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51. 发明专利

JPS5948752A Photosensitive resin composition 失效
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：JPS5948752A
公开(公告)日：1984-03-21
申请号：JP15918282
申请日：1982-09-13
申请人： Hitachi Chem Co Ltd
发明人： ISHIMARU TOSHIAKI , TSUKADA KATSUSHIGE , HAYASHI NOBUYUKI , SUGASAWA NOBORU
IPC分类号： G03C1/00 , C08F2/00 , C08F2/50 , G03F7/085 , H05K3/28
CPC分类号： G03F7/085 , H05K3/287
摘要： PURPOSE:To obtain the titled compsn. superior in adhesive properties usable for a soldering mask, etc. for manufacturing a printed circuit plate, by incorporating a nitrogen-contg. cyclic compd., a photopolymerizable unsatd. bond-contg. phosphoric compd., a specified photopolymerizable compd., a thermoplastic org. polymer, and a photopolymn. initiator. CONSTITUTION:A photosensitive resin compsn. improved in adhesive properties by incorporating (A) 0.001-5pts.wt. of at least one compd. selected from a group of imidazole, thiazole, tetrazole, triazole and their derivs., (B) 0.001-5pts.wt. photopolymerizable unsatd. bond-contg. phosphoric compd., (C) 20-80pts.wt. photopolymerizable compd. having a terminal ethylene group, (D) 20-80pts.wt. thermoplastic org. polymer, and (E) 0.5-10pts.wt. sensitizer and/or sensitizing material for initiating polymn. of the unsatd. compds. (B) and (C) by irradiation of active rays.
摘要翻译：目的：获得标题化合物。优异的粘合性能可用于焊接掩模等用于制造印刷电路板，通过掺入氮气阻挡层。环状化合物，可光聚合不饱和物。债券contg。磷酸化合物，指定的可光聚合化合物，热塑性组合物。聚合物和光聚合物。引发剂。构成：感光树脂组成。通过掺入（A）0.001-5pts.wt。至少有一个compd 选自一组咪唑，噻唑，四唑，三唑及其衍生物，（B）0.001-5pts.wt。光聚合不饱和度债券contg。磷酸化合物，（C）20-80pts.wt。光聚合化合物具有末端亚乙基，（D）20-80pts.wt。热塑性组织聚合物和（E）0.5-10pts.wt。敏化剂和/或敏化材料用于引发聚合物。的不满 compds。（B）和（C）。

53. 发明专利

JP6213689B1 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、タッチパネル用部材および硬化膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6213689B1
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2016574475
申请日：2016-12-16
申请人：東レ株式会社
发明人：越野美加 , 中道未来 , 諏訪充史
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/20 , H01B3/44 , H01B3/40 , G06F3/041 , G03F7/027
CPC分类号： C08F2/46 , C08G59/32 , G02F1/1333 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/085 , G06F3/041
摘要：本発明の目的は、パターン加工性に優れ、150℃以下の低温硬化でも十分な耐薬品性および基板密着性を与える、感光性樹脂組成物を提供することである。本発明は、(A)エチレン性不飽和基およびカルボキシル基含有光反応性樹脂、(B)エポキシ化合物、(C)多官能エポキシ化合物、(D)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物である。

54. 发明专利

JPWO2014185435A1 絶縁材料用組成物有权
标题翻译：绝缘材料组合物
公开(公告)号：JPWO2014185435A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015517099
申请日：2014-05-14
申请人：ラサ工業株式会社
发明人：正中野 , 俊将橋本 , 務野々村
IPC分类号： C08F30/08 , C08F2/44 , C08F130/08 , C08F230/08 , C08F290/14 , C08F299/08
CPC分类号： C08F230/08 , C08F2/44 , G03F7/027 , G03F7/0388 , G03F7/0757 , G03F7/085 , C08F2230/085 , C08F2220/286 , C08F2222/1026 , C08F222/1006
摘要：タッチパネル等の電子デバイスに対して優れた密着性を有し。さらに、有機溶媒等の現像液に対して耐性(耐化学性)を有する絶縁材料用組成物を提供する。架橋性官能基を有するシロキサンオリゴマーと、重合開始剤と、密着促進剤と、を含む絶縁材料用組成物であり、密着促進剤は、アルミニウム及び/又はジルコニウムの配位化合物、カルボジイミド化合物、メルカプトシラン化合物を含み、架橋性官能基を有するシロキサンオリゴマーは、トリオキシシリルアルキルアクリレート又はトリオキシシリルアルキルメタクリレートを含み、多官能性アクリルモノマーをさらに含み、耐化学性向上剤として、ポリN−メトキシメチル化合物を含む。
摘要翻译：它具有优良的粘附性电子设备，诸如触摸面板。此外，为了提供具有电阻（耐化学品性）到显影溶液中的介电材料组合物，如有机溶剂。具有交联性官能团，聚合引发剂，绝缘材料组合物，包括粘合促进剂，粘合促进剂，铝和/或锆配位化合物，碳二亚胺化合物，巯基硅氧烷低聚物它们包括的化合物，具有交联性官能团的硅氧烷低聚物包含三氧甲硅烷基的丙烯酸酯或三 - 氧基甲硅烷基甲基丙烯酸酯，其还包含多官能丙烯酸类单体，化学增强子，聚N-甲氧基甲基化合物包括。

55. 发明专利

JP6055914B2 絶縁材料用組成物有权
标题翻译：绝缘材料组合物
公开(公告)号：JP6055914B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2015517099
申请日：2014-05-14
申请人：ラサ工業株式会社
发明人：中野正 , 橋本俊将 , 野々村務
IPC分类号： C08F290/14 , C08F2/44 , C08F230/08
CPC分类号： C08F230/08 , C08F2/44 , G03F7/027 , G03F7/0757 , G03F7/085 , G03F7/0388

56. 发明专利

JP2016194689A 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法审中-公开
标题翻译：树脂，耐蚀组合物和生产耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2016194689A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016067262
申请日：2016-03-30
申请人：住友化学株式会社
发明人：杉原昌子 , 西村崇
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F12/22 , C08F8/14 , G03F7/004
CPC分类号： C08F216/10 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085
摘要：【課題】形状が良好で、かつクラック耐性が良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸不安定基を有する樹脂、式(I)で表される構造単位を含有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。 [式中、R i4 2 は、水酸基で置換されていてもよい炭化水素基、アシル基又は水素原子;R i43 はアルキル基又はアルコキシ基;pは、0〜4の整数;Zは、式(Ia)で表される基を含む炭素数3〜20の2価の炭化水素基を表し、該基のメチレン基は、O、S、カルボニル基で置き換わってもよい。*は酸素原子との結合手を表す。] 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，可以制造具有良好轮廓和高抗裂性的抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物包含具有酸不稳定基团的树脂，含有由式（I），酸产生剂和溶剂。在该式中，R表示可被羟基，酰基或氢原子取代的烃基; R表示烷基或烷氧基; p表示0〜4的整数， Z表示碳原子数3〜20的二价烃基，含有由式（Ia）表示的基团，其中亚甲基可以被O，S或羰基取代; 和*表示与氧原子的键合位置。选择图：无

57. 发明专利

JP5987802B2 ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法有权
标题翻译：正型抗蚀剂材料和图案使用相同的形成方法
公开(公告)号：JP5987802B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2013182741
申请日：2013-09-04
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 長谷川幸士
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/30 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , C08F220/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/085 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/38 , C08F220/22 , C08F220/62

58. 发明专利

JP5698184B2 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP5698184B2
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：JP2012112531
申请日：2012-05-16
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 郡大佑
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/085

59. 发明专利

JPWO2012172793A1 感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品有权
标题翻译：光敏树脂组合物，制造方法以及使用该树脂组合物的图案的固化膜的电子元件
公开(公告)号：JPWO2012172793A1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2013520434
申请日：2012-06-13
申请人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
发明人：峯岸　知典 , 知典峯岸 , 加藤木　茂樹 , 茂樹加藤木
IPC分类号： G03F7/085 , C08G73/22 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/028 , C08G73/22 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/0387 , G03F7/085 , G03F7/40
摘要： (a)ポリベンゾオキサゾール前駆体と、(b)感光剤と、(c)溶剤と、(d)架橋剤と、(e)分子内に水酸基、アルコキシ基又はカルボキシル基を持つ複素環状化合物を含有する感光性樹脂組成物。
摘要翻译：（A）聚苯并恶唑前体，（b）含有感光剂，和（c）溶剂，和（d）交联剂，具有羟基基团，烷氧基或（e）中具有羧基的杂环化合物的分子感光性树脂组合物。

60. 发明专利

JP5572576B2 The lithographic printing plate precursor and a plate making method 有权
公开(公告)号：JP5572576B2
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：JP2011066806
申请日：2011-03-24
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：悠岩井 , 貴文中山 , 秀和大橋 , 崇徳森
IPC分类号： B41N1/14 , G03F7/00 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/04 , B41C2201/10 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/085 , G03F7/11

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