专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP4319188B2 Substrate transfer apparatus and a substrate transfer method, an exposure apparatus and an exposure method, a device manufacturing apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP4319188B2
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：JP2005514600
申请日：2004-10-07
申请人：株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人：貴史堀内 , 篤太田
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075

2. 发明专利

JPWO2005036621A1 基板搬送装置及び基板搬送方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2005036621A1
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：JP2005514600
申请日：2004-10-07
申请人：株式会社蔵王ニコン , 株式会社ニコン
发明人：篤太田 , 篤太田 , 貴史堀内 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075
摘要：投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、基板に付着した液体を検出する液体検出器を備えたことを特徴とする。投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送方法は、基板の搬送経路の途中で、基板に付着した液体を検出することを特徴とする。

3. 发明专利

JP2009094541A Substrate transporting apparatus and method, exposure method and apparatus, and device manufacturing method 有权
标题翻译：基板运输装置和方法，曝光方法和装置以及装置制造方法
公开(公告)号：JP2009094541A
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：JP2009013462
申请日：2009-01-23
申请人： Nikon Corp , Zao Nikon Co Ltd , 株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人： TANNO NOBUYOSHI , HORIUCHI TAKASHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70925 , H01L21/67051 , H01L21/68707
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transporting apparatus to transport a substrate having been exposed by immersion method, under desired condition favorably. SOLUTION: The substrate transporting apparatus transports the substrate having been exposed with an image of a pattern by way of a projection optical system and liquid. The substrate transporting apparatus includes a substrate supporting member to support the substrate, and liquid removing mechanism to remove liquid having adhered to at least either the substrate supporting member or at least a portion of the area of the rear surface of the substrate. The substrate supporting member supports the backside of the substrate. The liquid removing mechanism is mounted on the substrate supporting member. The liquid removing mechanism removes liquid having adhered to at least a portion of the area of the backside of the substrate before the substrate supporting member supports the backside of the substrate. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基板输送装置，在期望的条件下有利地输送通过浸渍法曝光的基板。解决方案：基板传送装置通过投影光学系统和液体传输已经用图案的图像曝光的基板。基板输送装置具备支撑基板的基板支承部件，以及液体移除机构，除去附着在基板支撑部件或基板背面的至少一部分区域的液体。衬底支撑构件支撑衬底的背面。液体移除机构安装在基板支撑构件上。液体去除机构在衬底支撑构件支撑衬底的背面之前去除粘附到衬底背面的区域的至少一部分的液体。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP4335213B2 Substrate transport apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP4335213B2
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：JP2005514618
申请日：2004-10-08
申请人：株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人：信義丹野 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/677 , B08B3/02 , B65G49/06 , B65G49/07 , G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/687
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70925 , H01L21/67051 , H01L21/68707

5. 发明专利

JPWO2005036623A1 基板搬送装置及び基板搬送方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2005036623A1
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：JP2005514618
申请日：2004-10-08
申请人：株式会社蔵王ニコン , 株式会社ニコン
发明人：信義丹野 , 信義丹野 , 貴史堀内 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/677 , B08B3/02 , B65G49/06 , B65G49/07 , G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/687
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70925 , H01L21/67051 , H01L21/68707
摘要：投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。

6. 发明专利

JP3681820B2 Surveying equipped with a battery pack 失效
公开(公告)号：JP3681820B2
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：JP15659696
申请日：1996-06-18
申请人：株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人：協司中村 , 誠高橋
IPC分类号： G01C15/00 , H01M2/10
CPC分类号： Y02E60/12

7. 发明专利

JP2009094542A Substrate conveying device and substrate conveying method, exposure device and exposure method, and device manufacturing apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：基板输送装置和底板输送方法，曝光装置和曝光方法以及装置制造装置和装置制造方法
公开(公告)号：JP2009094542A
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：JP2009013518
申请日：2009-01-23
申请人： Nikon Corp , Zao Nikon Co Ltd , 株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人： OTA ATSUSHI , HORIUCHI TAKASHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveying device capable of preventing device deterioration caused by liquid remained on a substrate subjected to immersion exposure. SOLUTION: The substrate conveying device conveys a substrate subjected to exposure by a pattern image through a projection optical system and liquid. The substrate conveying device is provided with a liquid detector capable of detecting liquid remained on the substrate, and the liquid detector detects remained liquid by comparing first information on a substrate surface before substrate exposure to second information on the substrate surface after substrate exposure. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止由浸渍曝光的基板上残留的液体引起的装置劣化的基板输送装置。解决方案：基板输送装置通过投影光学系统和液体传送通过图案图像曝光的基板。基板输送装置设置有能够检测残留在基板上的液体的液体检测器，并且液体检测器通过将基板曝光前的基板表面上的第一信息与基板曝光后的基板表面上的第二信息进行比较来检测残留液体。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JPWO2005036622A1 基板搬送装置、露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2005036622A1
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：JP2005514601
申请日：2004-10-07
申请人：株式会社蔵王ニコン , 株式会社ニコン
发明人：佐藤　圭 , 圭佐藤 , 貴史堀内 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/70341 , G03F7/7075
摘要：基板搬送装置は、投影光学系と液体を介した露光処理を行う露光処理部に対して、基板を搬入する第1搬送機構と、基板を露光処理部から搬出する第2搬送機構と、第1搬送機構と該第1搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方に対し、第2搬送機構と第2搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方からの液体の飛散を抑制する飛散抑制機構とを備える。

9. 发明专利

JP2005136364A Substrate carrying device, exposure device and device manufacturing method 审中-公开
标题翻译：基板承载装置，曝光装置及装置的制造方法
公开(公告)号：JP2005136364A
公开(公告)日：2005-05-26
申请号：JP2003416714
申请日：2003-12-15
申请人： Nikon Corp , Zao Nikon Co Ltd , 株式会社ニコン , 株式会社蔵王ニコン
发明人： SATO KEI , HORIUCHI TAKASHI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/677 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/70341 , G03F7/7075
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate carrying device capable of preventing the liquid from adhering to a substrate before an exposure processing based on an immersion method.
SOLUTION: The substrate carrying device H is provided with a first transporting mechanism H1 which transports a substrate P to an exposure processing section EX performing exposure processing through a projection optical system PL and liquid LQ, a second transporting mechanism H2 which transports the substrate P from the exposure processing section EX, and a scattering suppression mechanism 110 which suppresses scattering of liquid from at least either of the second transporting mechanism H2 or the substrate P transported by the second transporting mechanism H2 to at least either of the first transporting mechanism H1 or the substrate P transported by the first transporting mechanism H1.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在基于浸渍方法的曝光处理之前防止液体粘附到基板的基板承载装置。解决方案：基板承载装置H设置有第一输送机构H1，其通过投影光学系统PL和液体LQ将基板P输送到进行曝光处理的曝光处理部EX，第二输送机构H2，其输送来自曝光处理部EX的基板P以及散射抑制机构110，其抑制从第二输送机构H2输送的第二输送机构H2或基板P中的至少任一方的液体向第一输送机构 H1或由第一输送机构H1输送的基板P. 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式