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1. 发明专利

JP2010091552A Apparatus and method for pattern inspection 有权
标题翻译：装置和方法进行模式检查
公开(公告)号：JP2010091552A
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：JP2009181565
申请日：2009-08-04
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： TSUCHIYA HIDEO , ABE TAKAYUKI
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G01N21/956 , G01N2021/95676
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device correcting output fluctuation of a TDI (Time Delay Integration) sensor when using pulsed light. SOLUTION: A pattern inspection apparatus 100 includes a pulsed light source 103; an XYθ-table 102 for placing a photomask 101 thereon; the TDI sensor 105 for imaging an optical image of the photomask 101 acquired by irradiating the pulsed light onto the photomask 101; a light quantity sensor 172 for detecting a light quantity of the pulsed light after being irradiated; a light quantity monitoring circuit 142 for inputting the detected light quantity, and measuring a light quantity of each pulse while being synchronized with a period of the pulsed light; a sensor circuit 106 for inputting the light quantity of each pulse and an integrated pixel value output from the TDI sensor 105, and correcting the integrated pixel value outputted from the TDI sensor 105, for each pixel of the optical image, using a total light quantity of the light quantity of corresponding each pulse; and a comparator circuit 108 for inspecting whether there is a defect of the pattern, using the integrated pixel value after being corrected. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供在使用脉冲光时校正TDI（时间延迟积分）传感器的输出波动的检查装置。图案检查装置100包括脉冲光源103; 用于在其上放置光掩模101的XYθ表102; 用于对通过将光脉冲光照射到光掩模101上而获得的光掩模101的光学图像进行成像的TDI传感器105; 用于检测照射后的脉冲光的光量的光量传感器172; 用于输入检测光量的光量监视电路142，同时与脉冲光的周期同步地测量每个脉冲的光量; 用于输入每个脉冲的光量的传感器电路106和从TDI传感器105输出的积分像素值，并且使用总光量来校正从TDI传感器105输出的针对光学图像的每个像素的积分像素值对应的每个脉冲的光量; 以及比较电路108，用于在校正后使用积分像素值检查是否存在图案的缺陷。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2009075068A Device and method for inspecting pattern 审中-公开
标题翻译：用于检查图案的装置和方法
公开(公告)号：JP2009075068A
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：JP2008157399
申请日：2008-06-17
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： ABE TAKAYUKI , IIJIMA TOMOHIRO , TSUCHIYA HIDEO , ARAI TETSUYUKI
IPC分类号： G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device that uses a pulse light source of short wavelength. SOLUTION: The inspection device 100 described one mode of the invention includes a pulse light source 150 for generating a pulse light, an XYθ table 102 for mounting a photomask 101, a plurality of light-receiving elements arranged two-dimensionally, a two-dimensional sensor array 105 for imaging a pattern image in the two-dimensional region of the photomask 101 which is irradiated with the pulse light using the plurality of light-receiving elements, and a comparison circuit 108 for comparing the data of the pattern image and the data of a predetermined reference pattern, in which a stage moves so as to shift only the multiples of the number of pixels of natural number between pulses of the pulse light. This device enables suppression of increase in the inspection times and reduction in the errors of the light intensity, even when a pulse light source with a short wavelength is employed. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供使用短波长的脉冲光源的检查装置。解决方案：描述本发明的一种模式的检查装置100包括用于产生脉冲光的脉冲光源150，用于安装光掩模101的XYθ表102，二维布置的多个光接收元件，二维传感器阵列105，用于对使用多个光接收元件照射脉冲光的光掩模101的二维区域中的图案图像成像;以及比较电路108，用于比较图案图像的数据以及其中阶段移动以便仅在脉冲光的脉冲之间移动自然数的像素数的倍数的预定参考图案的数据。即使使用短波长的脉冲光源，也能够抑制检查时间的增加和光强度的误差的降低。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2015049116A 検査装置および検査方法有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2015049116A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：JP2013180622
申请日：2013-08-30
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： TSUCHIYA HIDEO , ISOBE MANABU , AKIYAMA HIROAKI , YABE MAKOTO , INOUE TAKAFUMI
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/24 , H01L21/66
摘要：【課題】パターンの用途以外にも検査に適用可能な重要度情報を見出し、これを用いることで、不要な欠陥検出を低減できる検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】検査装置は、パターンの光学画像を得て、この光学画像を基準画像と比較し、これらの差異が、重要度情報を用いて決定された閾値を超えた場合に欠陥と判定する。重要度情報は、パターンを描画する描画装置に入力される描画データ、描画データまたは描画データの基になる設計データへのリサイズ処理、描画データまたは設計データへの補助パターンの付加、描画データに設定された描画装置の描画条件への補正処理、および描画装置のログのうちの少なくとも1つの情報である。また、重要度情報は、パターンの用途に関する情報を含むことが好ましい。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种检查装置和检查方法，该检查装置和检查方法可以发现适用于除应用图案之外的检查的重要性信息，以能够使用该信息来减少不必要的缺陷检测。解决方案：检查装置获取光学图像将光学图像与参考图像进行比较，并且当差异超过使用重要性信息确定的阈值时，确定它是有缺陷的。重要性信息是绘制输入绘图装置的图形数据的至少一个信息，绘制图形，调整处理以绘制数据或设计数据以作为绘图数据的基础，向绘图数据添加辅助图案或设计数据，对设定为绘图数据的绘图装置的绘图条件的校正处理以及绘图装置的对数。重要性信息优选地包括关于图案的应用的信息。

4. 发明专利

JP2013040873A Pattern inspection device and pattern inspection method 有权
标题翻译：模式检验装置和模式检验方法
公开(公告)号：JP2013040873A
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：JP2011178877
申请日：2011-08-18
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： MATSUMOTO EIJI , KIKUIRI NOBUTAKA , TSUCHIYA HIDEO
IPC分类号： G01B11/24 , G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G06K9/00 , G01B11/02 , G01B2210/56 , G01N21/95 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G03F1/84 , G03F7/70616 , G03F7/707 , H01L22/00 , H01L2924/0002 , H04N7/18 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device capable of inspecting the homogeneity of position precision of a pattern itself formed on a mask.SOLUTION: An inspection device 100 includes: a map generation circuit 131 which generates a first displacement amount map in an entire inspection object region by using first displacement amounts between dimensions of graphics in respective optical images acquired by imaging discrete regions and those in corresponding reference images; a map generation circuit 132 which generates a second displacement amount map in the entire inspection object region by using second displacement amounts between dimensions of graphics in respective optical images acquired by imaging the entire inspection object region and those in corresponding reference images; and a determination circuit 156 which determines whether or not a value exceeding an allowable value is included in respective values defined in a third displacement amount map obtained by correcting the second displacement amount map with a first difference map between the first displacement amount map and the second displacement amount map.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够检查形成在掩模上的图案本身的位置精度的均匀性的检查装置。检查装置100包括：地图生成电路131，其通过使用通过成像离散区域拍摄的各个光学图像中的图形的尺寸之间的第一位移量来生成整个检查对象区域中的第一位移量图，相应的参考图像; 地图生成电路132，其通过使用通过对整个检查对象区域成像而获得的各个光学图像中的图形的尺寸和相应的参考图像中的图像的尺寸之间的第二位移量来生成整个检查对象区域中的第二位移量图; 以及确定电路156，其确定超过容许值的值是否包括在通过用第一位移量图和第二位置量图之间的第一差分图校正第二位移量图而获得的第三位移量图中定义的相应值中位移量图。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2012122773A Inspection apparatus and inspection method 有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2012122773A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：JP2010272014
申请日：2010-12-06
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： TSUCHIYA HIDEO , INOUE TAKAFUMI , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/8851 , G01N2021/95615 , G01N2021/95676
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device and an inspection method capable of efficiently performing defect determination processing, while estimating a defect on a mask and an influence degree of the defect to a wafer.SOLUTION: Transfer images are reviewed in the following order (1)-(3): (1) a case where a defect degree determined with a first comparator is a third threshold value or greater, and where an error ratio, determined with a second comparator, of a line width or an inter-line distance of a defect corresponding to the defect is a fourth threshold value or greater, (2) a case where the defect degree determined with the first comparator is less than the third threshold value, and where the error ratio, determined with the second comparator, of the line width or the inter-line distance of a defect corresponding to the defect is the fourth threshold value or greater, (3) a case where the defect degree determined with the first comparator is the third threshold value or greater, and where the error ratio, determined with the second comparator, of the line width or the inter-line distance of a defect corresponding to the defect is less than the fourth threshold value.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在将掩模缺陷和缺陷的影响程度估计到晶片的同时有效地进行缺陷确定处理的检查装置和检查方法。解决方案：传送图像按照以下顺序进行检查（1） - （3）：（1）由第一比较器确定的缺陷度为第三阈值或更大的情况，其中确定的误差比与缺陷相对应的缺陷的线宽或线间距离的第二比较器是第四阈值或更大，（2）由第一比较器确定的缺陷度小于第三阈值的情况值，以及与第二比较器确定的与缺陷相对应的缺陷的线宽度或行间距离的误差率为第四阈值以上的情况，（3）由第一比较器是第三阈值或更大，并且其中由第二比较器确定的与缺陷相对应的缺陷的线宽或行间距离的误差比小于第四阈值。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2011039012A Inspection device 有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2011039012A
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：JP2009189605
申请日：2009-08-18
申请人： Nec Corp , Nuflare Technology Inc , Toshiba Corp , 日本電気株式会社 , 株式会社ニューフレアテクノロジー , 株式会社東芝
发明人： TSUCHIYA HIDEO , OZAKI FUMIO
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G03F1/84 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device that facilitates flaw decision processing and capable of performing the flaw decision processing in connection with a simulator high in general-purpose properties. SOLUTION: After the data of a lithography simulator is set on the operation setting surface of a control calculator 110 to perform the calculation of the inspection device 100, the whole surface of a photomask 101 is inspected. The coordinates of a place set as a flaw by inspection are converted to an XML file. When an inspection mode is a die-to-database, the pattern data of a database used in the formation of reference data in the inspection device 100 is read by the control calculator 110 to be converted to OASIS format data high in general-purpose properties. The optical image imaged by the inspection device 100 is converted to a bitmap. These data are transferred to the lithography simulator along with the image data used in the calibration of the inspection device 100 or the operation condition of simulation. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种有助于缺陷判定处理并且能够执行与通用性高的模拟器相关的缺陷判定处理的检查装置。解决方案：在将光刻模拟器的数据设置在控制计算器110的操作设置表面上以执行检查装置100的计算之后，检查光掩模101的整个表面。通过检查设置为缺陷的地点的坐标将转换为XML文件。当检查模式是模数到数据库时，由检测装置100中形成参考数据所使用的数据库的模式数据由控制计算器110读取，以被转换为高通用属性的OASIS格式数据。由检查装置100成像的光学图像被转换为位图。将这些数据连同在检查装置100的校准中使用的图像数据或模拟的操作条件一起传送到光刻模拟器。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2009229230A Pattern inspection device and pattern inspection method 有权
标题翻译：模式检验装置和模式检验方法
公开(公告)号：JP2009229230A
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：JP2008074496
申请日：2008-03-21
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , TSUCHIYA HIDEO
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/24 , G03F1/84 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device capable of altering a determination threshold value when inspection performed according to the use or kind of a film in a multistage fashion.
SOLUTION: The pattern inspection device 100 includes an optical image acquisition part 150 for acquiring the optical image data of a photomask 101 having the pattern formed thereto, a reference circuit 112 which inputs planning pattern data serving as the base of the formation of the pattern of the photomask 101 to form reference image data, a developing circuit 140 which inputs the region data including the pattern of at least a part defined by the planning pattern data and the importance degree data of the pattern and forms the region image data having a pixel value shown by the resolving power of a multivalue based on the importance degree data using the region data, and a comparison circuit 108 for performing the flaw determination of the optical image data and reference image data with the region showing the region image data using one of a plurality of threshold values defined by the pixel values of the respective pixels of the region image data or a plurality of flaw determination processing methods.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够根据多层次的电影的使用或种类进行检查而改变判定阈值的装置。解决方案：图案检查装置100包括：光学图像获取部分150，用于获取具有形成于其上的图案的光掩模101的光学图像数据;参考电路112，其输入用作形成基底的规划图案数据光掩模101的图案以形成参考图像数据，显影电路140输入包括由规划图案数据定义的至少一部分的图案的区域数据和图案的重要程度数据，并形成具有基于使用区域数据的重要程度数据的多值分辨率所示的像素值，以及比较电路108，用于使用表示区域图像数据的区域来执行光学图像数据和参考图像数据的缺陷确定由区域图像数据的各个像素的像素值定义的多个阈值中的一个或多个缺陷确定处理方法。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2014232071A パターン検査方法及びパターン検査装置审中-公开
标题翻译：模式检验方法和图案检测装置
公开(公告)号：JP2014232071A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：JP2013113862
申请日：2013-05-30
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： YABE MAKOTO , ISOBE MANABU , TSUCHIYA HIDEO , AKIYAMA HIROAKI , INOUE TAKAFUMI
IPC分类号： G01N21/956
摘要：【目的】欠陥数の不要な増加を抑制することが可能な検査方法を提供する。【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、光学画像と設計画像とを用いて、画素毎に、所定のアルゴリズムによる欠陥判定用の反応値を演算する工程と、各画素の反応値をマップ値とする、反応値マップを作成する工程と、反応値マップを用いて、欠陥候補を識別する欠陥候補閾値以上の一群の複数の反応値が定義される欠陥候補領域における反応値のピーク位置を特定する工程と、異なる複数の判定閾値のいずれかに対応する複数の感度領域が定義された感度領域情報を入力して、複数の感度領域の中から欠陥候補領域におけるピーク位置が属する感度領域に対応する判定閾値を用いて、欠陥候補領域の各反応値について欠陥判定を行う工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制缺陷数量不期望的增加的检查方法。解决方案：根据本发明实施例的图案检查方法包括以下步骤：使用光学图像和设计图像通过每个像素的规定算法计算缺陷确定的反应值; 产生具有每个像素的反应值作为映射值的反应值图; 指定在缺陷候选区域中反应值的峰值位置，其中使用反应图来确定等于或大于缺陷候选阈值的多个反应值的组以识别缺陷候选; 以及使用与所述峰值位置所属的所述灵敏度区域对应于来自所述多个不同确定阈值的所述缺陷候选区域的所述灵敏度区域的确定阈值，并且输入与所述多个不同确定阈值中的任何一个不同的确定阈值相对应的多个灵敏度区域的灵敏度区域信息的灵敏度区域，以对缺陷候选区域的每个反应值执行缺陷确定。

9. 发明专利

JP2011221499A Defect estimation device, defect estimation method, inspection device, and inspection method 有权
标题翻译：缺陷估计装置，缺陷估计方法，检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2011221499A
公开(公告)日：2011-11-04
申请号：JP2011017294
申请日：2011-01-28
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： ABE TAKAYUKI , TSUCHIYA HIDEO
IPC分类号： G01N21/956 , G01N23/225 , G03F1/84
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/52 , G06T7/0002 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect estimation device and a defect estimation method for estimating a defect on a mask, the influence of the defect on a wafer and the degree of improvement by repair, and to provide an inspection device and an inspection method for facilitating a defect determination processing and for estimating a defect on a mask and the resultant influence on a wafer image.SOLUTION: The acquired mask data of the defect portion of mask inspection results 205 is sent to a simulated repair circuit 300 to be simulatedly repaired. The acquired mask data simulatedly repaired is returned to the mask inspection results 205 again and thereafter sent to a wafer transfer simulator 400 along with a reference image at the corresponding portion. Wafer transfer images estimated by the wafer transfer simulator 400 are sent to a comparing circuit 301 and, when it is determined that there is a defect, the coordinate and the wafer transfer image as a basis for the defect determination are stored as transfer image inspection results 206. The mask inspection results 205 and the transfer image inspection result 206 are sent to a review device 500.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于估计掩模上的缺陷的缺陷估计装置和缺陷估计方法，缺陷对晶片的影响以及通过修理改进的程度，并且提供检查装置和用于促进缺陷确定处理和估计掩模上的缺陷以及对晶片图像的所得影响的检查方法。解决方案：将获取的掩模检查结果205的缺陷部分的掩模数据发送到模拟修复电路300以进行模拟修复。模拟修复的获取的掩模数据再次返回到掩模检查结果205，然后与相应部分的参考图像一起发送到晶片传送模拟器400。由晶片转移模拟器400估计的晶片转印图像被发送到比较电路301，并且当确定存在缺陷时，作为缺陷确定的基础的坐标和晶片转印图像被存储为转印图像检查结果掩模检查结果205和传送图像检查结果206被发送到审阅设备500.版权所有（C）2012，JPO和INPIT

10. 发明专利

JP2014211417A パターン検査装置及びパターン検査方法审中-公开
标题翻译：模式检验装置和模式检验方法
公开(公告)号：JP2014211417A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2013089308
申请日：2013-04-22
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： INOUE TAKAFUMI , TSUCHIYA HIDEO
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/10061 , G06T2207/20021 , G06T2207/30141
摘要：【目的】解像限界未満の微細パターンの検査と、解像が十分に可能なサイズのパターン欠陥の検査とが可能な検査装置を提供する。【構成】本発明の一態様のパターン検査装置は、同じパターンが形成された複数のダイが配置された被検査試料の複数のダイの光学画像を取得する光学画像取得部150と、解像されない非解像パターンが形成された非解像パターン領域を識別可能な非解像パターン領域情報を用いて、非解像パターン領域に位置する、ダイの光学画像を複数のサブ光学画像に分割するサブフレーム分割部64と、非解像パターン領域について、同じダイの光学画像から分割された複数のサブ光学画像同士を画素毎に比較するサブフレーム比較部66と、異なるダイの光学画像同士を画素毎に比較するフレーム比較部68と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够检查分辨率小于分辨率极限的精细图案的检查装置和具有能够被充分解决的尺寸的图案缺陷。解决方案：图案检查装置包括：光学图像获取部分 150，其获取其中布置有具有相同图案的多个模具的待检查样本的多个管芯的光学图像; 子帧划分部分64，通过使用非分辨率图案区域信息，将位于非分辨率图案区域中的管芯的光学图像分割成多个子光学图像，该非分辨率图案区域信息能够区分具有未分辨的非分辨率图案; 子帧比较部66，其将通过对于每个像素彼此划分相同的管芯的光学图像而获得的多个子光学图像进行比较; 以及帧比较部68，其对于每个像素将不同的管芯的光学图像彼此进行比较。

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