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31. 发明专利

JP5330823B2 Plasma generating apparatus and plasma generation method 有权
公开(公告)号：JP5330823B2
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：JP2008500981
申请日：2006-03-10
申请人：パーキンエルマー・インコーポレイテッドPerkinelmer,Inc.
发明人：モリスロー，ピーター・ジェイ
IPC分类号： H05H1/30 , G01N21/31 , G01N21/73 , G01N27/62 , H01J49/10
CPC分类号： H05H1/30 , G01J1/42 , G01J2001/4247 , H01J49/105
摘要： Plasma devices and methods for using such plasma devices in analytical measurements are disclosed. In certain examples, a low flow plasma may be operative using a total argon gas flow of less than about five liters per minute, and in some embodiments, a plasma argon gas flow of less than about four liter per minute. In other examples, a plasma produced using inductive and capacitive coupling is disclosed.

32. 发明专利

JP2013134817A Mass spectroscope and mass spectrometry 有权
标题翻译：质谱和质谱
公开(公告)号：JP2013134817A
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：JP2011282684
申请日：2011-12-26
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： NISHIMURA KAZUSHIGE , HASHIMOTO YUICHIRO , SUGIYAMA MASUYUKI , YAMADA MASUYOSHI , MOROKUMA HIDETOSHI
IPC分类号： H01J49/10 , G01N27/62
CPC分类号： H01J49/105 , H05H1/2406 , H05H2001/245 , H05H2001/2456
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mass spectroscope and mass spectrometry combining efficient ionization and high sensitivity mass spectrometry.SOLUTION: The mass spectroscope includes: an ion source consisting of a first electrode, a second electrode and a dielectric provided between the first and second electrodes and having sample introduction part and discharge part; a power supply which applies an AC voltage to any one of the first and second electrodes and ionizing a sample with discharge generated therebetween; a mass analyzer for analyzing ions discharged from the discharge part; and a light irradiation part for irradiating the discharge generating region with light.
摘要翻译：要解决的问题：提供组合高效电离和高灵敏度质谱的质谱仪和质谱法。解决方案：质谱仪包括：由第一电极，第二电极和介于第一和第二电极之间的电介质组成的离子源电极，并具有样品引入部分和放电部分; 电源，其向所述第一和第二电极中的任何一个施加AC电压，并且在其间产生放电使电离电离; 用于分析从排出部排出的离子的质量分析器; 以及用于用光照射放电产生区域的光照射部分。

33. 发明专利

JP2013524471A A method and apparatus for the glow discharge spectroscopy measurements in the pulse mode 有权
公开(公告)号：JP2013524471A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2013504321
申请日：2011-04-14
申请人：オリバジョビンイボンエス. アー. エス.
发明人：パトリックシャポン , オリヴィエロジュリュー , アニエスタンペ
IPC分类号： H01J49/10 , G01N27/62 , G01N27/68
CPC分类号： H01J49/36 , H01J49/105
摘要：本発明は、パルス・モードでの高周波電場発電機、放電ランプ、発電機により供給される電力を放電ランプへ送電するインピーダンス整合装置、およびイオン化されたプラズマ種を示す少なくとも１つの信号を測定するのに適した質量分析計を含むパルス・モードでのグロー放電分光分析測定のための装置に関する。本発明によれば、前記装置は、前記発電機と前記放電ランプの間のインピーダンス不整合ΔΩを示す信号を測定するのに適した測定システムを含み、この測定システムは、前記パルスに同期し、前記パルスの少なくとも一部においてインピーダンス不整合ΔΩを示す信号を持つインピーダンス整合デバイスを提供することができる高速取得システムを備えている。前記装置は、連続的なインピーダンスの適合が可能である。
【選択図】図５

34. 发明专利

JP2013524445A Improved sample chamber for laser ablation inductively coupled plasma mass spectrometry 审中-公开
公开(公告)号：JP2013524445A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2013502852
申请日：2011-03-31
申请人：エレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッド
发明人：ハッチンソン，ロバート , サマーフィールド，リーフ , ヒリアード，シェーン , ウィルキンス，ジェイ
IPC分类号： H01J49/04 , H01J49/10
CPC分类号： H01J49/0409 , H01J49/105
摘要：レーザ支援分光用の改良された試料チャンバ４０は、弁機構４８，５８を試料ドロワ４６に一体化して、処理用試料を挿入するために試料ドロワ４０が開放（６２）及び閉鎖（７０）される際に、試料チャンバ４０が自動的に流れをバイパス、パージ、及び再開できるようにする。このように弁機構４８，５８を試料ドロワ４６に一体化することにより、流れをバイパス、パージ、及び再開するために操作されるべき外部の弁が必要なくなり、これによりシステムのスループットが増加し、システムの複雑さが低減される。

35. 发明专利

JPWO2010018738A1 分析方法および分析システム有权
公开(公告)号：JPWO2010018738A1
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：JP2010524698
申请日：2009-07-22
申请人：住友精化株式会社
发明人：秀樹中西 , 秀樹中西 , 啓介宇谷 , 啓介宇谷 , 講平西口 , 講平西口
IPC分类号： G01N1/00 , G01N1/22 , G01N1/28 , G01N21/73 , G01N27/62
CPC分类号： G01N27/62 , G01N21/68 , G01N2001/045 , H01J49/0463 , H01J49/105
摘要：レーザーアブレーションにより生成される微粒子をプラズマ分析する際に、微粒子を搬送するキャリアガスの特性やレーザーアブレーションにより発生する気体成分により分析条件の最適化が妨げられるのを防止でき、操作性、迅速性、簡便性を損なうことなく、複数種類の元素を高感度かつ精度良く安定的に測定できる分析方法と分析システムを提供する。第1ガスの雰囲気の中で試料αをレーザーアブレーション装置3によって微粒子とする。第1ガスをキャリアガスとして、微粒子をレーザーアブレーション装置3からガス置換装置5まで搬送する。ガス置換装置5によって、微粒子を搬送するキャリアガスの少なくとも一部を第1ガスから第2ガスにガス置換する。そのガス置換されたキャリアガスによって微粒子をガス置換装置5からプラズマ分析装置6まで搬送する。プラズマ分析装置6によって微粒子の構成元素を分析する。

36. 发明专利

JP4712108B2 Method of operating a mass spectrometer and a mass spectrometer 有权
公开(公告)号：JP4712108B2
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：JP2009244112
申请日：2009-10-23
申请人：サーモフィッシャーサイエンティフィック (ブレーメン) ゲーエムベーハー
发明人：フィリップマリオット
IPC分类号： G01N27/62 , H01J49/42 , H01J49/06 , H01J49/10
CPC分类号： H01J49/421 , H01J49/0045 , H01J49/04 , H01J49/105 , H01J49/22

37. 发明专利

JP2011511929A Chemical ionization using a quadrupole or time-of-flight mass spectrometer reaction or proton transfer reaction mass spectrometry 审中-公开
公开(公告)号：JP2011511929A
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：JP2010528930
申请日：2008-09-23
申请人：エムケーエスインストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated
发明人：アットウッド，マーク , シャジー，アリ , スミス，ジョン・エイ , チェン，ズィン , パーク，ジョナサン・ヘンリー , ホルバー，ウィリアム・エム , ロビンソン，ティモシー・ロジャー , ロングソン，マーク・フィリップ
IPC分类号： G01N27/62 , H01J49/10 , H01J49/40 , H01J49/42
CPC分类号： H01J49/105 , H01J49/145
摘要：質量分光分析システムにおいて用いるための試薬イオンおよび生成イオンを発生するシステムおよび方法について記載する。また、極微小濃度の揮発性有機化合物を検出するための本システムおよび方法の応用についても記載する。マイクロ波または高周波ＲＦエネルギ源が、試薬蒸気の粒子をイオン化して、試薬イオンを形成する。試薬イオンは、ドリフト・チェンバのようなチェンバに流入し、流体サンプルと相互作用する。電界が試薬イオンを誘導し、流体サンプルとの相互作用を促進して生成イオンを形成する。次いで、試薬イオンおよび生成イオンは、質量分光計モジュールによる検出のために、電界の影響下においてチェンバから流出する。本システムは、システム・パラメータの値を設定する種々の制御モジュールと、分光分析中におけるイオン種の質量およびピーク強度値の検出ならびにシステム内部における異常の検出のための解析モジュールとを含む。
【選択図】図１

38. 发明专利

JP4636800B2 Plasma mass spectrometer 有权
公开(公告)号：JP4636800B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2003575404
申请日：2003-02-27
申请人：ヴァリアンオーストラリアピーティーワイ.エルティーディー.
发明人：カリニチェンコ，イオウリ
IPC分类号： G01N27/62 , H01J49/10 , B01D59/44 , C12Q1/00 , H01J49/04 , H01J49/24 , H01J49/26 , H01J49/40
CPC分类号： H01J49/067 , H01J49/105

39. 发明专利

JP2009043608A Plasma mass spectroscope 有权
标题翻译：等离子体质谱仪
公开(公告)号：JP2009043608A
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：JP2007208177
申请日：2007-08-09
申请人： Agilent Technol Inc , アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc.
发明人： YAMADA NORIYUKI , NISHIJIMA TAKESHI
IPC分类号： H01J49/10 , G01N27/62 , H01J49/06
CPC分类号： H01J49/105
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve sensitivity as an analyzer by reducing ion density of plasma, and increasing an ion amount of analyzed elements contained in the ion beam. SOLUTION: A small collision chamber 36 is installed that is demarcated by a side wall 35 extended surrounding the plasma along an axis line direction so as to limit spreading of the plasma toward a side direction in the rear face side of a skimmer cone 33, and a flat part 56 of a first electrode 53 equipped with an aperture 57 which is positioned on the rear side of the side wall 35 and in which the ion beam is made passable. In the small collision chamber 36, since its interior pressure is raised without introducing additional gas, argon ion is neutralized by collision/recombination of ion and electron, so that the ion density of the plasma is reduced. By this, a beam diameter at the time of extraction/transportation of the ions can be suppressed comparatively small. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过降低等离子体的离子密度和增加离子束中包含的分析元素的离子量来提高作为分析仪的灵敏度。解决方案：安装一个小型碰撞室36，其被围绕等离子体延伸的侧壁35沿着轴线方向划分，以限制等离子体在分离器锥体的后表面侧的侧向扩展 33和第一电极53的平坦部分56，其配备有位于侧壁35的后侧上的孔57，并且其中离子束可通过。在小碰撞室36中，由于其内部压力升高而不引入额外的气体，所以通过离子和电子的碰撞/复合来中和氩离子，使得等离子体的离子密度降低。由此，可以抑制离子的萃取/输送时的光束直径。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

40. 发明专利

JP2008232808A ANALYSIS METHOD OF VERY SMALL AMOUNT OF Pd, Rh AND Ru AND HIGH-FREQUENCY PLASMA MASS ANALYZER USED THEREIN 有权
标题翻译：钯，铑和钌非常小量的分析方法及其使用的高频等离子体质谱分析仪
公开(公告)号：JP2008232808A
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：JP2007072442
申请日：2007-03-20
申请人： Nikko Kinzoku Kk , Sii Nanotechnology Inc , エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 日鉱金属株式会社
发明人： KAMIMURA KENICHI , KAWADA SATORU , TSUCHIYA KOJI
IPC分类号： G01N27/62 , H01J49/06 , H01J49/10
CPC分类号： H01J49/105
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for analyzing a very small amount of Pd, Rh and Ru with high precision by a high-frequency plamsa mass analyzer.
SOLUTION: The method for analyzing a trace amount of Pd, Rh or Ru as a measuring target element includes a process (1) for pretreating a sample by an alkali melting method using a sodium compound and a process (2) for analyzing the pretreated sample by the high-frequency plasma mass analyzer. In the process (2), the interval between a sampling cone and a skimmer cone is set so that all of the concentration of
40 Ar
65 Cu interfering with Pd, the concentrations of
40 Ar
63 Cu and
40 Ar
40 Ar
23 Na interfering with Rh and the concentrations of
38 Ar
63 Cu and
40 Ar
38 Ar
23 Na interfering with Ru become a value of 0.05 ppb or lower to perform analysis.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过高频普拉姆萨质量分析仪以高精度分析非常少量的Pd，Rh和Ru的方法。解决方案：用于分析痕量Pd，Rh或Ru作为测量目标元素的方法包括通过使用钠化合物的碱熔融法预处理样品的方法（1）和用于分析的方法（2）通过高频等离子体质量分析仪预处理的样品。在过程（2）中，采样锥体和分离锥体之间的间隔被设置为使得所有浓度的与SP浓度相关的 40 的 40 Ar 63和 40 Ar 40 并且浓度为 38 38 38 干扰Ru成为0.05 ppb以下的值进行分析。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

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