专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

JP2010171452A Electron beam exposure system 有权
标题翻译：电子束曝光系统
公开(公告)号：JP2010171452A
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：JP2010088024
申请日：2010-04-06
申请人： Mapper Lithography Ip Bv , マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人： WIELAND JAN-JACO MARCO , KAMPHERBEEK BERT JAN , KRUIT PIETER , ALEXANDER HENDRIK VINCENT VAN VEEN
IPC分类号： H01L21/027 , A61N5/00 , G01Q30/02 , G01Q30/08 , G03B1/00 , H01J37/08 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam exposure system. SOLUTION: The electron beam exposure system transfers a pattern onto the surface of a target (14). The electron beam exposure system includes: a beamlet generator generating a plurality of electron beamlets (5a, 5b); a modulation array that includes a plurality of modulators modulating intensity of the electron beamlets and receives the plurality of electron beamlets; a controller connected to the modulation array for controlling the respective modulators independently; a regulator operatively connected to the respective modulators so that control signals of the respective modulators are adjusted individually; a convergent electron optical system including an array of electrostatic lenses (7), where each focuses a corresponding and individual beamlet transmitted by the modulation array on a section smaller than 300 nm; and a target holder for holding the target on an exposed surface of the pattern where the pattern is transferred in a first convergent surface of the convergent electron optical system. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供电子束曝光系统。解决方案：电子束曝光系统将图案传送到目标（14）的表面上。电子束曝光系统包括：产生多个电子束（5a，5b）的子束发生器; 调制阵列，其包括调制电子束强度的多个调制器并接收多个电子子束; 连接到调制阵列的控制器，用于独立控制各个调制器; 调节器，其可操作地连接到各个调制器，使得各个调制器的控制信号被单独地调节; 包括静电透镜阵列（7）的会聚电子光学系统，其中每个将由调制阵列传输的相应和单独的子束聚焦在小于300nm的部分上; 以及目标保持器，用于将目标物保持在会聚电子光学系统的第一会聚表面中的图案转印的图案的暴露表面上。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

12. 发明专利

JP2014238402A 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置有权
标题翻译：充电颗粒光束光刻系统和目标定位装置
公开(公告)号：JP2014238402A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2014136143
申请日：2014-07-01
申请人：マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. , Mapper Lithography Ip Bv
发明人： JERRY PEIJSTER , GUIDO DE BOER
IPC分类号： G12B5/00 , G03F7/20 , G12B17/02 , H01J37/305 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/026 , H01J2237/202 , H01J2237/304
摘要：【課題】荷電粒子ビームリソグラフィシステムのために最適化されたターゲット位置決め装置を使用する動作方法を提供する。【解決手段】ターゲット3上に荷電粒子ビーム2を投影するための真空チャンバ50に配置され、荷電粒子ビーム2を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム4と、ターゲット3を保持するためのキャリア51及び偏向方向とは異なる第1の方向に沿ってキャリア51を保持し移動させるためのステージ52を有するターゲット位置決め装置5と、を具備し、このターゲット位置決め装置5は、荷電粒子光学カラム4に対する第1の方向にステージ52を移動させるための第1のアクチュエータ53を有し、キャリア51は、ステージ52に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置5は、第1の相対位置にステージ52に対してキャリア51を保持するための保持手段を有する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种使用针对带电粒子束光刻系统优化的目标定位装置的操作方法。解决方案：带电粒子束光刻系统包括：带电粒子光学柱4，设置在真空室50中，用于突出带电粒子束2到目标3上，该列包括用于使带电粒子束2在偏转方向上偏转的偏转装置; 以及包括用于保持目标3的载体51的目标定位装置5和用于沿着与偏转方向不同的第一方向保持和移动载体51的台52。目标定位装置5具有第一致动器53，用于相对于带电粒子光学柱4在第一方向上移动平台52; 并且载体51被设置为在平台52上可移动。目标定位装置5具有用于将托架51保持在相对于平台52的第一相对位置的保持装置。

13. 发明专利

JP2014039048A Lithography system, method of clamping and wafer table 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY SYSTEM，METHOD OF CLAMPING AND WAFER TABLE
公开(公告)号：JP2014039048A
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：JP2013193589
申请日：2013-09-18
申请人： Mapper Lithography Ip Bv , マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人： GUIDO DE BOER , DANSBERG MICHEL PIETER , KRUIT PIETER
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/707 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01L21/6875
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography system for projecting an image or an image pattern on a target such as a wafer.SOLUTION: A target is included in the system by means of a target table 2, and a clamping means is present for clamping the target on the table. The clamping means includes a layer of a stationary liquid 3 included at such a predetermined thickness between the target and the target table that a pressure drop Pcap arises by the material of the liquid and the material of the respective contacting faces A, B of the target 1 and the target table 2 between the target and the target table.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于将图像或图像图案投影在诸如晶片的靶上的光刻系统。解决方案：目标通过目标台2包括在系统中，并且夹持装置用于将目标夹在桌子上。夹紧装置包括在靶和目标台之间以预定厚度包括的固定液体3的层，由液体的材料和目标的各个接触面A，B的材料产生压降Pcap 1和目标表2之间的目标表。

14. 发明专利

JP2013140998A Small beam blanker structure 有权
标题翻译：小波纹坯布结构
公开(公告)号：JP2013140998A
公开(公告)日：2013-07-18
申请号：JP2013024809
申请日：2013-02-12
申请人： Mapper Lithography Ip Bv , マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人： JAN JACO WEILAND , ALEXANDER HENDRIK VINCENT VAN VEEN
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3007 , H01J2237/0492 , H01J2237/10 , H01J2237/15
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography system which allows for high data speed transmission of control signals to individual deflectors.SOLUTION: The charged particle multiple small beam lithography system for exposing a target by using a plurality of small beams includes a beam generator generating a plurality of small beams of charged particles, a small beam blanker for patterning the plurality of small beams, and a small beam projector for projecting the plurality of small beams thus patterned onto the surface of the target. The system is further provided with a deflection device having a plurality of memory cells. Each memory cell is provided with a memory element, and connected with the switching electrode of the deflector.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光刻系统，其允许将控制信号高速传输到各个偏转器。解决方案：用于通过使用多个小波束曝光目标的带电粒子多光束光刻系统包括产生多个小的带电粒子束，用于图形化多个小光束的小束消隐器，以及用于将如此构图的多个小光束投影到目标表面上的小射束投影仪。该系统还设置有具有多个存储单元的偏转装置。每个存储单元设置有存储元件，并与偏转器的开关电极连接。

15. 发明专利

JP2012238901A Lithography system 有权
公开(公告)号：JP2012238901A
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：JP2012178877
申请日：2012-08-10
申请人： Mapper Lithography Ip Bv , マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人： MARCO JAN-JACO WIELAND , KRUIT PIETER , JOHANNES CHRISTIAAN VAN'T SPIJKER , REMCO JAGER
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography system.SOLUTION: A maskless lithography system for transferring a pattern onto a surface of a target, comprises: at least one beam generator for generating a plurality of small beams; modulation means comprising a plurality of modulators for modulating magnitude of the small beam; and a control unit for controlling each of the modulators. The control unit generates pattern data and transmits the pattern data to the modulation means for controlling the magnitude of each small beam. The control unit comprises: at least one data storage for storing the pattern data; at least one readout unit for reading out the pattern data from the data storage; at least one data converter for converting the pattern data that is read out from the data storage into at least one modulated light beam; and at least one optical transmitter for transmitting at least one modulated light beam to the modulation means.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式