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    • 2. 发明专利
    • 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、プリント配線板、電子機器及びプリント配線板を製造する方法
    • 表面处理铜箔和层板使用相同的印刷电路板,制造电子器件的方法和所述印刷电路板
    • JPWO2013176133A1
    • 2016-01-14
    • JP2014516806
    • 2013-05-21
    • Jx日鉱日石金属株式会社Jx日鉱日石金属株式会社
    • 新井 英太英太 新井敦史 三木敦史 三木康修 新井康修 新井嘉一郎 中室嘉一郎 中室
    • C25D7/06B21B1/40C25D1/04H05K1/09
    • H05K3/384C25D1/04H05K1/09H05K2201/0108H05K2201/0154
    • 樹脂と良好に接着し、且つ、銅箔をエッチングで除去した後の樹脂の透明性に優れた表面処理銅箔及びそれを用いた積層板を提供する。表面処理銅箔は、粗化処理表面側から厚さ50μmのポリイミド(銅箔に張り合わせ前の下記ΔB(PI)が20以上33以下)基板の両面に貼り合わせた後、エッチングで両面の銅箔を除去し、露出したポリイミド基板の下に敷いたライン状のマークを印刷した印刷物を、前記ポリイミド基板越しにCCDカメラで撮影した画像について、観察されたライン状のマークが伸びる方向と垂直な方向に沿って観察地点ごとの明度を測定した、観察地点−明度グラフにおいて、マークの端部からマークが描かれていない部分にかけて生じる明度曲線のトップ平均値Btとボトム平均値Bbとの差ΔBが20以上、ΔB/ΔB(PI)が0.7以上、Btを基準に0.4ΔB〜0.6ΔBの深さ範囲における明度曲線の傾きが65?以上87?以下となる。
    • 与树脂良好的粘附性,并提供一种表面处理铜箔和使用该树脂的相同优异的透明性,通过蚀刻除去铜箔的层压板之后。 表面处理铜箔,通过蚀刻键合到基板的两面,铜箔的两面(结合的20或更多33或更小的铜箔(PI)之前下面ΔB)从粗糙表面侧的聚酰亚胺的厚度为50μm后 去除的印刷物印刷有衬里的暴露的聚酰亚胺基板下方的线形标记,其中在通过CCD照相机拍摄的图像的聚酰亚胺基板,垂直于该方向的方向上所观察到的条纹状痕迹延伸 测量沿所述观察点每个观测点的亮度 - 在亮度曲线图中,发生在所述部分中的顶级平均Bt基因的差异ΔB和亮度曲线的底部平均了Bb未标记由标记的端引出 20上方,ΔB/ΔB为0.7以上(PI),亮度曲线的在0.4ΔB的深度范围中的斜率〜基于转Bt0.6ΔB变为65?或87或更小。