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21. 发明专利

JP5790644B2 検査装置および検査方法有权
公开(公告)号：JP5790644B2
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：JP2012512679
申请日：2011-04-28
申请人：株式会社ニコン
发明人：深澤和彦
IPC分类号： G03F7/207 , G03F7/20
CPC分类号： G01N21/9501 , G03F7/70641

22. 发明专利

JP2015038985A リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品の製造方法审中-公开
标题翻译：光刻设备，光刻方法和制品制造方法
公开(公告)号：JP2015038985A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014147560
申请日：2014-07-18
申请人：キヤノン株式会社 , Canon Inc
发明人： MIYAZAKI TADAYOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G01B11/00 , G03F7/207
CPC分类号： G03F9/7046 , G03F7/70616
摘要：【課題】重ね合わせ精度およびスループットの点で有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】このリソグラフィ装置は、パターンを基板に形成するものであり、基板上に形成されたマークを検出する検出部と、検出部の出力に基づいて、マークの位置のその基準位置からのずれ量を求める制御部とを有する。ここで、制御部は、基板上の各サンプルショット領域の複数のマークそれぞれに関して、複数のサンプルショット領域に関して検出部の出力に基づきそれぞれ得られた複数のずれ量を平均化し、複数のマークに関して平均化によりそれぞれ得られた複数のずれ量に基づいて、基板上のショット領域の形状に関する情報を得る。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供有利于对准精度和生产量的光刻设备。解决方案：用于在基板上形成图案的光刻设备包括检测部分，其检测形成在基板上的标记; 以及控制部，其根据来自检测部的输出，从标准位置求出标记的位移量。相对于基板上的每个采样拍摄区域中的每个标记，控制部分平均根据检测部分的输出而获取的关于采样拍摄区域的位移量。控制部基于通过相对于标记的平均而获取的位移量，获取关于基板上的每个拍摄区域的形状的信息。

23. 发明专利

JP2014182372A Flow lithography technique to form microstructures using optical arrays 审中-公开
标题翻译：使用光学阵列形成微结构的流动平移技术
公开(公告)号：JP2014182372A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2014032697
申请日：2014-02-24
申请人： Palo Alto Research Center Inc , パロ・アルト・リサーチ・センター・インコーポレーテッドPalo Alto Research Center Incorporated
发明人： MELDE KAI , PHILIPP H SCHMAELZLE
IPC分类号： G03F7/207 , G03F7/23 , G03F7/24
CPC分类号： G03F7/70141 , B81C99/0095 , G03F1/50 , G03F7/16 , G03F7/2012 , G03F7/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scalable and cost-effective continuous flow projection lithography system and fabrication method capable of fabricating microparticles or microstructures of a custom shape and composition.SOLUTION: A mask 304 is placed at a distance from a microlens array 306. Each element of the array projects one image of the mask onto a substrate, effectively forming an array on the substrate. A coating process allows functional regions of particles, namely, supporting layers that prevent adhesion of crosslinked polymers to surfaces.
摘要翻译：要解决的问题：提供可扩展且具有成本效益的连续流动投影光刻系统和能够制造定制形状和组成的微粒或微结构的连续流动投影光刻系统和制造方法。解决方案：将掩模304放置在离微透镜阵列306一定距离处。阵列的每个元素将掩模的一个图像投射到衬底上，在衬底上有效地形成阵列。涂覆工艺允许颗粒的功能区域，即防止交联聚合物粘附到表面上的支撑层。

24. 发明专利

JP5441939B2 Focus position detection method, the focal position detecting device, an exposure device and a semiconductor device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5441939B2
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：JP2011012043
申请日：2011-01-24
申请人：キヤノン株式会社
发明人：望林 , 浩田中
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/207

25. 发明专利

JP2013246258A Focus position correction method, exposure method, device manufacturing method and exposure device 审中-公开
标题翻译：聚焦位置校正方法，曝光方法，装置制造方法和曝光装置
公开(公告)号：JP2013246258A
公开(公告)日：2013-12-09
申请号：JP2012118957
申请日：2012-05-24
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： OMORI SEIICHI , NOJIMA TAKUMI , ABIKO KAZUYA
IPC分类号： G03F7/207 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focus position correction method in which, when the correction amount of a focus position adjustment mechanism possessed by a projection system of an exposure device is obtained, and also to provide an exposure method, a device manufacturing method and the exposure device.SOLUTION: This focus position correction method includes: a substrate positional information detection step for obtaining first positional information on a position of the surface of a predetermined substrate held on a substrate holding surface of a substrate stage of an exposure device (step S101); and a correction amount calculation step for removing second positional information of a predetermined plane obtained on the basis of the first positional information from the first positional information and obtaining the correction amount of a focus position adjustment mechanism of a projection system possessed by the exposure device (S102).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种聚焦位置校正方法，其中当获得由曝光装置的投影系统所具有的对焦位置调节机构的校正量时，并且还提供曝光方法，装置制造方法和曝光装置。解决方案：该聚焦位置校正方法包括：基板位置信息检测步骤，用于获得保持在曝光装置的基板台的基板保持表面上的预定基板的表面的位置的第一位置信息（步骤 S101）; 以及校正量计算步骤，用于从第一位置信息中去除基于第一位置信息获得的预定平面的第二位置信息，并获得曝光装置所具有的投影系统的焦点位置调整机构的校正量（ S102）。

26. 发明专利

JP5360088B2 Exposure apparatus, method a liquid supply, and a device manufacturing method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5360088B2
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：JP2011029094
申请日：2011-02-14
申请人：株式会社ニコン
发明人：剛之水谷
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/207 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： An exposure apparatus capable of restricting expansion of damage even if liquid leaks to prevent reduction in operating rate and exposure accuracy. The exposure apparatus (EX) exposes a substrate (P) by irradiating exposure light (EL) to the substrate (P) through liquid (LQ) and has a first base member (BP1), a substrate stage (PST) for movably supporting the substrate (P), and a second base member (BP2) for supporting the substrate stage (PST). The liquid (LQ) leaked on the second base member (BP2) is prevented from spreading to the first base member (BP1).
摘要翻译：一种即使液体泄漏也能够限制损伤膨胀以防止操作速率和曝光精度降低的曝光装置。曝光装置（EX）通过液体（LQ）向基板（P）照射曝光光（EL）使基板（P）露出，并具有第一基底部件（BP1），基板台（PST）基板（P）和用于支撑基板台（PST）的第二基板部件（BP2）。泄漏在第二基体部件（BP2）上的液体（LQ）被阻止扩散到第一基体部件（BP1）。

27. 发明专利

JP2013200506A Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method 有权
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：JP2013200506A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2012069990
申请日：2012-03-26
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： FUKUI TATSUO
IPC分类号： G03F7/207 , G01B11/00 , G02B3/00 , G02B7/28 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To calculate information about a distance between a plate and a mask to be disposed to face each other across a predetermined range.SOLUTION: An exposure apparatus 1 comprises: a mask stage that supports a mask M; a plate stage that supports a plate P on which a pattern formed on the mask M is exposed; a micro lens array that moves between the mask stage and the plate stage and transmits light from the mask to form an image of the pattern formed on the mask on a surface of the plate; a range finder 100 that moves between the mask stage and the plate stage and detects reflection light from the plate P and reflection light from the mask M; and a calculation part that calculates information about a distance between the plate P and the mask M on the basis of a detection result of the range finder 100.
摘要翻译：要解决的问题：计算要在预定范围内彼此面对的板和面罩之间的距离的信息。解决方案：曝光装置1包括：掩模台，其支撑掩模M; 支撑在其上露出形成在掩模M上的图案的平板P的平台; 微透镜阵列，其在所述掩模台和所述平台之间移动并透射来自所述掩模的光，以形成在所述板的表面上形成在所述掩模上的图案的图像; 测距仪100，其在掩模台和平台之间移动，并检测来自板P的反射光和来自掩模M的反射光; 以及计算部，其基于测距仪100的检测结果来计算关于板P与掩模M之间的距离的信息。

28. 发明专利

JP5209946B2 Focus position detection method and drawing equipment 有权
公开(公告)号：JP5209946B2
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：JP2007321118
申请日：2007-12-12
申请人：株式会社オーク製作所
发明人：隆志奥山
IPC分类号： G03F7/207 , H01L21/027

30. 发明专利

JP2012189737A Exposure equipment 审中-公开
标题翻译：曝光设备
公开(公告)号：JP2012189737A
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：JP2011052314
申请日：2011-03-10
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： NAGANO KOHEI , YAMANAKA TAKUMA
IPC分类号： G03F7/207 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide exposure equipment solving both problems of lowering of focus accuracy due to elastic deformation of a body structure and deterioration of the number of sheets of substrate processing generated due to the use of a measuring meter for a read-ahead area.SOLUTION: The exposure equipment includes means for calculating positional displacement amount of the body structure and focus variation amount when the body structure is elastically deformed using the position of a substrate stage or an original plate stage in real time and predicting and correcting the positional displacement amount and the focus variation amount. When prediction correction amount of the focus variation amount is calculated, forcible acting force is applied to the body structure to measure displacement amount of the body structure, and at the same time, a relative position between a projection optical system and the substrate stage or a relative height between the projection optical system and the original plate stage is measured and a regression analysis is performed on the relative position or the relative height to correct the correction amount.
摘要翻译：要解决的问题：提供曝光设备，以解决由于身体结构的弹性变形而导致的聚焦精度降低的问题以及由于使用用于读取的测量计而产生的基板处理的纸张数量的劣化前方区域。解决方案：曝光设备包括：使用基板台或原版平台的位置实时地计算主体结构弹性变形时的身体结构的位置偏移量和聚焦变化量的装置，并且预测和校正位置偏移量和焦点变化量。当计算出焦点变化量的预测校正量时，对身体结构施加强制作用力，以测量身体结构的位移量，同时，投影光学系统与衬底台之间的相对位置或测量投影光学系统和原版平台之间的相对高度，并对相对位置或相对高度进行回归分析以校正校正量。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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