a treatment by use of a process liquid can be performed on a substrate while preventing the electrification of or diselectrifying the substrate.SOLUTION: A substrate processing apparatus 1 comprises: a spin chuck 4 for rotating a substrate W while holding it in a horizontal attitude; and an integral-type head 6 disposed to face a surface(upper face) of the substrate W held by the spin chuck 4 for supplying the surface of the substrate W with DIW(deionized water) as an example of water and irradiating the surface of the substrate W with soft X rays. The integral-type head 6 has a water nozzle 61 extending in a vertical direction, and a soft X-ray irradiation unit 62 for laterally directing soft X rays toward the water nozzle 61, which are assembled integrally. The water nozzle 61 is connected with a water-supplying line 13 to which DIW is supplied from a DIW supply source.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种处理液供给装置和处理液供给方法，通过该方法，可以在防止加工对象的带电或不均化的同时将处理液体供给到处理对象物，并且提供基板处理装置和基板处理方法，通过该方法可以在基板上进行使用处理液的处理，同时防止基板的通电或使其失电。解决方案：基板处理装置1包括：用于旋转基板的旋转卡盘4 同时把握在一个横向的态度; 以及设置成面对由旋转卡盘4保持的基板W的表面（上表面）的一体型头6，用于以DIW（去离子水）作为水的一个表面供给衬底W的表面，并照射具有软X射线的衬底W。整体式头部6具有沿垂直方向延伸的水喷嘴61和用于将软X射线横向引导到水喷嘴61的软X射线照射单元62，它们被整体组装。水喷嘴61与DIW供给源供给DIW的供水管13连接。

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