基本信息:
- 专利标题： 帯電処理装置及び帯電処理方法
- 专利标题（英）：Charging processing device and charging processing method
- 专利标题（中）：充电加工设备和充电加工方法
- 申请号：JP2014186555 申请日：2014-09-12
- 公开(公告)号：JP2016056441A 公开(公告)日：2016-04-21
- 发明人： 松浦 恵樹 , 石原 良俊 , 渥美 明
- 申请人： 浜松ホトニクス株式会社
- 申请人地址： 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1
- 专利权人： 浜松ホトニクス株式会社
- 当前专利权人： 浜松ホトニクス株式会社
- 当前专利权人地址： 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1
- 代理人： 長谷川 芳樹; 黒木 義樹; 柴山 健一
- 主分类号： H05F3/06
- IPC分类号： H05F3/06 ; H05F3/02 ; C23C14/02
摘要：
【課題】処理対象物を所望の電位に帯電させ得る効果が極めて高い帯電処理装置及び帯電処理方法を提供すること。 【解決手段】帯電処理装置C1は、処理対象物POを所望の電位に帯電させる。帯電処理装置C1は、電子を発生させる電子発生源(カソード6)を収容する電子源部3と、電子源部3と連通し、かつ、荷電粒子形成用ガスを含む所定の圧力雰囲気下で処理対象物POを包囲する処理部20と、を有する筐体部1と、電子源部3と処理部20とを仕切るように電子源部3と処理部20との間に配置されているメッシュ状の電極部40と、を備えている。電子源部3内には、電子発生源5にて発生した電子を電極部40に向けて加速させる加速電界が形成される。処理部20及び電極部40の電位が、上記所望の電位とされる。 【選択図】図4
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种充电处理装置和充电处理方法，使得对处理对象的充电对期望电位的影响非常高。解决方案：充电处理装置C1将处理对象PO充电到期望的电位。 充电处理装置C1还包括：壳体部分1，其具有容纳产生电子的电子发生源（阴极6）的电子源部分3和与电子源部分3连通并且围绕处理对象PO的处理部分20 包括用于带电粒子形成的气体的预定压力气氛; 以及布置在电子源部分3和处理部分20之间以分隔电子源部分3和处理部分20的网状电极部分40.在电子源部分3中，产生加速电场，加速电场部分 由电子产生部分5产生的电子朝向电极部分40.处理部分20和处理部分40的电位是期望的电位。图4：
公开/授权文献:
- JP6352743B2 帯電処理装置及び帯電処理方法 公开/授权日：2018-07-04