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1. 发明专利

JP6044951B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6044951B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2012215294
申请日：2012-09-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：宮城雅宏 , 荒木浩之 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： H01L21/304

2. 发明专利

JP6212818B2 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6212818B2
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2013194293
申请日：2013-09-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：宮城雅宏 , 荒木浩之 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： B08B3/02 , B05C11/08 , B05C11/10 , G21K5/02 , G21K5/00 , G21K5/10 , H05F1/00 , H05F3/06 , H01L21/304

3. 发明专利

JP6315452B2 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6315452B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2014083146
申请日：2014-04-14
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：荒木浩之 , 塙洋祐 , 海老根猛 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： H05F3/06 , H05F3/02 , H01L21/304

4. 发明专利

JP6212819B2 処理液処理装置および処理液処理方法有权
公开(公告)号：JP6212819B2
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2013194294
申请日：2013-09-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：宮城雅宏 , 荒木浩之 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： B08B3/04 , B08B3/10 , H01L21/304

5. 发明专利

JP2015204384A 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法および基板処理方法有权
标题翻译：过程液体供应装置，基板处理装置，工艺液体供应方法和基板处理方法
公开(公告)号：JP2015204384A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：JP2014083146
申请日：2014-04-14
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 株式会社テクノ菱和
发明人：荒木浩之 , 塙洋祐 , 海老根猛 , 鈴木政典 , 佐藤朋且 , 川瀬信雄
IPC分类号： H05F3/06 , H05F3/02 , H01L21/304
摘要：【課題】処理対象物の帯電防止または除電を図りつつ、当該処理対象物に処理液を供給できる処理液供給装置および処理液供給方法を提供すること。基板の帯電防止または除電を図りつつ、当該基板に、処理液を用いた処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。【解決手段】基板処理装置1は、スピンチャック3に保持されている基板Wの表面に、水を供給するための水供給ユニット5を含む。水供給ユニット5は、吐出口14を有する水ノズル13と、水ノズル13に処理液を供給する水配管15と、水配管15から分岐する分岐配管16と、分岐配管16に対向して配置され、分岐配管16の内部に存在する処理液に軟X線を照射して、当該処理液に電荷を発生させる軟X線照射ユニット17とを含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在防止处理对象的充电或中和处理对象的同时向处理对象提供处理液的处理液供给装置和处理液供给方法，并且提供基板处理装置以及能够通过使用处理液处理基板的基板处理方法，同时防止基板的充电或基板的中和。解决方案：基板处理装置1包括：供水单元5，用于向基板W由旋转卡盘3保持。供水单元5包括具有输送口14的水喷嘴13，用于向水喷嘴13供给处理液的水管15，从水管15分支的分支管16 以及与分支管16相对设置并在处理液中产生电荷的软X射线照射单元17，通过照射存在的处理液在具有软X射线的支管16中。

6. 发明专利

JP2021163694A イオナイザー及び除電システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021163694A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2020066666
申请日：2020-04-02
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：鈴木政典 , 川瀬信雄
IPC分类号： H05F3/06
摘要：【課題】イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上することができるイオナイザーおよび除電システムを提供する。【解決手段】チャンバ2と、チャンバ2内に常温のイオン搬送ガスを供給するエア供給路1と、チャンバ2内に高温蒸気を供給する蒸気供給部3と、チャンバ2内に軟X線を照射する軟X線生成装置4と、チャンバ2内で生成されたイオン化気流を搬送する搬送路5と、を備える。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2021163692A イオナイザーおよび除電システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021163692A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2020066651
申请日：2020-04-02
申请人：株式会社テクノ菱和
发明人：鈴木政典 , 川瀬信雄
IPC分类号： H05F3/06
摘要：【課題】イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上することができるイオナイザーおよび除電システムを提供する。【解決手段】チャンバ20と、チャンバ20内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路10と、チャンバ20の内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、チャンバ20の内部に軟X線を照射するように配置された軟X線発生装置40と、チャンバ20内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路50と、を有する。【選択図】図1

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