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1. 发明专利

KR102232349B1 KR102232349B1 - Negative-type photosensitive resin composition having high thermoresistance and hardened overcoat layer prepared therefrom 有权
公开(公告)号：KR102232349B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020130062449A
申请日：2013-05-31
申请人： 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
发明人： 유선 , 전유경 , 김정훈 , 안상왕
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/0757 , C08G77/16 , G03F7/004 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/0382 , G03F7/085
摘要： 본 발명은 고내열성 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막에 관한 것으로, (a) (a-1) (메트)아크릴레이트기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; (a-2) 페닐기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; 및 (b) 광중합 개시제를 포함하고, 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 아크릴레이트계 화합물을 포함하지 않는 본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 제조된 경화막은 고온 경화조건에서 우수한 내열성을 가져 크랙 발생이 억제됨으로써 평탄막 구현이 가능하고 황변 등으로 인한 광 투과율 저하를 나타내지 않으므로, 전자부품의 보호막 등으로서 유용하게 사용될 수 있다.

2. 发明专利

JP6411967B2 レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP6411967B2
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：JP2015149895
申请日：2015-07-29
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 長谷川幸士
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/32 , G03F7/38 , G03F7/20 , C08F220/26 , G03F7/039
CPC分类号： C08F222/14 , C08F216/165 , C08F220/68 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/085 , G03F7/322 , G03F7/325

3. 发明专利

JPWO2017110689A1 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、タッチパネル用部材および硬化膜の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2017110689A1
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：JP2016574475
申请日：2016-12-16
申请人：東レ株式会社
发明人：美加越野 , 美加越野 , 未来中道 , 未来中道 , 諏訪　充史 , 充史諏訪
IPC分类号： G03F7/027 , C08F20/20 , G03F7/004 , G06F3/041 , H01B3/40 , H01B3/44
CPC分类号： C08F2/46 , C08G59/32 , G02F1/1333 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/085 , G06F3/041
摘要：本発明の目的は、パターン加工性に優れ、150℃以下の低温硬化でも十分な耐薬品性および基板密着性を与える、感光性樹脂組成物を提供することである。本発明は、(A)エチレン性不飽和基およびカルボキシル基含有光反応性樹脂、(B)エポキシ化合物、(C)多官能エポキシ化合物、(D)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物である。

4. 发明专利

JP6125191B2 化合物及びそれを含有する硬化性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6125191B2
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：JP2012234570
申请日：2012-10-24
申请人：株式会社ADEKA
发明人：原憲司 , 岩島智幸 , 尾見仁一
IPC分类号： C08F2/48 , C08L33/14 , C08L63/00 , C07F7/21 , C09D163/10 , C09D4/00 , C08G59/17
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0755 , G03F7/085

5. 发明专利

JP2017008181A 高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法审中-公开
标题翻译：聚合化合物，一种化学放大正性抗蚀剂组合物和图案化工艺
公开(公告)号：JP2017008181A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2015124100
申请日：2015-06-19
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 長谷川幸士 , 提箸正義
IPC分类号： C08F220/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C08F20/68
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F220/16 , C08F222/20 , C08F224/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/085
摘要：【解決手段】一般式(1)で示される繰り返し単位a1を含む重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物。 (R 1 は−C(=O)−R 4 、−O−C(=O)−R 4 、又は−C(=O)−O−R 4 であり、R 4 は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基、又は炭素数2〜4のアルケニル基である。R 2 は水素原子又はメチル基であり、R 3 は酸不安定基である。) 【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超LSI製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。【選択図】なし
摘要翻译：包括重复单元的重均分子量A1由通式（1）表示为高分子化合物的范围为1,000至500,000。（R 1为-C（= O）-R 4，-O-C（= O）-R 4或-C（= O）是-O-R 4，R 4是碳原子数为1〜4的直链或支链的乔烷基或具有2至4个碳原子.R2是氢原子或甲基基团的烯基，R 3是酸不稳定基团。）的影响，本发明的基础树脂的聚合物化合物正型抗蚀剂的材料包括碱溶解速度的对比度之前和之后的曝光是显著越高，曝光后的高分辨率，图案轮廓和线边缘粗糙度良好，而且，尤其是抑制酸扩散速率它表现出优异的耐蚀刻性。因此，根据本发明，特别是超大规模LSI的制造或用于光掩模的微细图案形成材料，合适的正抗蚀剂材料作为形成材料，例如用于EUV曝光的图案，它尤其得到了一种化学放大正性抗蚀剂组合物它可以是。系统技术领域

6. 发明专利

JP2016194691A レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2016194691A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016068359
申请日：2016-03-30
申请人：住友化学株式会社
发明人：杉原昌子 , 中西潤次
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , C08F8/00 , C08G8/28 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085
摘要：【課題】形状が良好で、かつ剥離性に優れたレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】酸不安定基を有する樹脂、酸発生剤、フェノール性水酸基を2つ以上有する化合物(ただし、樹脂は除く)及び溶剤を含有するレジスト組成物。例えば、酸不安定基を有する樹脂が式(a1−2)で表される構造単位を含む樹脂である。 [式中、R a1' 及びR a2' は、互いに独立に、水素原子又は炭化水素基;R a3’ は炭化水素基を表すか、R a1' が水素原子又は炭化水素基を表し、R a2' 及びR a3' が互いに結合して2価の炭化水素基を表し、これらの炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又は硫黄原子で置き換わってもよい;R a5 は水素原子又はメチル基;R a6 はアルキル基又はアルコキシ基;mxは、0〜4の整数を表す。] 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，可以从其制备具有良好外形和优异剥离性能的抗蚀剂图案。溶胶：抗蚀剂组合物包含具有酸不稳定基团的树脂，酸产生剂，具有两个或更多的酚羟基（树脂除外）和溶剂。具有酸不稳定基团的树脂例如是含有由式（a1-2）表示的结构单元的树脂。式中，Rand Reach独立地表示氢原子或烃基; 表示烃基; 或R表示氢原子或烃基，并且Rare Rare彼此键合以表示二价烃基，其中包含在这些烃基中的亚甲基可以被氧原子或硫原子代替; R表示氢原子或甲基; R表示烷基或烷氧基; mx表示0〜4的整数

7. 发明专利

JP5988273B2 新規化合物有权
标题翻译：新化合物
公开(公告)号：JP5988273B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2013521551
申请日：2012-06-15
申请人：東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
发明人：塩田大 , 黒子麻祐美 , 野田国宏 , 田所恵典 , 赤井泰之 , 高井英行
IPC分类号： G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/085 , C09K3/00
CPC分类号： G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031

8. 发明专利

JP5953319B2 光学部材及びその製造に用いる紫外線硬化型接着剤有权
标题翻译：在光学部件和制造中使用的紫外线固化型粘合剂
公开(公告)号：JP5953319B2
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：JP2013553099
申请日：2012-10-25
申请人：日本化薬株式会社
发明人：本橋隼 , 小林大祐 , 松尾雄一朗 , 倉田高明 , 内藤正弘
IPC分类号： C09J4/02 , C09J11/06 , C09J163/00 , C09J171/02 , B32B7/12
CPC分类号： C09J133/08 , B32B37/12 , B32B7/12 , C09J133/10 , C09J171/02 , C09J4/06 , G02F1/133512 , G03F7/027 , G03F7/085 , G03F7/091 , B32B2037/1253 , B32B2250/03 , B32B2457/208 , G02F1/13338 , G02F2202/28 , G06F3/041 , Y10T428/24843

9. 发明专利

JP5876925B2 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物並びにそれらを用いたプリント配線板有权
公开(公告)号：JP5876925B2
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：JP2014262618
申请日：2014-12-25
申请人：太陽インキ製造株式会社
发明人：峰岸昌司 , 有馬聖夫
IPC分类号： G03F7/032 , H05K3/28 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0047 , G03F7/032 , G03F7/085

10. 发明专利

JP5793867B2 重合体の製造方法有权
标题翻译：制造聚合物的方法
公开(公告)号：JP5793867B2
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：JP2010529184
申请日：2010-07-07
申请人：三菱レイヨン株式会社
发明人：安田敦 , 押切友也 , 松本大祐 , 加藤圭輔 , 前田晋一
IPC分类号： C08F2/04
CPC分类号： C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085

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