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21. 发明专利

JP2017066530A 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板およびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017066530A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2016199397
申请日：2016-10-07
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：池永知加雄 , 中山浩明 , 池田和成 , 初田千秋 , 大内詩子
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C21D1/26 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/04 , C23C14/58 , C23F1/00 , H01L51/50 , H01L51/56 , H05B33/10 , H01L51/0011
摘要：【課題】第1面上に狭い幅のレジストパターンを安定に設けることができる金属板を提供する。【解決手段】金属板の製造方法は、ニッケルを含む鉄合金からなる板材を準備する準備工程を備えている。板材から得られる金属板の第1面の組成分析を、X線光電子分光法を用いて実施した結果として得られる、ニッケル酸化物のピーク面積値とニッケル水酸化物のピーク面積値との和をA1とし、鉄酸化物のピーク面積値と鉄水酸化物のピーク面積値との和をA2とする場合、A1/A2が0.4以下になっている。【選択図】図10

22. 发明专利

JP6087267B2 蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法有权
标题翻译：汽相沉积设备，沉积法和方法用于制造有机电致发光元件
公开(公告)号：JP6087267B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2013253503
申请日：2013-12-06
申请人：シャープ株式会社 , キヤノントッキ株式会社
发明人：小林勇毅 , 菊池克浩 , 川戸伸一 , 越智貴志 , 井上智 , 松永和樹 , 松本栄一 , 市原正浩
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/54
CPC分类号： H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/54 , C23C16/042 , C23C16/50 , H01L51/001 , H01L51/0012 , H01L2227/323 , H01L2251/533 , H01L51/56

23. 发明专利

JP2017500447A 処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法审中-公开
标题翻译：用于处理装置，用于传送所述蒸发源，特别是处理装置的设备，包括在其中的有机材料的方法，和从处理真空室保持在真空室或维护真空室向处理真空室
公开(公告)号：JP2017500447A
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2016537025
申请日：2014-08-19
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated , アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：ホセマヌエルディエゲス−カンポ， , ホセマヌエルディエゲス−カンポ， , シュテファンバンゲルト， , シュテファンバンゲルト， , ウーヴェシュースラー， , ウーヴェシュースラー， , ディーターハース， , ディーターハース，
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/246 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C14/566 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L51/56
摘要：処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置が記載される。処理装置は、処理真空チャンバと;有機材料用の少なくとも1つの蒸発源であって、少なくとも1つの蒸発源が、有機材料を蒸発させるように構成された少なくとも1つの蒸発るつぼ、及び少なくとも1つの蒸発るつぼと流体連通している、一又は複数の排出口を有する少なくとも1つの分配管とを含む、少なくとも1つの蒸発源と;処理真空チャンバと連結された保守真空チャンバであって、少なくとも1つの蒸発源を処理真空チャンバから保守真空チャンバへ及び保守真空チャンバから処理真空チャンバへ移送することができる、保守真空チャンバとを含む。【選択図】図2
摘要翻译：对于处理装置，特别是所描述的处理设备，用于在其中包含的有机材料的设备。处理装置包括：处理真空室;至少一个蒸发源为有机材料，至少一种蒸发源，至少一个蒸发坩锅被配置以蒸发的有机材料，和至少一个蒸发并通过坩埚的流体连通，以及至少一个具有一个或多个排放口，至少一个蒸发源和分配管;一个维护真空室连接到处理真空室，至少一个蒸发器源可以从处理真空室传送到处理腔室的真空，以保持真空室和从维护真空腔室，以及维护真空室中。 .The

24. 发明专利

JP2016204756A 蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法审中-公开
标题翻译：用于制造沉积掩模和沉积掩模的方法
公开(公告)号：JP2016204756A
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：JP2016141999
申请日：2016-07-20
申请人：三星ディスプレイ株式會社 , Samsung Display Co.,Ltd.
发明人：朱星中 , 許明洙 , 鄭石源 , 張 ▲詰▼ ▲文▼ , 李成用 , 趙 ▲詰▼ 来 , 韓仁愛
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4404 , B05C21/005 , C23C14/042 , C23C16/042 , G03F1/00 , H01F41/22 , H01L51/0011
摘要：【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法(atomic layer deposition、ALD)により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。【選択図】図3
摘要翻译：公开的是上述狭缝的尺寸的用于精细地控制沉积掩模的制备和沉积掩模的方法。沉积掩模根据本发明，所述面罩主体，其中多个通过形成狭缝的形成，和原子层沉积（原子层沉积，ALD）通过蒸发涂覆在荫罩主体的整个表面上包括层。点域

25. 发明专利

JP5846287B1 フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法有权
标题翻译：一种制造框蒸镀掩模，所述张紧装置，设备和方法用于制造有机半导体器件的有机半导体器件的方法
公开(公告)号：JP5846287B1
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2014260435
申请日：2014-12-24
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 武田利彦 , 本間良幸 , 岡本英介
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
CPC分类号： H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L51/0021 , H01L27/3211 , H01L51/5012 , H01L51/5221 , H01L51/56
摘要：【課題】フレームにねじれが抑制された蒸着マスクが固定されるフレーム付き蒸着マスク及び蒸着マスクを引っ張る時に生じるねじれを抑制できる引張装置の提供。【解決手段】スリットが形成された金属マスクとスリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスク100とが積層される蒸着マスク100を準備する工程と、準備工程で準備された蒸着マスク100の一部を保持部材80a,80bにより保持し、保持部材80a,80bにより保持された蒸着マスク100をその外方に向かって引っ張る工程と、引張工程後に貫通孔が形成されたフレームに、引っ張られた状態の蒸着マスク100を固定する工程とを含み、引張工程では引っ張られた状態の蒸着マスク100に対して又は蒸着マスク100を引っ張ると共に、蒸着マスク100の回転調整及び移動調整のいずれか一方又は双方の調整を行うフレーム付き蒸着マスク100の製造方法。【選択図】図8
摘要翻译：以提供扭转，能够抑制当沉积掩模扭曲帧被抑制拉动成帧沉积掩模和沉积掩模被固定时发生的张紧装置。所述的树脂的步骤掩模100具有对应于该图案，以产生上，其中所述狭缝与所述金属掩膜与所述狭缝重合以制备沉积掩模100的位置沉积开口被堆叠，在准备步骤保持所制备的沉积的一部分掩模100构件80A，由80B，保持构件80A，80B通过在外侧保持掩模朝向沉积拉动的步骤100所保持，拉步骤后的通孔形成所述框架，所述拉出并固定所述沉积的状态的步骤掩模100，拉伸拉动或沉积掩模100相对于沉积掩模100与在步骤拉动时，旋转调节和沉积的移动掩模100 任一者或制造成帧沉积掩模100用于调整两者的调整方法。点域8

26. 发明专利

JP5844776B2 装置有权
公开(公告)号：JP5844776B2
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2013155678
申请日：2013-07-26
申请人：株式会社半導体エネルギー研究所
发明人：坂倉真之 , 野田剛司 , 桑原秀明 , 山崎舜平
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/00
CPC分类号： H01L27/3244 , H01L51/0011 , H01L51/5052 , H01L51/5206 , H01L51/5209 , H01L51/5218 , H01L2251/5315 , H01L27/322 , H01L27/3248 , H01L51/56

27. 发明专利

JP2015233019A 発光装置有权
标题翻译：发光装置
公开(公告)号：JP2015233019A
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2015189148
申请日：2015-09-28
申请人：株式会社半導体エネルギー研究所
发明人：藤井照幸 , 山崎舜平
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/22 , H05B33/28 , H05B33/26 , H05B33/12
CPC分类号： H01L27/3251 , G06F1/1637 , G09G3/3225 , H01L25/0753 , H01L27/156 , H01L27/3267 , H01L33/44 , H01L33/502 , H01L51/5012 , H01L51/5237 , H01L51/5246 , H01L51/5253 , G09G2300/08 , G09G2320/0626 , G09G2380/14 , H01L2251/558 , H01L27/3246 , H01L2924/0002 , H01L31/0232 , H01L33/08 , H01L33/60 , H01L51/0011 , H01L51/5262 , Y10T428/24942
摘要：【課題】新規な発光装置を提供する。【解決手段】一画素内に、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第1の有機EL素子と、第2の有機EL素子とを有し、前記第1のトランジスタの第1の端子は、前記第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、前記第1 のトランジスタの第1の端子は、前記第3のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、前記第2のトランジスタの第1の端子は、前記第1の有機EL素子の第1の電極と電気的に接続され、前記第3のトランジスタの第1の端子は、前記第2の有機EL素子の第 1の電極と電気的に接続され、前記第2のトランジスタの第2の端子は、前記第3のトランジスタの第2の端子と電気的に接続される発光装置。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种新颖的发光器件。解决方案：一个像素中的发光器件包括第一晶体管，第二晶体管，第三晶体管，第一有机EL元件和第二有机EL元件。第一晶体管的第一端子电连接到第二晶体管的栅电极，第一晶体管的第一端子电连接到第三晶体管的栅电极，第二晶体管的第一端子电连接到第一有机EL元件的第一电极，第三晶体管的第一端子电连接到第二有机EL元件的第一电极，并且第二晶体管的第二端子电连接到第三晶体管的第二端子。

28. 发明专利

JP5710843B2 マスクユニットおよび蒸着装置有权
标题翻译：掩模单元和沉积设备
公开(公告)号：JP5710843B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2014524668
申请日：2013-04-15
申请人：シャープ株式会社
发明人：越智貴志 , 川戸伸一 , 大崎智文 , 二星学 , 小坂知裕 , 塚本優人 , 菊池克浩
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/04
CPC分类号： C23C16/042 , C23C14/042 , C23C16/44 , H01L51/0011

29. 发明专利

JP2015002175A 有機層蒸着装置及びこれを用いる有機発光ディスプレイ装置の製造方法审中-公开
标题翻译：有机层沉积装置及使用其制造有机发光显示装置的方法
公开(公告)号：JP2015002175A
公开(公告)日：2015-01-05
申请号：JP2014114132
申请日：2014-06-02
申请人：三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. , Samsung Display Co Ltd , 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd.
发明人： HONG JONG-WON
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/24 , H01L51/50
CPC分类号： H01L22/12 , H01L21/67173 , H01L21/67748 , H01L21/6776 , H01L21/68 , H01L21/682 , H01L51/0011 , H01L51/0012 , H01L51/56
摘要：【課題】有機層蒸着装置、これを用いる有機発光ディスプレイ装置の製造方法、及びこれによって製造された有機発光ディスプレイ装置を提供する。【解決手段】大型基板の量産工程にさらに好適であり、高精細のパターニングを可能にし、パターニングスリットシートと移動中の基板との間隔を測定して制御できる有機層蒸着装置、これを用いる有機発光ディスプレイ装置の製造方法及びこれによって製造された有機発光ディスプレイ装置。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种有机层沉积装置，使用该有机发光显示装置的有机发光显示装置的制造方法和由其制造的有机发光显示装置。解决方案：进一步的有机层沉积装置可以通过测量移动中的图案化缝隙片和基底之间的间隙来控制适合大尺寸基底的大规模生产工艺并且能够进行高清晰度图案化的图案化。提供了使用有机层沉积装置制造有机发光显示装置的方法，并且提供了通过这种方法制造的有机发光显示装置。

30. 发明专利

JP2014240507A 制限板ユニットおよび蒸着ユニット並びに蒸着装置有权
标题翻译：限制板单元，蒸气沉积单元和蒸气沉积装置
公开(公告)号：JP2014240507A
公开(公告)日：2014-12-25
申请号：JP2013122785
申请日：2013-06-11
申请人：シャープ株式会社 , Sharp Corp , キヤノントッキ株式会社 , Canon Tokki Corp
发明人： KOBAYASHI ISATAKE , KIKUCHI KATSUHIRO , KAWATO SHINICHI , INOUE SATOSHI , OCHI TAKASHI , MATSUMOTO EIICHI , ICHIHARA MASAHIRO
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/042 , H01L51/0011 , H01L51/56
摘要：【課題】異常成膜の発生を防止することができる蒸着ユニットを提供する。【解決手段】蒸着ユニット(1)は、蒸着マスク(50)と蒸着源(10)と制限板ユニット(20)とを備えている。制限板ユニット(20)は、X軸方向に離間して設けられた複数の第1の制限板(32)と、平面視で第1の制限板(32)上に、X軸方向に離間して設けられた複数の第2の制限板(42)とを備え、第2の制限板(42)は、X軸方向に、第1の制限板(32)1枚につき少なくとも2枚設けられている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止发生异常沉积的气相沉积单元。解决方案：气相沉积单元（1）包括气相沉积掩模（50），气相沉积源（10）和限制板单元 20）。限位板单元（20）包括在X轴方向上分开设置的多个第一限位板（32）和在第一限位板上沿X轴方向分开设置的多个第二限位板（42） 32）在平面图中。第二限制板（42）在X轴方向上每个第一限位板（32）设置为至少两个。

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