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31. 发明专利

JP2014219472A 光源装置及び投影表示装置审中-公开
标题翻译：光源装置和投影显示装置
公开(公告)号：JP2014219472A
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：JP2013096928
申请日：2013-05-02
申请人：株式会社リコー , Ricoh Co Ltd
发明人： MURAI TOSHIHARU , FUJITA KAZUHIRO , TAKAHASHI TATSUYA , MAEDA IKUO , NISHIMORI TAKEHIRO
IPC分类号： G03B21/14 , F21S2/00 , F21V7/00 , F21V7/22 , F21V9/10 , F21V9/16 , G02B5/18 , G02B26/00 , G03B21/00 , H04N5/74
CPC分类号： F21S2/00 , F21V7/00 , F21V7/22 , F21V9/10 , F21V9/16 , G02B26/00 , G02B5/18 , G03B21/00 , G03B21/14 , H04N5/74
摘要：【課題】励起光源と回転する蛍光部材とを用いた構成において、薄型化ないしは小型化を実現できる光源装置を提供する。【解決手段】各LD18からの出射光は1本の光線に集光され、スイッチング回折格子24に入射され、第一の方向と第二の方向に切り替えられる。第二の方向の光は、第一のダイクロイックミラー30を通り、蛍光部材14に照射される。蛍光部材14は、円形の底面と、その底面の周端部に所定の高さの側面を備えたシャーレのような形状である。蛍光部材14のモーター12の回転軸12aが、蛍光部材14の側面が見える方向から見て、集光光学系22もしくは集光光学系32もしくはこれら両方の光軸に対して垂直になるように、蛍光部材14が光源装置の光路中に配置されている。蛍光体層34から発光した緑色の蛍光光(破線表示)は第一のダイクロイックミラー30で反射され、集光光学系36を通して第二のダイクロイックミラー38へと導かれる。符号42は反射ミラーである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在采用激发光源和旋转荧光部件的结构中能够进行薄型化或小型化的光源装置。解决方案：来自每个LD 18的发射光会聚到一束光，切换衍射光栅24，并切换到第一方向和第二方向。第二方向的光通过第一分色镜30，并被照射在荧光部件14上。荧光部件14具有包括圆形底面的培养皿状，在周缘部具有规定高度的侧面的底面。荧光部件14配置在光源装置的光路上，使得荧光部件14的电动机12的旋转轴线12a与会聚光学系统22和冷凝光学系统22的一个或两个的光轴正交光学系统32从观察荧光部件14的侧面的方向观察时。从荧光体层34发出的绿色荧光（由虚线显示）被反射到第一分色镜30上，并通过聚光光学系统36被引导到第二分色镜38.代码42表示反射镜。

32. 发明专利

JP2014215375A レプリカ回折格子及びその製造方法审中-公开
标题翻译： REPLICA DIFFRACTION GRATING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：JP2014215375A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2013090983
申请日：2013-04-24
申请人：株式会社島津製作所 , Shimadzu Corp
发明人： OGAMI HIRONORI
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/18
摘要：【課題】より耐久性が高いレプリカ回折格子及びその製造方法を提供する。【解決手段】レプリカ基板201の表面に接着剤層を介して形成された金属薄膜106を備えたレプリカ回折格子200において、前記接着剤層を永久レジスト202により構成する(図2(e)参照)。耐熱性及び耐環境性が高い永久レジスト202をレプリカ基板201の表面と金属薄膜106との間に介在させることで、より耐久性が高いレプリカ回折格子200を提供することができる。また、永久レジスト202を露光することにより、短時間で硬化させることができるため、レプリカ回折格子200の製作時間を短縮することができる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供具有更高耐久性的复制衍射光栅及其制造方法。解决方案：在复制衍射光栅200中，包括通过粘合剂层形成在复制基板201的表面上的金属薄膜106，粘合剂层由永久抗蚀剂202（参见图2（e））构成。通过在复制基板201的表面和金属薄膜106之间具有高耐热性和耐环境性的永久抗蚀剂202，可以提供具有更高耐久性的复制衍射光栅200。此外，通过暴露永久抗蚀剂202，可以在短时间内进行硬化，因此可以缩短复制衍射光栅200的制造时间。

33. 发明专利

JPWO2012164781A1 回折光学素子およびその製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2012164781A1
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：JP2012538102
申请日：2012-02-15
申请人：パナソニック株式会社
发明人：辰敏末永 , 辰敏末永 , 岡田　夕佳 , 夕佳岡田 , 村田　晶子 , 晶子村田
IPC分类号： G02B5/18 , G02B3/00 , G02B3/08
CPC分类号： G02B5/18 , B29D11/00269 , B29D11/00769 , G02B5/1847 , G02B5/1876 , G02B27/46
摘要：基体と光学調整層を被着する構造の回折光学素子では、基体と光学調整層の密着強度が低下すると光学調整層にクラックや剥離といった不良が発生する。本発明の回折光学素子100では、基体1の平面状の第2領域6に複数のアンカー溝3が形成されている。さらに、複数のアンカー溝3のうち最も外側に位置するアンカー溝の深さは、最も内側に位置するアンカー溝の深さよりも浅くなる構造とする。そのような基体1の回折格子2を形成した第1領域5とアンカー溝3を形成した第2領域6を覆う形で光学調整層9が被着されている。

34. 发明专利

JPWO2012157697A1 回折格子製造方法、分光光度計、および半導体装置の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2012157697A1
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：JP2013515188
申请日：2012-05-17
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：佳定江畠 , 佳定江畠 , 松井　繁 , 松井　　繁 , 昇雄長谷川 , 昇雄長谷川 , 和之角田 , 和之角田 , 利彦小野塚 , 利彦小野塚
IPC分类号： G02B5/18 , G01J3/18
CPC分类号： G02B5/1857 , G01J3/0262 , G01J3/18 , G01J3/42 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1861 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/0005 , H01L21/26
摘要：第1技術は、分光光度計に用いるのに好適な、凸部の頂角が概略90度で、高い回折効率と低い迷光量を満足できる回折格子の製造技術の提供を目的とする。周期構造の開口部を有するマスクの開口部形状に対して、露光により形成された基板上のレジストの凸部の断面形状が、非対称の三角形状であって該三角形状の長辺と短辺のなす角が概90度となるように露光条件を設定し、露光を行い、回折格子を形成する。第2技術は、精度向上と制作時間の短縮が可能な回折格子の製造技術の提供を目的とする。光源から放出された光を、光軸に対して非対称な照明形状にして、所定の周期パターンを備えたマスクを透過させ、前記マスクを透過させることにより生じる0次光と1次光とを基板の表面で干渉させて、前記基板の表面の感光材料を露光し、前記基板上に前記ブレーズド状の断面形状を有する回折格子を形成する。

35. 发明专利

JPWO2012114408A1 回折光学素子およびそれを備えた撮像装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2012114408A1
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2012518669
申请日：2011-12-05
申请人：パナソニック株式会社
发明人：清水　義之 , 義之清水 , 鈴木　哲也 , 哲也鈴木 , 高野　利昭 , 利昭高野 , 康次藤井 , 康次藤井
IPC分类号： G02B5/18 , H01L27/14
CPC分类号： B29D11/00009 , B29C43/021 , B29D11/00769 , G02B5/18 , G02B5/1895 , G02B27/4205
摘要：回折光学素子の凸部のエッジ部分に割れが生じることを抑制する。回折光学素子(10)は、回折面(13)を備えている。回折面(13)は、複数の凸部(15)を有している。凸部(15)は、回折機能を有する第1面(16)と、立ち上がるように延びて、第1面(16)に連結された第2面(17)とを有している。光軸(X)に対する第2面(17)の傾斜角度(θ)は、回折面(13)の領域に応じて異なっている。

36. 发明专利

JP2014013366A Manufacturing method for curved diffraction grating, mold for curved diffraction grating, and curved diffraction grating using the same 有权
$Manufacturing method for curved diffraction grating, mold for curved diffraction grating, and curved diffraction grating using the same$
标题翻译：弯曲衍射光栅的制造方法，弯曲衍射光栅的模具和使用其的弯曲衍射光栅
公开(公告)号：JP2014013366A
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：JP2013001829
申请日：2013-01-09
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： AONO TAKANORI , EHATA YOSHISADA , MATSUI SHIGERU , WATANABE TETSUYA , ONODA YUGO
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1847 , B29C59/02 , B32B37/12 , B32B37/24 , B32B38/0012 , B32B2551/00 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , Y10T156/1028
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To highly accurately produce a curved diffraction grating with a required curvature.SOLUTION: A manufacturing method for a curved diffraction grating comprises: the step of forming a diffraction grating pattern 20 onto a silicon substrate 2 that has a flat plate form; the step of producing a mold 1 for a curved diffraction grating in such a manner that a fixing substrate 3 with a required curved face is pressed under heat to the silicon substrate 2 with the diffraction grating pattern 2 formed thereon, and the silicon substrate 2 with the diffraction pattern is fixed onto the fixing substrate 3 of the curved shape; and the step of bringing a flexible member into contact with the mold for the curved diffraction grating, thereby transferring the diffraction grating pattern onto the member.
摘要翻译：要解决的问题：高精度地制造具有所需曲率的弯曲衍射光栅。解决方案：一种弯曲衍射光栅的制造方法包括：将衍射光栅图案20形成在具有平板形式的硅基板2上的步骤 ; 制造弯曲衍射光栅的模具1的步骤是这样一种方式使得具有所需曲面的固定基板3在其上形成有衍射光栅图案2的同时被加热地压在硅基板2上，硅基板2具有将衍射图案固定在弯曲形状的固定基板3上; 以及使柔性构件与用于弯曲衍射光栅的模具接触的步骤，从而将衍射光栅图案转印到构件上。

37. 发明专利

JP5387655B2 Optical device and virtual image display device 有权
公开(公告)号：JP5387655B2
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：JP2011240683
申请日：2011-11-01
申请人：ソニー株式会社
发明人：洋武川 , 克之阿久津
IPC分类号： G02B27/02 , G02B5/32 , G02B6/00 , G02B27/00 , G02B27/01 , H04N13/04
CPC分类号： G02B27/0172 , G02B5/18 , G02B5/1842 , G02B6/00 , G02B6/0026 , G02B6/0033 , G02B6/005 , G02B6/2848 , G02B6/43 , G02B13/18 , G02B17/004 , G02B17/006 , G02B17/0856 , G02B27/0081 , G02B27/01 , G02B27/0103 , G02B27/017 , G02B27/144 , G02B2027/0116 , G02B2027/0118 , G02B2027/0125 , G02B2027/0174

38. 发明专利

JP2013210419A Diffraction grating and manufacturing method thereof 有权
$Diffraction grating and manufacturing method thereof$
标题翻译：衍射光栅及其制造方法
公开(公告)号：JP2013210419A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：JP2012078806
申请日：2012-03-30
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： KAWASAKI KENJI , OGINO MASAHIKO , MIYAUCHI AKIHIRO
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/18 , B29C43/021 , B29C43/18 , B29D11/00769 , B29K2995/0018 , B29L2011/00 , G02B5/1847 , G02B5/1852
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a diffraction grating which is superior in profile irregularity and can be made small-sized and light-weight, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: The diffraction grating includes a glass substrate 20 having a thickness of 0.5 to 8 mm, a microstructure 10 made of resin which is formed on one surface of the glass substrate 20 and has a rugged pattern, and a flat resin layer 30 formed on the other surface of the glass substrate 20. Even when the glass substrate 20 has profile irregularity of more than λ/2, the microstructure 10 is not affected by profile irregularity of the glass substrate 20 because of flatness of the resin layer 30, and a replica of the diffraction grating superior in profile irregularity can be manufactured. Further, since the glass substrate can be made thin, the size and weight of the diffraction grating can be reduced..
摘要翻译：要解决的问题：提供一种轮廓不规则性优异并且可以制成小型轻量化的衍射光栅及其制造方法。解决方案：衍射光栅包括厚度为0.5至 8mm，由玻璃基板20的一个表面形成且具有凹凸图案的树脂制微观结构10，以及形成在玻璃基板20的另一个面上的平坦的树脂层30.即使玻璃基板20具有轮廓不均匀度大于λ/ 2，由于树脂层30的平坦度，微结构10不受玻璃基板20的轮廓不规则影响，并且可以制造出轮廓不规则性优异的衍射光栅的复制品。此外，由于可以使玻璃基板变薄，因此可以减小衍射光栅的尺寸和重量。

39. 发明专利

JPWO2012018017A1 回折光学素子及び計測装置有权
公开(公告)号：JPWO2012018017A1
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2012527741
申请日：2011-08-02
申请人：旭硝子株式会社
发明人：浩司宮坂 , 浩司宮坂 , 琢治野村 , 琢治野村
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1861 , G01B11/25 , G02B5/18 , G02B5/1842 , G03H1/0244
摘要： 0次回折光の発生を極力抑制し、広い範囲に光スポットを生成することのできる回折光学素子及び計測装置を提供する。凹凸を有し、入射した光を2次元的に回折して、回折光を発生させる回折光学素子であって、前記入射した光の光軸を基準とする最大の回折角を角度範囲θとするとき、前記角度範囲θは、7.5°以上であり、かつ、0次回折光における回折効率が、5%以下であることを特徴とする回折光学素子を提供することにより上記課題を解決する。

40. 发明专利

JPWO2011132407A1 画像表示装置有权
公开(公告)号：JPWO2011132407A1
公开(公告)日：2013-07-18
申请号：JP2012511547
申请日：2011-04-19
申请人：パナソニック株式会社
发明人：古屋　博之 , 博之古屋 , 式井　愼一 , 愼一式井 , 圭司杉山 , 圭司杉山
IPC分类号： G02B27/01 , B60K35/00
CPC分类号： G02B27/0101 , B60K35/00 , B60K2350/2052 , G02B5/18 , G02B5/32 , G02B26/10 , G02B2027/0112
摘要：レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を用いて、画像を表示するための映像光を出射する画像形成要素と、前記映像光を回折する第1回折素子と、前記レーザ光の波長と前記第1回折素子の温度とに基づき、前記画像の表示位置を制御する制御要素と、を備えることを特徴とする画像表示装置。

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