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1. 发明专利

JP6352743B2 帯電処理装置及び帯電処理方法有权
公开(公告)号：JP6352743B2
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：JP2014186555
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H05F3/06 , H05F3/02 , C23C14/02
CPC分类号： B01J19/08 , C23C14/02 , H01J37/32

2. 发明专利

JP2016056441A 帯電処理装置及び帯電処理方法有权
标题翻译：充电加工设备和充电加工方法
公开(公告)号：JP2016056441A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014186555
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H05F3/06 , H05F3/02 , C23C14/02
CPC分类号： B01J19/08 , C23C14/02 , H01J37/32
摘要：【課題】処理対象物を所望の電位に帯電させ得る効果が極めて高い帯電処理装置及び帯電処理方法を提供すること。【解決手段】帯電処理装置C1は、処理対象物POを所望の電位に帯電させる。帯電処理装置C1は、電子を発生させる電子発生源(カソード6)を収容する電子源部3と、電子源部3と連通し、かつ、荷電粒子形成用ガスを含む所定の圧力雰囲気下で処理対象物POを包囲する処理部20と、を有する筐体部1と、電子源部3と処理部20とを仕切るように電子源部3と処理部20との間に配置されているメッシュ状の電極部40と、を備えている。電子源部3内には、電子発生源5にて発生した電子を電極部40に向けて加速させる加速電界が形成される。処理部20及び電極部40の電位が、上記所望の電位とされる。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种充电处理装置和充电处理方法，使得对处理对象的充电对期望电位的影响非常高。解决方案：充电处理装置C1将处理对象PO充电到期望的电位。充电处理装置C1还包括：壳体部分1，其具有容纳产生电子的电子发生源（阴极6）的电子源部分3和与电子源部分3连通并且围绕处理对象PO的处理部分20 包括用于带电粒子形成的气体的预定压力气氛; 以及布置在电子源部分3和处理部分20之间以分隔电子源部分3和处理部分20的网状电极部分40.在电子源部分3中，产生加速电场，加速电场部分由电子产生部分5产生的电子朝向电极部分40.处理部分20和处理部分40的电位是期望的电位。图4：

3. 发明专利

JP6343212B2 帯電処理装置有权
公开(公告)号：JP6343212B2
公开(公告)日：2018-06-13
申请号：JP2014186560
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： G21K5/04 , H01L21/677
CPC分类号： C23C14/02 , H01J37/32

4. 发明专利

JP2016058360A 電子源ユニット及び帯電処理ユニット有权
标题翻译：电子源单元和充电单元
公开(公告)号：JP2016058360A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014186565
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H01J37/073 , G21K1/00 , G21K5/04 , H01J37/06
CPC分类号： G21K1/00 , G21K5/04 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/20 , H05F3/04
摘要：【課題】処理対象物を所望の電位に帯電させ得る効果が極めて高い帯電処理装置を実現することが可能な電子源ユニットを提供すること。【解決手段】電子源ユニット3は、処理対象物POを所望の電位に帯電させる帯電処理装置に用いられ、処理対象物POが位置する処理空間に存在する荷電粒子形成用ガスの分子を励起させる電子を発生させる。電子源ユニット3は、電子を発生させる電子発生源5と、電子発生源5に電位を供給する電流導入端子13と、電子発生源5を収容する電子源筐体7と、電子源筐体7の外側空間と電子源筐体7内の電子発生源5が位置する空間とを仕切るように位置し、かつ、電子発生源5にて発生する電子が電子源筐体7の外側空間に向けて通過するメッシュ状の電極部11と、を備えている。電極部11は、上記所望の電位とされる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种电子源单元，其能够实现将处理对象充电到期望电位具有极高效果的充电装置。解决方案：电子源单元3用于对处理对象充电的充电装置 PO产生所需电位，并且产生用于激发存在于处理对象PO所处理的处理空间中的带电粒子形成气体的分子的电子。电子源单元3包括产生电子的电子产生源5，用于向电子产生源5提供电位的电流引入端子13，用于容纳电子产生源5的电子源壳体7和网状电极11 定位成分隔电子源壳体7的外部空间和电子源壳体7中电子发生源5所在的空间，并且电子发生源5中产生的电子通过该电子源壳体7中的电子朝向电子的外部空间源极壳体7.电极11具有上述所需的电位。选择的图示：图2

5. 发明专利

JP6649812B2 帯電処理装置及び電子源ユニット有权
公开(公告)号：JP6649812B2
公开(公告)日：2020-02-19
申请号：JP2016045502
申请日：2016-03-09
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/08 , H01J27/20 , H01J37/073 , H01J37/075

6. 发明专利

JP6346532B2 電子源ユニット及び帯電処理ユニット有权
公开(公告)号：JP6346532B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2014186565
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H01J37/073 , G21K1/00 , G21K5/04 , H01J37/06
CPC分类号： G21K1/00 , G21K5/04 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/20 , H05F3/04

7. 发明专利

JP2017162645A 帯電処理装置及び電子源ユニット审中-公开
公开(公告)号：JP2017162645A
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：JP2016045502
申请日：2016-03-09
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/08 , H01J27/20 , H01J37/073 , H01J37/075
摘要：【課題】処理対象物を所望の電位に帯電させ得る効果が極めて高い帯電処理装置を実現することが可能な電子源ユニットを提供する。【解決手段】電子源ユニット3は、電子を発生させる電子発生源5と、電子発生源5が収容される第一筐体H1と、第一筐体H1が接続されており、電子発生源5から電子が放出される内部空間を有している第二筐体H2と、所望の電位とされるメッシュ状の電極部11と、を備えている。電極部11は、第二筐体H2の外側空間と第二筐体H2の内部空間とを仕切るように位置している。第二筐体H2の内部空間に放出される電子が第二筐体H2の外側空間に向けて電極部11を通過する。第一筐体H1の延在方向D1と第二筐体H2の延在方向D2とが交差している。【選択図】図3

8. 发明专利

JP2016058702A 帯電処理装置有权
标题翻译：充电器
公开(公告)号：JP2016058702A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014186560
申请日：2014-09-12
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：松浦恵樹 , 石原良俊 , 渥美明
IPC分类号： G21K5/04 , H01L21/677
CPC分类号： C23C14/02 , H01J37/32
摘要：【課題】処理対象物を所望の電位に帯電させ得る効果が極めて高い帯電処理装置を提供すること。【解決手段】帯電処理装置C1は、処理対象物POを所望の電位に帯電させる。帯電処理装置C1は、荷電粒子形成用ガスを含む所定の圧力雰囲気下で処理対象物POを包囲する処理部1と、処理部1内に配置され、かつ、電子を発生させる電子発生源(光電子放出体7)を有する電子源部3と、電子源部3と処理対象物POとの間に配置されているメッシュ状の電極部30と、を備えている。電子源部3には、電子発生源にて発生した電子を電極部30に向けて加速させる加速電界が形成されている。処理部1及び電極部30の電位が、上記所望の電位とされる。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有极高效果的充电装置，用于对所处理的物体进行充电所需的电位。解决方案：充电装置C1对所处理的物体PO充电所需的电位。充电装置C1包括在包含带电粒子形成气体的预定压力气氛下围绕处理对象PO的处理部分1，设置在处理部分1中并具有产生电子的电子发生源（光电发射器7）的电子源3，布置在电子源3和加工对象PO之间的网状电极30。在电子源3中形成用于加速电子发生源中产生的电子朝向电极30的加速电场。处理部分1和电极30具有上述所需的电位。图4

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