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1. 发明专利

JPWO2020158337A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020158337A1
公开(公告)日：2021-11-25
申请号：JP2020000544
申请日：2020-01-10
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：上村稔 , 小島雅史 , 後藤研由 , 山本慶 , 川島敬史
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D317/72 , G03F7/004
摘要：本発明は、長期間保存をしたときの保存安定性に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に関する、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(I)で表される化合物と、酸分解性樹脂と、を含む。 M 1 + A − −L−B − M 2 + (I)

3. 发明专利

JPWO2020008734A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、樹脂有权
公开(公告)号：JPWO2020008734A1
公开(公告)日：2021-06-10
申请号：JP2019019333
申请日：2019-05-15
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：浅川大輔 , 後藤研由 , 小島雅史 , 川島敬史 , 大石康史 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/58 , C08F228/06 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：露光ラティチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。また、新規な樹脂を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含み、酸の作用により極性が増大する樹脂を含む。

4. 发明专利

JP6679721B2 ネガレジストパターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6679721B2
公开(公告)日：2020-04-15
申请号：JP2018525974
申请日：2017-05-31
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：浅川大輔 , 小島雅史 , 後藤研由 , 崎田享平
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/18 , G03F7/038

6. 发明专利

JP6134619B2 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6134619B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2013190735
申请日：2013-09-13
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：榎本雄一郎 , 上羽亮介 , 白川三千紘 , 古谷創 , 後藤研由 , 小島雅史
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/405 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0273

7. 发明专利

JP6007100B2 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜及びパターン形成方法有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物中，光化射线敏感或辐射敏感膜和图案形成方法
公开(公告)号：JP6007100B2
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：JP2012284642
申请日：2012-12-27
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：川端健志 , 滝沢裕雄 , 渋谷明規 , 後藤研由 , 小島雅史 , 加藤啓太
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C311/48 , C07C317/44 , C07C25/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/29 , C07C311/48 , C07C317/04 , C07C381/12 , C07D217/06 , C07D295/185 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D333/48 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J17/00 , C07J31/006 , C07J9/005 , G03F7/20 , C07C2101/14 , C07C2103/74 , G03F7/038 , G03F7/039

8. 发明专利

JP2015127796A パターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス有权
标题翻译：图案形成方法及其使用的表面处理剂，以及制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2015127796A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2014232526
申请日：2014-11-17
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：榎本雄一郎 , 上羽亮介 , 白川三千紘 , 古谷創 , 後藤研由 , 小島雅史
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , H01L21/0273
摘要：【課題】多重現像時のパターン残存性に優れたパターンを優れたラフネス性能で形成できるパターン形成方法及び表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】(1)酸により分解して極性基を生じる樹脂を含有する第一の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、(2)第一の感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、(3)有機溶剤含有現像液を用いて第一の感活性光線性又は感放射線性膜を現像し、第一現像パターンを得る工程、(4)第一現像パターンに対して、露光後の樹脂が有する極性基と相互作用する化合物を含有する表面処理剤を作用させる工程、(5)アルカリ現像液を用いて第一現像パターンを更に現像し、第二現像パターンを得る工程、をこの順に含むパターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成在多次显影时具有优异的粗糙度性能的图案残留性能优异的图案形成方法和表面处理剂，以及电子装置和电子装置的制造方法解决方案：提供一种图案形成方法，其顺序包括：（1）形成含有树脂的第一种有源射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物的活性射线敏感或辐射敏感膜的方法，被酸分解以产生极性基团，（2）暴露第一活性射线敏感或辐射敏感膜的方法，（3）通过使用第一活性射线敏感或辐射敏感膜显影的方法含有有机溶剂的显影液以获得第一显影图案，（4）制备含有与极性基团相互作用的化合物的表面处理剂的方法，曝光的树脂作用于第一显影图案，（5）通过使用碱显影液进一步显影第一显影图案以获得第二显影图案的工艺。还提供了一种用于其的表面处理剂，以及一种用于制造电子设备和电子设备的方法。

9. 发明专利

JP2015114556A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス有权
标题翻译：主动感光或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子设备的方法和电子设备
公开(公告)号：JP2015114556A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：JP2013257496
申请日：2013-12-12
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：小島雅史 , 後藤研由 , 渋谷明規 , 加藤啓太 , 山本慶
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/32 , C08F20/18 , H01L21/027 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：【課題】フォーカス余裕度(DOF)に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】一般式(X)で表される部分構造を有する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供聚焦深度（DOF）优异的有源光敏或辐射敏感性树脂组合物，使用该组合物的图案形成方法，电子设备的制造方法和电子设备。解决方案：活性光敏性或辐射敏感性树脂组合物含有：具有由通式（X）表示的部分结构的树脂（P）; 以及当用活性光或辐射照射时产生酸的化合物。

10. 发明专利

JPWO2020044771A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020044771A1
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：JP2019026029
申请日：2019-07-01
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：小島雅史 , 上村稔 , 川島敬史 , 後藤研由 , 山本慶 , 丸茂和博 , 王惠瑜
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C09K3/00 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要： LWR性能に優れるパターンを得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に関する、レジスト膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(I)で表される酸であって、pKaが−1.00以上である酸を発生する光酸発生剤Aと、光酸発生剤Aから発生する酸よりもpKaが1.00以上大きい酸を発生する光酸発生剤B、及び、共役酸のpKaが光酸発生剤Aから発生する酸よりも1.00以上大きい含窒素化合物Cからなる群から選択される1種以上と、酸分解性樹脂と、を含み、pKaが−1.00未満である酸を発生する光酸発生剤Dを含む場合、光酸発生剤Dの含有モル数に対する、光酸発生剤Aの含有モル数の比が、1.0以上である。

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