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61. 发明专利

JP5924614B2 変調器及び該変調器を備える荷電粒子ビームシステム並びに荷電粒子ビームの変調方法有权
标题翻译：带电粒子束系统和带电粒子束的调制方法包括调制器和调制器
公开(公告)号：JP5924614B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2011231143
申请日：2011-10-03
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：テュヴィアビベル , エフィムケルネル
IPC分类号： H01J37/248 , H01J37/20 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/026 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/0044 , H01J2237/065 , H01J2237/083 , H01J2237/21

62. 发明专利

JP5815601B2 高スループットSEMツール有权
标题翻译：高通量SEM工具
公开(公告)号：JP5815601B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2013125732
申请日：2013-06-14
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：アルモジィ, ギラド , バートヴ, アヴィシャイ , フロシエン, ユルゲン , アダメク, パヴェル , バンツホフ, ヘルムト
IPC分类号： H01L21/66 , H01J37/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J2237/0635 , H01J2237/1508 , H01J2237/2449 , H01J2237/2817

63. 发明专利

JP5715610B2 パターン化サンプルを検査するための光学システム及び方法有权
标题翻译：光学系统和方法用于检查图案化样品
公开(公告)号：JP5715610B2
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2012232344
申请日：2012-10-02
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：ヨアフベルラツキ , イドコフレル , ドロンメシュラク , コビバルカン
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/4788 , G01N2021/8822

64. 发明专利

JP5709686B2 磁気ノイズを補償するためのシステム及び方法有权
标题翻译：系统和方法，用于补偿磁噪声
公开(公告)号：JP5709686B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2011167640
申请日：2011-07-12
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：コンスタンティンチルコ , アロンリットマン , ヨアフナチュム
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/147 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： G01R33/025 , H01J37/28 , H01J2237/0266 , H01J2237/2485

65. 发明专利

JP5465864B2 Apparatus and method enhance the voltage contrast of the wafer 有权
公开(公告)号：JP5465864B2
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：JP2008284303
申请日：2008-11-05
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：ティー．ブルロックユージーン
IPC分类号： H01J37/20 , G01N23/225 , H01J37/147 , H01L21/66
CPC分类号： G01R31/2831 , G01R31/307 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24485 , H01J2237/24564 , H01J2237/24592

66. 发明专利

JP2014508400A Method and system for coherence reduction 有权
公开(公告)号：JP2014508400A
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：JP2013548390
申请日：2011-01-06
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：シュムエルマンガン , ボリスゴルバーグ , ローマンヴァンダー , アミルモシェサギフ
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G02B27/48 , G03F1/84 , G03F7/20
摘要：コヒーレンス低減能力を有する光学系が、最初の光パルスを生成するための光源と、最初の光パルスを受光し、パルスシーケンス生成期間中に複数の光パルスを生成するように構成された非対称パルスストレッチャとを備え、この非対称パルスストレッチャは、ループを形成する複数の光学部品を含み、非対称パルスストレッチャとオブジェクトの間に、オブジェクト上の範囲の方に複数のパルスを導く集光レンズが位置する。複数の光学部品のうちの少なくとも２つの光学部品は、互いにほぼ対称的に位置し、複数のパルスのうちの少なくとも２つのパルス間に、コヒーレンスに関する差異をもたらす。パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えない。
【選択図】図１

67. 发明专利

JP2013232422A High throughput sem tool 有权
标题翻译：高通量扫描仪刀具
公开(公告)号：JP2013232422A
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：JP2013125732
申请日：2013-06-14
申请人： Applied Materials Israel Ltd , アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人： GILAD ALMOGY , AVISHAI BARTOV , JUERGEN FROSIEN , PAVEL ADAMEC , HELMUT BANZHOF
IPC分类号： H01J37/28 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J2237/0635 , H01J2237/1508 , H01J2237/2449 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-beam scanning type electron beam device.SOLUTION: A multi-beam scanning type electron beam device having a column comprises: a multi-beam emitter for emitting plural electron beams; at least one common electron beam optical element having a common aperture for at least two of the plural electron beams and constituted to commonly act on at least two of the plural electron beams; at least one individual electron beam optical element for individually acting on the plural electron beams; a common objective lens assembly for converging the plural electron beams having common magnetization for converging at least two of the plural electron beams, and constituted to converge the plural electron beams on a specimen for generating plural signal beams; and a detection assembly for individually detecting each signal beam on a corresponding detection element.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种多光束扫描型电子束装置。解决方案：具有列的多光束扫描型电子束装置包括：用于发射多个电子束的多光束发射器; 至少一个共用电子束光学元件具有用于所述多个电子束中的至少两个的公共孔，并且被构造成共同作用于所述多个电子束中的至少两个; 至少一个单独的电子束光学元件，用于单独地作用在所述多个电子束上; 用于会聚具有用于会聚多个电子束中的至少两个的共同磁化的多个电子束的公共物镜组件，并且被构造成将多个电子束会聚在用于产生多个信号光束的样本上; 以及检测组件，用于单独地检测相应的检测元件上的每个信号光束。

68. 发明专利

JP2013219001A Photo-detector device and method for biasing photomultiplier tube 有权
标题翻译：光电检测器装置和偏光管的方法
公开(公告)号：JP2013219001A
公开(公告)日：2013-10-24
申请号：JP2012180265
申请日：2012-07-30
申请人： Applied Materials Israel Ltd , アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人： MICHAEL HEIFETS , PAVEL MARGULIS
IPC分类号： H01J40/12
CPC分类号： G01J1/44 , G01J2001/4453 , H01J43/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photo-detector and a method for operating the same.SOLUTION: The photo-detector comprises: a photomultiplier tube comprising a plurality of electrodes, each having a photocathode, an anode, a first dynode, intermediate dynodes and a last dynode; and a biasing circuit that comprises a sequence of voltage follower elements, a voltage divider and a current source. The voltage divider is coupled to both ends of a high voltage power supply and different dynodes are coupled to different ones of the voltage follower elements, control inputs of the voltage follower elements being coupled to different junctions of the voltage divider. The current source is coupled to the voltage divider, to the sequence of the voltage follower elements and to the cathode. The anode is coupled to a load element coupled to a positive pole of the high voltage power supply and arranged to receive an output signal of the anode and convert it to an output signal of the photo-detector.
摘要翻译：要解决的问题：提供光电检测器及其操作方法。解决方案：光电检测器包括：光电倍增管，其包括多个电极，每个电极具有光电阴极，阳极，第一倍增电极，中间倍增电极和最后一个倍数以及偏置电路，其包括一系列电压从动元件，分压器和电流源。分压器耦合到高压电源的两端，并且不同的倍增电极耦合到不同的电压从动元件，电压从动元件的控制输入耦合到分压器的不同结。电流源耦合到分压器，连接到电压从动元件和阴极的序列。阳极耦合到耦合到高电压电源的正极的负载元件，并被布置成接收阳极的输出信号并将其转换成光电检测器的输出信号。

69. 发明专利

JP5308639B2 Methods and systems for defect detection 有权
公开(公告)号：JP5308639B2
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：JP2007201013
申请日：2007-08-01
申请人：アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人：シュメールマンガン， , ボリスゴールドバーグ， , イシャイシュワルツバンド， , オンハラン， , ミカエルベン‐イシャイ， , アミールサギブ， , チャイムブラウデ，
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/88 , G01N21/956 , H01L21/027
摘要： A system, method and computer readable medium for reticle evaluation, the method includes: (i) obtaining, during an imaging process, multiple images of the reticle under different polarization and optionally interferometric conditions; and (ii) generating an output aerial image in response to (i) the multiple images and (ii) differences between the imaging process and an exposure process; whereinduring the exposure process an image of the reticle is projected onto a wafer.

70. 发明专利

JP2013161485A System, method and computer program product for cad-based registration 有权
标题翻译：用于基于CAD的注册的系统，方法和计算机程序产品
公开(公告)号：JP2013161485A
公开(公告)日：2013-08-19
申请号：JP2013036386
申请日：2013-02-07
申请人： Applied Materials Israel Ltd , アプライドマテリアルズイスラエルリミテッド
发明人： ZVI GOREN , NIR BEN-DAVID
IPC分类号： G06T1/00 , G01N21/88 , G01N21/956
CPC分类号： G06T7/0008 , G01B11/14 , G01N21/9501 , G01N2201/10 , G01N2201/125 , G01N2201/127 , G06T7/32 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system, method and computer program product for CAD-based registration.SOLUTION: A system for location-based wafer analysis comprises (i) a first input interface, (ii) a second input interface, (iii) a correlator, and (iv) a processor, and is configured to generate inspection results for the inspected wafer, with the help of at least one frame run-time displacement.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于基于CAD的注册的系统，方法和计算机程序产品。解决方案：用于基于位置的晶片分析的系统包括（i）第一输入接口，（ii）第二输入接口，（iii ）相关器，以及（iv）处理器，并且被配置为通过至少一个帧运行时位移来产生被检查晶片的检查结果。

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