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1. 发明专利

JP6340304B2 パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6340304B2
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：JP2014232526
申请日：2014-11-17
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：榎本雄一郎 , 上羽亮介 , 白川三千紘 , 古谷創 , 後藤研由 , 小島雅史
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , H01L21/0273

2. 发明专利

JP5990367B2 パターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP5990367B2
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：JP2011135777
申请日：2011-06-17
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：上羽亮介
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： H05K3/0023 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/203 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466 , H01L21/0274 , Y10T428/24273

3. 发明专利

JP5948187B2 パターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：的图案形成方法，以及，一种用于制造使用其的电子装置的方法
公开(公告)号：JP5948187B2
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：JP2012190184
申请日：2012-08-30
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山中司 , 井口直也 , 上羽亮介 , 山本慶
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/2022 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466

4. 发明专利

JP2015125321A パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び水系現像液审中-公开
标题翻译：图案形成方法，制造电子器件的方法，电子器件和水溶液开发方法
公开(公告)号：JP2015125321A
公开(公告)日：2015-07-06
申请号：JP2013270272
申请日：2013-12-26
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：榎本雄一郎 , 上羽亮介 , 白川三千紘 , 古谷創 , 後藤研由 , 小島雅史
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027 , C08F20/18 , G03F7/30 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/40 , G03F7/405
摘要：【課題】LWRが改善されたパターンを形成することが可能なパターン形成方法、この方法において用いられる水系現像液、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。また、アルカリ現像プロセス及び有機溶剤現像プロセスによる二重現像プロセスを含むパターン形成において、パターン残存性が良好で且つLWRが改善されたパターンを形成することが可能なパターン形成方法、この方法において用いられる水系現像液、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】酸の作用により分解して酸性官能基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、塩基性官能基を2つ以上有する塩基性化合物を含む水系現像液を用いて、露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像するアルカリ現像工程、を含むパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成具有改进的LWR的图案的图案形成方法，用于图案形成方法的水性显影液，电子装置的制造方法和电子装置; 并且还提供一种图案形成方法，其能够形成具有良好的图案残留特性的图案和在包括碱显影处理和有机溶剂显影处理的双重显影处理的图案形成中的改进的LWR，在图案形成方法，电子设备的制造方法和电子设备。解决方案：图案形成包括：通过使用主动射线敏感或辐射敏感树脂形成活性射线敏感或辐射敏感膜的过程含有通过酸的作用分解以产生酸性官能团的树脂的组合物; 暴露活性射线敏感或辐射敏感膜的过程; 以及通过使用含有具有两个或更多个碱性官能团的碱性化合物的含水显影液来显影曝光的活性射线敏感或辐射敏感膜的碱性显影方法。

5. 发明专利

JP5965733B2 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：图案形成方法，和用于制造电子器件的方法
公开(公告)号：JP5965733B2
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：JP2012133229
申请日：2012-06-12
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：山本慶 , 上羽亮介
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/405

6. 发明专利

JP5899082B2 パターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP5899082B2
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：JP2012176075
申请日：2012-08-08
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：杉山真一 , 山中司 , 上羽亮介 , 百田淳
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , G03F7/40

7. 发明专利

JP2015169674A パターン形成方法、エッチング方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，蚀刻方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2015169674A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014041981
申请日：2014-03-04
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：上羽亮介 , 井口直也 , 山中司
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/325
摘要：【課題】2つ以上の異なるパターンが異なる領域にレイアウトされたパターンを容易に形成できるパターン形成方法、及び、これを用いたエッチング方法、並びに、これを含む電子デバイスの製造方法、及び、この製造方法により製造された電子デバイスの提供。【解決手段】2つ以上の異なるパターンが異なる領域にレイアウトされたパターンを形成する、パターン形成方法であって、基板上の第1の領域に、第1のネガ型パターンを形成する工程、及び、上記基板上の上記第1の領域とは異なる第2の領域に、上記第1のネガ型パターンとは異なる第2のネガ型パターンを形成する工程、を有するパターン形成方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以容易地形成具有不同区域中的两种或更多种不同图案的图案，使用上述方法的蚀刻方法，包括上述方法的电子设备的制造方法，以及通过制造方法制造的电子器件。提供了一种用于形成具有放置在不同区域中的两种或更多种不同图案的图案的图案形成方法，其包括以下步骤：在基板上的第一区域中形成第一负图案 ; 以及在与所述基板上的所述第一区域不同的第二区域中形成不同于所述第一负图案的第二负图案。

8. 发明专利

JP2015166848A パターン形成方法、エッチング方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス有权
标题翻译：图案形成方法，蚀刻方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2015166848A
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2014257489
申请日：2014-12-19
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：井口直也 , 山中司 , 丹呉直紘 , 白川三千紘 , 加藤啓太 , 上羽亮介
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , H01L21/027 , H01L21/3205 , H01L21/768 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/2053 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0271 , H01L21/31144
摘要：【課題】多段レジストパターンを形成可能なパターン形成方法、及び、これを用いたエッチング方法、並びに、これを含む電子デバイスの製造方法、及び、この製造方法により製造された電子デバイスを提供する。【解決手段】(i)基板上に、下記工程(i−1)、下記工程(i−2)及び下記工程(i−3)をこの順で行い、第1のネガ型パターンを形成する工程、 (i−1)基板上に、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(1)を用いて第1の膜を形成する工程 (i−2)第1の膜を露光する工程 (i−3)露光した第1の膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、第1のネガ型パターンを形成する工程 (iii)少なくとも第1のネガ型パターン上に、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(2)を用いて第2の膜を形成する工程、 (v)第2の膜を露光する工程、および、 (vi)露光した第2の膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、少なくとも第1のネガ型パターン上に第2のネガ型パターンを形成する工程、を有するパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供可以形成多层抗蚀剂图案的图案形成方法，使用上述方法的蚀刻方法，包括上述方法的电子设备的制造方法以及由该方法制造的电子设备制造方法。图案形成方法包括以下步骤：（i）通过执行步骤（i-1），步骤（i-2）和步骤（i-3），在衬底上形成第一负图案）; （iii）通过使用含有树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物（2）在至少第一阴性图案上形成第二膜，其与含有机溶剂的显影剂液体的溶解度随着其增加而降低其酸的作用的极性; （v）将第二膜曝光; 和（vi）用含有机溶剂的显影液显影出曝光的第二膜，以在至少第一负图案上形成第二负图形。步骤（i）中的步骤是：（i-1）通过使用含有树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物（1）在基材上形成第一膜，其中溶液与含有有机溶剂的酸性随其极性的增加而降低; （i-2）将第一膜曝光; 和（i-3）通过使用含有机溶剂的显影液形成第一阴图案来曝光第一膜。

9. 发明专利

JP2015132811A パターン形成方法、電子デバイスの製造方法有权
标题翻译：图案形成方法和电子装置的制造方法
公开(公告)号：JP2015132811A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2014231475
申请日：2014-11-14
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉留正洋 , 山中司 , 上羽亮介 , 中村貴之
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： H01L21/31138 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , H01L21/0271 , H01L21/0273 , H01L21/31133
摘要：【課題】欠陥が生じにくいパターン形成方法、電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、有機物を含むパターン1を形成する工程Aと、パターン1を覆う膜2を形成する工程Bと、膜2をクラスターイオンでエッチングして膜2の一部を除去し、パターン1の少なくとも一部を表出させる工程Cと、を含むパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供其中不太可能发生缺陷的图案形成方法以及电子装置的制造方法。解决方案：图案形成方法包括：用于形成图案（1）的步骤（A）其包括有机物质; 用于形成覆盖图案（1）的膜（2）的步骤（B）; 以及通过用簇离子蚀刻膜（2）去除一部分膜（2）来暴露图案（1）的至少一部分的步骤（C）。

10. 发明专利

JP2015082046A パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，制造电子装置的方法和电子装置
公开(公告)号：JP2015082046A
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013220541
申请日：2013-10-23
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：上羽亮介 , 榎本雄一郎 , 吉留正洋 , 白川三千紘 , 古谷創
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2024 , G03F7/203 , G03F7/2041 , G03F7/322
摘要：【課題】多種の模様のパターンを容易に形成可能なパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】(1)活性光線又は放射線照射により極性が増大する膜を形成する工程、(2)膜に対し、第1のパターン露光を行い、高感光部、中間感光部、及び、低感光部を形成する工程、(3)(i)第1のパターン露光がなされた膜の、高感光部を溶解可能な第1現像液、及び、(ii)前記膜の、低感光部を溶解可能な第2現像液の一方を用いて、膜を現像し、第1のパターンを形成する工程、(4)第1のパターンに対して、第1のパターン露光の光学像とは異なる第2のパターン露光を行う工程、及び、(5)第1現像液及び第2現像液の他方を用いて、第1のパターンを現像し、第2のパターンを形成する工程をこの順序で含むパターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法、並びに、これらにより製造される電子デバイス。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供可以容易地形成各种图案的图案形成方法，以及电子装置的制造方法和电子装置。解决方案：图案形成方法包括以下顺序的步骤：（1）通过用光化射线或辐射照射形成极性增加的膜; （2）对薄膜进行第一图案曝光以形成高曝光部分，中等曝光部分和低曝光部分; （3）通过使用（i）可以溶解膜的高曝光部分的第一显影剂和（ii）能够溶解膜的低曝光部分的第二显影剂中的一种来显影经受第一图案曝光的膜; 形成第一种模式; （4）用与第一图案曝光不同的光学图像对第一图案进行第二图案曝光; 和（5）通过使用第一显影剂和第二显影剂的另一显影剂来形成第一图案以形成第二图案。本发明还公开了一种使用上述图案形成方法制造电子装置的方法，以及通过该方法制造的电子装置。

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