基本信息:
- 专利标题: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス
- 专利标题(英):Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device
- 专利标题(中):主动感光或辐射敏感性树脂组合物,图案形成方法,制造电子设备的方法和电子设备
- 申请号:JP2013257496 申请日:2013-12-12
- 公开(公告)号:JP2015114556A 公开(公告)日:2015-06-22
- 发明人: 小島 雅史 , 後藤 研由 , 渋谷 明規 , 加藤 啓太 , 山本 慶
- 申请人: 富士フイルム株式会社
- 申请人地址: 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人: 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人: 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人: 渡辺 望稔; 三和 晴子; 伊東 秀明; 三橋 史生
- 主分类号: G03F7/039
- IPC分类号: G03F7/039 ; G03F7/32 ; C08F20/18 ; H01L21/027 ; G03F7/038
摘要:
【課題】フォーカス余裕度(DOF)に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。 【解決手段】一般式(X)で表される部分構造を有する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
摘要(中):
要解决的问题:提供聚焦深度(DOF)优异的有源光敏或辐射敏感性树脂组合物,使用该组合物的图案形成方法,电子设备的制造方法和电子设备。解决方案: 活性光敏性或辐射敏感性树脂组合物含有:具有由通式(X)表示的部分结构的树脂(P); 以及当用活性光或辐射照射时产生酸的化合物。
公开/授权文献:
- JP6223807B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス 公开/授权日:2017-11-01