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1. 发明专利

JP2015049116A 検査装置および検査方法有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2015049116A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：JP2013180622
申请日：2013-08-30
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： TSUCHIYA HIDEO , ISOBE MANABU , AKIYAMA HIROAKI , YABE MAKOTO , INOUE TAKAFUMI
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/24 , H01L21/66
摘要：【課題】パターンの用途以外にも検査に適用可能な重要度情報を見出し、これを用いることで、不要な欠陥検出を低減できる検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】検査装置は、パターンの光学画像を得て、この光学画像を基準画像と比較し、これらの差異が、重要度情報を用いて決定された閾値を超えた場合に欠陥と判定する。重要度情報は、パターンを描画する描画装置に入力される描画データ、描画データまたは描画データの基になる設計データへのリサイズ処理、描画データまたは設計データへの補助パターンの付加、描画データに設定された描画装置の描画条件への補正処理、および描画装置のログのうちの少なくとも1つの情報である。また、重要度情報は、パターンの用途に関する情報を含むことが好ましい。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种检查装置和检查方法，该检查装置和检查方法可以发现适用于除应用图案之外的检查的重要性信息，以能够使用该信息来减少不必要的缺陷检测。解决方案：检查装置获取光学图像将光学图像与参考图像进行比较，并且当差异超过使用重要性信息确定的阈值时，确定它是有缺陷的。重要性信息是绘制输入绘图装置的图形数据的至少一个信息，绘制图形，调整处理以绘制数据或设计数据以作为绘图数据的基础，向绘图数据添加辅助图案或设计数据，对设定为绘图数据的绘图装置的绘图条件的校正处理以及绘图装置的对数。重要性信息优选地包括关于图案的应用的信息。

2. 发明专利

JP2014232071A パターン検査方法及びパターン検査装置审中-公开
标题翻译：模式检验方法和图案检测装置
公开(公告)号：JP2014232071A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：JP2013113862
申请日：2013-05-30
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： YABE MAKOTO , ISOBE MANABU , TSUCHIYA HIDEO , AKIYAMA HIROAKI , INOUE TAKAFUMI
IPC分类号： G01N21/956
摘要：【目的】欠陥数の不要な増加を抑制することが可能な検査方法を提供する。【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、光学画像と設計画像とを用いて、画素毎に、所定のアルゴリズムによる欠陥判定用の反応値を演算する工程と、各画素の反応値をマップ値とする、反応値マップを作成する工程と、反応値マップを用いて、欠陥候補を識別する欠陥候補閾値以上の一群の複数の反応値が定義される欠陥候補領域における反応値のピーク位置を特定する工程と、異なる複数の判定閾値のいずれかに対応する複数の感度領域が定義された感度領域情報を入力して、複数の感度領域の中から欠陥候補領域におけるピーク位置が属する感度領域に対応する判定閾値を用いて、欠陥候補領域の各反応値について欠陥判定を行う工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制缺陷数量不期望的增加的检查方法。解决方案：根据本发明实施例的图案检查方法包括以下步骤：使用光学图像和设计图像通过每个像素的规定算法计算缺陷确定的反应值; 产生具有每个像素的反应值作为映射值的反应值图; 指定在缺陷候选区域中反应值的峰值位置，其中使用反应图来确定等于或大于缺陷候选阈值的多个反应值的组以识别缺陷候选; 以及使用与所述峰值位置所属的所述灵敏度区域对应于来自所述多个不同确定阈值的所述缺陷候选区域的所述灵敏度区域的确定阈值，并且输入与所述多个不同确定阈值中的任何一个不同的确定阈值相对应的多个灵敏度区域的灵敏度区域信息的灵敏度区域，以对缺陷候选区域的每个反应值执行缺陷确定。

3. 发明专利

JP2014181966A Inspection method and inspection apparatus 有权
标题翻译：检验方法和检验装置
公开(公告)号：JP2014181966A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2013055500
申请日：2013-03-18
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： TSUCHIYA HIDEO , ISOBE MANABU , AKIYAMA HIROAKI , YABE MAKOTO , INOUE TAKAFUMI , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/02 , G01B11/30 , G06T1/00
CPC分类号： G06T7/0006 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G03F1/84 , G03F7/7065 , G06K9/6215 , G06T7/0008 , G06T7/001 , G06T7/74 , G06T2200/24 , G06T2207/30108 , G06T2207/30148 , G06T2207/30168
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection method and an inspection apparatus capable of reducing unnecessary defect detection while detecting a defect to be originally detected.SOLUTION: As to a portion determined as a defect by comparison based on a die-to-database system, when dimensional distribution from the portion concerned up to a portion on which a dimensional difference is found out just near the portion concerned is included with a predetermined range by comparing the dimensional distribution with dimentional distribution in a stripe including the portion determined as the defect or dimensional distribution of a chip pattern estimated from a stripe in which a dimensional difference is acquired before the former stripe, a result based on the die-to-database system is stored, and when the dimensional distribution exceeds the predetermined range, a result based on a cell system is stored instead of the result based on the die-to-database system.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在检测到原来检测到的缺陷的同时减少不必要的缺陷检测的检查方法和检查装置。解决方案：关于基于数据库系统的比较确定为缺陷的部分当通过将包含被确定为缺陷的部分的条纹中的尺寸分布与尺寸分布进行比较，将相关部分的尺寸分布直到发现刚好靠近所述部分的尺寸差异的部分包含在预定范围内时，从前条之前获取尺寸差的条纹估计的芯片图案的尺寸分布，存储基于数据库系统的结果，并且当尺寸分布超过预定范围时，基于存储单元系统而不是基于数据库系统的结果。

4. 发明专利

JP2014137289A Inspection method 有权
标题翻译：检查方法
公开(公告)号：JP2014137289A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013006162
申请日：2013-01-17
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： ISOBE MANABU , TSUCHIYA HIDEO , AKIYAMA HIROAKI , YABE MAKOTO , INOUE TAKAFUMI
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/00 , G01B11/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection method capable of accurately aligning an optical image with a reference image.SOLUTION: It is determined whether or not alignment start positions of previously aligned frames are stored (S201). When there is a possibility of pitch displacement between an optical image and a reference image, the stored alignment start positions are used as an alignment start positions of frames to be aligned subsequently (S204). When the alignment start positions are not stored, or when the alignment start positions are stored and there is no possibility of pitch displacement between the optical image and the reference image, the alignment start positions are reset (S205). Then, the optical image and the reference image are aligned within a predetermined range from the alignment start positions, an amount of displacement between both the images at positions where the images match best is obtained, and positions offset by the amount of displacement from the alignment start positions are stored as new alignment start positions (S209).
摘要翻译：要解决的问题：提供能够将光学图像与参考图像精确对准的检查方法。解决方案：确定是否存储先前对齐的帧的对准开始位置（S201）。当在光学图像和参考图像之间存在俯仰位移的可能性时，将存储的对准开始位置用作随后对准的帧的对准开始位置（S204）。当没有存储对准开始位置时，或者当对准开始位置被存储并且光学图像与参考图像之间不存在间距偏移的可能性时，对准开始位置被复位（S205）。然后，光学图像和参考图像在对准开始位置的预定范围内对准，获得图像匹配最佳的位置处的两个图像之间的位移量，以及偏移距离对准位移量的位置开始位置被存储为新的对准开始位置（S209）。

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