基本信息:
- 专利标题： 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
- 专利标题（英）：JP6307309B2 - The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a pattern forming method, manufacturing method, and electronic device of the electronic device
- 申请号：JP2014045602 申请日：2014-03-07
- 公开(公告)号：JP6307309B2 公开(公告)日：2018-04-04
- 发明人： 後藤 研由 , 小島 雅史 , 白川 三千紘 , 加藤 啓太
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 渡辺 望稔; 三和 晴子; 伊東 秀明; 三橋 史生
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038 ; C08F220/28 ; G03F7/039
公开/授权文献:
- JP2015169841A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス 公开/授权日：2015-09-28