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1. 发明专利

JP6137727B2 製袋機有权
公开(公告)号：JP6137727B2
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：JP2013063359
申请日：2013-03-26
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：本間良幸
IPC分类号： B31B70/64 , B31B70/60

2. 发明专利

JP5857846B2 検反装置有权
标题翻译：验布设备
公开(公告)号：JP5857846B2
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：JP2012078217
申请日：2012-03-29
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：本間良幸
IPC分类号： D06H3/06

3. 发明专利

JP6176481B2 製袋機および製袋方法有权
公开(公告)号：JP6176481B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2013153572
申请日：2013-07-24
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：本間良幸
IPC分类号： B31B70/74 , B31B70/10

4. 发明专利

JP2016094667A フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法审中-公开
标题翻译：具有框架的蒸气沉积掩模的制造方法，绘图装置，有机半导体元件的制造装置和有机半导体元件的制造方法
公开(公告)号：JP2016094667A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：JP2015230369
申请日：2015-11-26
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 武田利彦 , 本間良幸 , 岡本英介
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
摘要：【課題】蒸着マスクを引っ張るときに生ずる「ねじれ」を抑制する引張装置、「ねじれ」が抑制されたフレーム付き蒸着マスク、並びに有機半導体素子を精度よく製造できる製造装置や製造方法の提供。【解決手段】フレーム付き蒸着マスク100の製造方法において、スリットが形成された金属マスクと、スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクからなる蒸着マスク100を準備する準備工程と、蒸着マスク100の一部を保持部材80a,bにより保持し、蒸着マスク100をその外方に向かって引っ張る工程と、引張工程後に、引っ張られた状態の蒸着マスク100をフレームに固定する工程と、を含み、引張工程では、引っ張られた状態の蒸着マスクに対して、又は蒸着マスクを引っ張るとともに、蒸着マスクの回転調整、及び移動調整のいずれか一方、又は双方の調整が行われるフレーム付き蒸着マスク100の製造方法。【選択図】図8
摘要翻译：要解决的问题：提供：抑制在蒸镀掩模的拉拔中发生的“扭转”的拉拔装置; 具有框架的蒸镀掩模，其中“捻”被抑制; 以及能够以高精度制造有机半导体元件的制造装置和制造方法。解决方案：具有框架的蒸镀掩模100的制造方法包括：准备由金属掩模构成的蒸镀掩模100的准备工序在与狭缝重叠的位置处具有形成在其中的狭缝和具有对应于气相沉积形成图案的开口的树脂掩模; 将保持部件80a，80b保持一部分蒸镀掩模100并向外拉动蒸镀掩模100的拉拔工序; 以及在拉伸步骤之后的拉伸状态下将气相沉积掩模100固定在框架上的定影步骤。在拉伸步骤中，在拉伸状态下的蒸镀掩模或蒸镀掩模的拉制中，进行蒸镀掩模的旋转调整和移动调整中的任一个或两者。图示：图8

5. 发明专利

JP5846287B1 フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法有权
标题翻译：一种制造框蒸镀掩模，所述张紧装置，设备和方法用于制造有机半导体器件的有机半导体器件的方法
公开(公告)号：JP5846287B1
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2014260435
申请日：2014-12-24
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 武田利彦 , 本間良幸 , 岡本英介
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
CPC分类号： H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L51/0021 , H01L27/3211 , H01L51/5012 , H01L51/5221 , H01L51/56
摘要：【課題】フレームにねじれが抑制された蒸着マスクが固定されるフレーム付き蒸着マスク及び蒸着マスクを引っ張る時に生じるねじれを抑制できる引張装置の提供。【解決手段】スリットが形成された金属マスクとスリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスク100とが積層される蒸着マスク100を準備する工程と、準備工程で準備された蒸着マスク100の一部を保持部材80a,80bにより保持し、保持部材80a,80bにより保持された蒸着マスク100をその外方に向かって引っ張る工程と、引張工程後に貫通孔が形成されたフレームに、引っ張られた状態の蒸着マスク100を固定する工程とを含み、引張工程では引っ張られた状態の蒸着マスク100に対して又は蒸着マスク100を引っ張ると共に、蒸着マスク100の回転調整及び移動調整のいずれか一方又は双方の調整を行うフレーム付き蒸着マスク100の製造方法。【選択図】図8
摘要翻译：以提供扭转，能够抑制当沉积掩模扭曲帧被抑制拉动成帧沉积掩模和沉积掩模被固定时发生的张紧装置。所述的树脂的步骤掩模100具有对应于该图案，以产生上，其中所述狭缝与所述金属掩膜与所述狭缝重合以制备沉积掩模100的位置沉积开口被堆叠，在准备步骤保持所制备的沉积的一部分掩模100构件80A，由80B，保持构件80A，80B通过在外侧保持掩模朝向沉积拉动的步骤100所保持，拉步骤后的通孔形成所述框架，所述拉出并固定所述沉积的状态的步骤掩模100，拉伸拉动或沉积掩模100相对于沉积掩模100与在步骤拉动时，旋转调节和沉积的移动掩模100 任一者或制造成帧沉积掩模100用于调整两者的调整方法。点域8

6. 发明专利

JP2019116690A 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019116690A
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：JP2019075808
申请日：2019-04-11
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 岡本英介 , 本間良幸 , 武田利彦
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/04
摘要：【課題】簡便な方法で蒸着マスクを引っ張ることができる蒸着マスクの引張方法、及びこの引張方法を用いたフレーム付き蒸着マスクの製造方法、並びに有機半導体素子を精度よく製造することができる有機半導体素子の製造方法や、これらの方法に用いられる引張装置を提供すること。【解決手段】スリット15が形成された金属マスク10と、当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部25が形成された樹脂マスク20とが積層されてなる蒸着マスク100の引張方法において、蒸着マスク100の一方の面上に引張補助部材50を重ね、蒸着マスク100の一方の面と引張補助部材50とが重なる部分の少なくとも一部において、蒸着マスクに引張補助部材を固定し、蒸着マスク100に固定されている引張補助部材50を引っ張ることにより、当該引張補助部材50に固定されている蒸着マスクを引っ張ることで上記の課題を解決する。【選択図】図12

7. 发明专利

JP2016001267A 模型、製作システム、情報処理装置、製作方法、情報処理方法、プログラム、記録媒体审中-公开
标题翻译：模型，制造系统，信息处理设备，制造方法，信息处理方法，程序和记录介质
公开(公告)号：JP2016001267A
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：JP2014121481
申请日：2014-06-12
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：林卓治 , 本間良幸
IPC分类号： B29C67/00 , G09B23/28
摘要：【課題】構造的に補強された模型等を提供する。【解決手段】臓器模型3は、臓器部31、臓器部31の内部から外部へと突出する血管部32等を有する。臓器模型3は3Dプリンタ7を用いて製作される。臓器部31はモデル材71によって形成され、臓器部31の内部および外部の血管部32a、32bはサポート材72により形成される。臓器外の血管部32bは、モデル材71からなる補強部34によって覆われる。補強部34は臓器部31と接続し、これにより血管部32bが補強される。【選択図】図8
摘要翻译：要解决的问题：提供结构上增强的模型。解决方案：器官模型3包括器官部分31和从器官部分31的内部突出到外部的血管部分32。器官模型3通过使用3-D打印机7制造。器官部31由模型材料71形成，并且器官部31的内部和外部的血管部分32a和32b由支撑材料72形成。器官外部的血管部分32b覆盖有由模型材料71形成的加强部分34.加强部分34与器官部分31连接并加强血管部分32b。

8. 发明专利

JP2015200019A 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置有权
标题翻译：用于拉伸沉积掩模的方法，用于制造具有框架的沉积掩模的方法，用于制造有机半导体元件的方法和拉伸单元
公开(公告)号：JP2015200019A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015067153
申请日：2015-03-27
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 岡本英介 , 本間良幸 , 武田利彦
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011 , H01L27/3211
摘要：【課題】簡便な方法で蒸着マスクを引っ張ることができる蒸着マスクの引張方法、及びこの引張方法を用いたフレーム付き蒸着マスクの製造方法、並びに有機半導体素子を精度よく製造することができる有機半導体素子の製造方法や、これらの方法に用いられる引張装置を提供すること。【解決手段】スリット15が形成された金属マスク10と、当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部25が形成された樹脂マスク20とが積層されてなる蒸着マスク100の引張方法において、蒸着マスク100の一方の面上に引張補助部材50を重ね、蒸着マスク100の一方の面と引張補助部材50とが重なる部分の少なくとも一部において、蒸着マスクに引張補助部材を固定し、蒸着マスク100に固定されている引張補助部材50を引っ張ることにより、当該引張補助部材50に固定されている蒸着マスクを引っ張ることで上記の課題を解決する。【選択図】図12
摘要翻译：要解决的问题：提供：能够通过简单的方法拉伸沉积掩模的用于拉伸沉积掩模的方法; 使用拉伸方法制造具有框架的沉积掩模的方法; 一种制造有机半导体元件的方法，能够精确地制造有机半导体元件; 以及用于这些方法的拉伸单元。解决方案：一种拉伸沉积掩模的方法，该沉积掩模通过在具有对应于通过气相沉积形成的图案形成的开口25的树脂掩模20上层压具有狭缝15的金属掩模10而获得叠加在狭缝上的方法包括：将叠层辅助部件50叠加在沉积掩模100的一个表面上; 在拉伸辅助部件50的至少一部分上叠加在沉积掩模100的一个表面上，将拉伸辅助部件固定到沉积掩模上; 以及通过拉伸固定到沉积掩模100的拉伸辅助构件50来拉伸固定到拉伸辅助构件50的沉积掩模。

9. 发明专利

JP6844646B2 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置有权
公开(公告)号：JP6844646B2
公开(公告)日：2021-03-17
申请号：JP2019075808
申请日：2019-04-11
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 岡本英介 , 本間良幸 , 武田利彦
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/04

10. 发明专利

JP6511908B2 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置有权
公开(公告)号：JP6511908B2
公开(公告)日：2019-05-15
申请号：JP2015067153
申请日：2015-03-27
申请人：大日本印刷株式会社
发明人：小幡勝也 , 岡本英介 , 本間良幸 , 武田利彦
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04

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