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1. 发明专利

JP2017518509A 光線集束及び光線収束光学系有权
公开(公告)号：JP2017518509A
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2016576086
申请日：2015-01-20
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc. , ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc.
发明人：エム．リファード，マーチン , エム．リファード，マーチン , エス．ヘイル，ジェフリ , エス．ヘイル，ジェフリ , ホー，ピング , エル．ファイファー，ガレン , エル．ファイファー，ガレン
IPC分类号： G01J4/04 , G01N21/21 , G02B21/06
CPC分类号： G02B17/0621 , G01J1/0411 , G01J1/0414 , G01J4/00 , G01J4/04 , G01N21/21 , G02B19/0023 , G02B27/0012
摘要：【課題】入力ビームの偏光状態に与える効果を最小にする光線集束光学系。【解決手段】試料上に電磁放射線のビームを集束させる出力ビーム(OB)を生成するという実用性を持つ反射型集束光学系(RFO)であって(この光学系に入力される入力ビーム(IB)の伝播経路の方向とは異なる方向に集束させることも可能)、好ましくは、凸面(M3)と凹部(M4)の両方の鏡面を有し、関与する様々なミラー(M1), (M2), (M3), (M4)への入射角及び出射角の調節に基づく偏光の入力ビームの偏光状態に与える効果を最小にすることができる反射型集束光学系(RFO)。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2015503750A テラヘルツエリプソメーターシステム及びその使用方法有权
标题翻译：太赫兹椭偏仪系统和其使用方法
公开(公告)号：JP2015503750A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014550274
申请日：2012-04-06
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc. , ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc.
发明人：エム．ハージンガー，クレイグ , エム．ハージンガー，クレイグ
IPC分类号： G01N21/21 , G01J4/04 , G01N21/3581
CPC分类号： G01J4/00 , G01N21/211 , G01N21/3581
摘要：【課題】テラヘルツ周波数帯域で動作するエリプソメーターである。【解決手段】基本的で好ましいシステムであるこのエリプソメーターの実施例は、順次、後進波発振器(BWO);第1の回転可能なワイヤーグリッド偏光子(WGP1);第1の回転子(RE1)(回転型ワイヤーグリッド偏光子(RWGP));サンプル(S)を支持するためのステージ(STG);第2の回転子(RE2)(第1(RP)、第2(RM1)、第3(RM2)、そして第4(RM3)反射素子を備えて構成される回転型遅延子(RRET));第2の回転可能なワイヤーグリッド偏光子(WGP2);そしてゴーレイセル検出器(DET)を備えている。【選択図】図1
摘要翻译：本发明是一个椭偏仪在太赫兹频带中操作。 A是椭偏仪的一个基本的，优选的系统实施例是按顺序向后波振荡器（BWO）;第一可旋转线栅偏振器（WGP1）;所述第一转子（RE1）（旋转线栅偏振器（RWGP））;用于支撑（S）（STG）试样台;一第二转子（RE2）（1（RP），第二（RM1），第三（ RM2），以及4（RM3）可旋转的反射元件延迟器（RRET）），被配置;第二可旋转线栅偏振器（WGP2）;和包括格雷细胞检测器（DET）那里。点域1

4. 发明专利

JP2012533729A Terahertz infrared ellipsometer system and methods of use thereof 有权
公开(公告)号：JP2012533729A
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：JP2012517486
申请日：2010-06-18
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc. , ユニバーシティオブネブラスカボードオブリージェンツバーナーホール
发明人：エム．ハージンガー，クレイグ , エム．シューバート，マティアス , ホフマン，ティノ． , マーチンエム．リファード , ウーラム，ジョン，エイ．
IPC分类号： G01N21/21 , G01N21/35
CPC分类号： G01N21/3581 , G01N21/211 , G01N2021/213
摘要：本発明は、エリプソメーターシステムおよび偏光計システムに関し、より具体的には、３００GHz以下から少なくとも１テラヘルツ（THz）超に及ぶ、好ましくは１００THz超までの赤外線（ＩＲ）範囲にわたる周波数範囲で動作するエリプソメーターまたは偏光計または同様のシステムに関する。このシステムは、後進波発振器（ＢＷＯ）；スミスパーセル（Smith-Purcell）（ＳＰ）セル；自由電子レーザ（ＦＥ）、またはＦＴＩＲ光源などの光源、および固体デバイス；およびゴーレイ（Golay）セル（ＧＣ）；ボロメーター（ＢＯＬ）または固体検出器などの検出器を含み；および好ましくは少なくとも１つのオッドバウンス偏光状態像回転システム（ＯＢＩＲＳ）を含み、および任意選択で偏光子（Ｐ）、少なくとも１つの補償子（Ｃ）および／または変調器（ＭＯＤ）、ならびに検光子（Ａ）を含む。
【選択図】図２

5. 发明专利

JP2018532123A 大気圧下で溶媒分圧のシーケンスの関数として実効的多孔質性基板表面の光学特性の変化を調べるシステム及び方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018532123A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2018522519
申请日：2016-12-12
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッド , J.A.WOOLLAM CO.,INC. , ヴァン・ダースリス・ジェレミー・エイ , VAN DERSLISE,Jeremy,A. , ゴーデンクリストファーエイ , GOEDEN,Christopher,A. , リファードマーティンエム , LIPHARDT,Martin,M.
发明人：ヴァン・ダースリス・ジェレミー・エイ , ゴーデンクリストファーエイ , リファードマーティンエム
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N15/0826 , G01N15/088 , G01N21/211 , G01N2015/0846
摘要：大気圧下における実効的な表面深さ及び屈折率、細孔径、細孔容積及び細孔径分布に関連する実効的多孔質性基板表面の光学特性の変化を調べるシステム及び方法。【選択図】図1B

6. 发明专利

JP6029684B2 テラヘルツエリプソメーターシステム及びその使用方法有权
标题翻译：太赫兹椭偏仪系统和其使用方法
公开(公告)号：JP6029684B2
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2014550274
申请日：2012-04-06
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッド , J.A.WOOLLAM CO.,INC.
发明人：ハージンガー,クレイグエム.
IPC分类号： G01N21/3581 , G01J4/04 , G01N21/21
CPC分类号： G01J4/00 , G01N21/211 , G01N21/3581

7. 发明专利

JP2009543092A Rotatable compensation child spectroscopic ellipsometer system take the discrete polarization state, and calibration method 审中-公开
公开(公告)号：JP2009543092A
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：JP2009519418
申请日：2006-07-11
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc.
发明人：イー．グリーン，スティーブン , ディー．ジョーズ，ブレイン , エム．ハージンガー，クレイグ , ジェフリエス．ヘイル，
IPC分类号： G01J4/04 , G01J3/447 , G01N21/21 , G01N21/27
CPC分类号： G01N21/211 , G01N21/274 , G01N2021/213
摘要：分光エリプソメーター、及び分光リフレクトメーター／エリプソメーター複合システムを開示している。分光エリプソメーターシステム部分は、データ収集の期間中は、回転された位置に固定されたままである偏光子素子（Ｐ）及び検光子素子（Ａ）と、前記電磁放射線のビームに、連続的に変化するのではなく、複数のシーケンシャルで離散的な偏光状態をもたらすことができる、段階的に回転可能な補償子（ＤＳＰ）電磁ビーム透過手段とを含む。さらに、前記分光エリプソメーターシステムの数学的モデルを提供すること及び数学的回帰法手順の適用と併せて、複数のエリプソメトリック的に区別されるサンプルシステムそれぞれのために、複数のシーケンシャルなで離散的な電磁放射線ビームの偏光状態における分光分析データを収集することを含む、本発明の前記分光エリプソメーターシステム部分の作動手順を開示している。

9. 发明专利

JP2012141623A Retarder system 有权
标题翻译：延迟系统
公开(公告)号：JP2012141623A
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：JP2012032511
申请日：2012-02-17
申请人： J A Woollam Co Inc , ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc.
发明人： BLAINE D JOHS , STEVEN E GREEN , CRAIG M HERZINGER , MEYER DUANE E
IPC分类号： G02B5/30 , G01J4/04 , G01N21/21 , G02B5/04
CPC分类号： G02B5/3083 , G01J1/0407 , G01N21/211 , G01N2021/213 , G02B26/06
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a retarder system which has small wavelength dependence.SOLUTION: Two rhombohedral bodies in a parallelogram shape are placed in such fixed directions that an incident electromagnetic beam is totally reflected at least once inside each of the rhombohedral bodies, and a first surface RS1 and a third surface RS3, and a second surface RS2 and a fourth surface RS4 thereof are substantially parallel with each other. A beam of electromagnetic radiation made incident substantially perpendicular to the first surface of one of those rhombohedral bodies travels to be internally reflected by the fourth surface RS4 and the second surface RS2 of the one of those rhombohedral bodies, and then to be emitted from the third surface of the one of those rhombohedral bodies, the emission direction of the beam being substantially perpendicular to the first surface of the other of the rhombohedral bodies. Successively, the beam is internally reflected by the second surface and the fourth surface of the rhombohedral body in the parallelogram shape to be emitted from the third surface of the other of the rhombohedral bodies.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有小的波长依赖性的延迟器系统。解决方案：平行四边形形状的两个菱面体以这样的固定方向放置，入射的电磁束至少在每个菱面体内反射一次，第一表面RS1和第三表面RS3以及第二表面RS3 表面RS2及其第四表面RS4彼此基本平行。基本上垂直于那些菱面体之一的第一表面入射的电磁辐射射束被这些菱形体中的一个的第四表面RS4和第二表面RS2内部反射，然后从第三个这些菱面体之一的表面，光束的发射方向基本上垂直于另一个菱形体的第一表面。接着，光束被平行四边形形状的菱形体的第二表面和第四表面内部反射，以从另一个菱形体的第三表面发射。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2011524000A Rapid sample height, such as in mapping ellipsometer, aoi and poi alignment 审中-公开
公开(公告)号：JP2011524000A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：JP2011508458
申请日：2008-11-20
申请人：ジェイ・エイ・ウーラム・カンパニー・インコーポレイテッドJ.A.Woollam Co.,Inc.
发明人：ファイファー，ガレン，エル． , ヘ，ピン , ヘイル，ジェフリ，エス． , リファード，マーチン，エム．
IPC分类号： G01N21/21 , G01B11/02 , G01N21/27
CPC分类号： G01N21/211 , G01J4/00 , G01N2021/213
摘要： A sample investigation system (ES) in functional combination with an alignment systen (AS), and methodology of enabling very fast, (eg. seconds), sample height, angle-of-incidence and plane-of -incidence adjustments, with application in mapping ellipsometer or the like systems.

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