专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明专利

JPWO2013084906A1 露光装置、及び構造の生産方法有权
标题翻译：曝光装置，以及所述结构的制备方法
公开(公告)号：JPWO2013084906A1
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013548255
申请日：2012-12-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：直也中井 , 直也中井 , 佳定江畠 , 佳定江畠
IPC分类号： H01L21/027 , G01B11/30 , G02B5/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408 , G02B27/60 , G03F7/7085 , G03H1/0402 , G03H1/0486 , G03H1/28 , G03H2001/0413
摘要：フォトレジストなどに干渉縞を露光して所望の凹凸形状を製作しようとするとき、干渉縞の周期を事前に知る必要がある。干渉縞の周期を事前に確認するためには、従来技術では、でき上がった凹凸形状に対して、顕微鏡で観察する、もしくは光を入射した際に回折する角度を計測し、所望の周期であることが確認されるまで、干渉縞を形成するための光束の入射角を微細に変えながら、露光、現像、観察(計測)の工程を繰り返す必要がある。このような作業には時間がかかる。つまり、従来技術では、干渉縞の確認に時間がかかるという点については配慮がなされていなかった。繰り返し使用可能な蛍光試料を有する標準試料によって、モアレを観察し、干渉縞の周期を調整することで、調整時間の短縮を行う。
摘要翻译：当试图通过将干涉图案如光致抗蚀剂，以制造期望的凹凸形状时，必须知道的干涉条纹的提前期。它以确认的干涉条纹的提前期，在现有技术中，相对于成品，显微镜，或衍射的角度下观察的不均匀当入射光被测量，所需周期在那里，直到确认，同时改变光束的入射角，以精细地形成干涉图案，曝光，显影，有必要重复观测（测量）的过程。这些工作需要时间。也就是说，在现有技术中，尚未作出考虑，它需要时间来确认干涉条纹的点。进行具有可重复使用的荧光样品，观察莫尔条纹，通过调整干涉条纹的周期的标准样品，以缩短调整时间。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式