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1. 发明公开

EP4149719A1 LABOR-TELLERSCHLEIFGERÄT, ERSATZSCHLEIFSCHEIBE UND VERWENDUNG EINER SCHLEIFSCHEIBE 审中-实审
公开(公告)号：EP4149719A1
公开(公告)日：2023-03-22
申请号：EP21726362.3
申请日：2021-05-10
申请人： ATM Qness GmbH
发明人： HÖLL, Robert
IPC分类号： B24B7/04 , B24B7/16 , B24B47/10 , B24B41/06

2. 发明公开

EP3184241A1 SURFACE TREATMENT OF TURBOMACHINERY 审中-公开
标题翻译：涡轮机械的表面处理
公开(公告)号：EP3184241A1
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：EP16205049.6
申请日：2016-12-19
申请人： General Electric Company
发明人： COLLETTI, Andrew Joseph , WILLIAMS, Bryan Edward
IPC分类号： B24B7/04 , B24B7/16 , B27C1/00 , B23C3/00 , B23D45/00 , B24C1/00 , B26D3/00 , B24B41/06 , F01D7/00 , F01D25/28 , F01D5/02 , B24B27/00 , B24B39/06 , B23C1/00
CPC分类号： B24B39/06 , B23P15/02 , B24B7/04 , B24B7/16 , B24B27/0038 , B24B27/0092 , B24B41/061 , B24B41/067 , B26F3/004 , F01D5/005 , F01D5/02 , F05D2220/31 , F05D2220/32 , F05D2230/10 , F05D2230/90
摘要： Embodiments of the present disclosure provide surface treatment tools (200), methods, and/or repaired turbomachine components (210). A surface treatment tool (200) according to the present disclosure can include a lathe assembly (202) having a lathe chuck (204) for receiving a component (210) thereon, wherein the lathe chuck (204) rotates the component (210) about a first axis of rotation, and wherein the component (210) includes an exposed axial target surface (216); and burnishing tool (320) coupled to the lathe assembly (202) and including a burnishing surface (322) thereon, coupled to a drive system (208), wherein the burnishing surface (322) rotates about a second axis of rotation substantially non-parallel with the first axis of rotation, such that the burnishing surface (322) selectively contacts the target surface (216) of the component (210) to yield a polished target surface (216).
摘要翻译：本公开的实施例提供表面处理工具（200），方法和/或修理的涡轮机部件（210）。根据本公开的表面处理工具（200）可以包括具有用于在其上接收组件（210）的车床卡盘（204）的车床组件（202），其中车床卡盘（204）围绕组件第一旋转轴线，并且其中所述部件（210）包括暴露的轴向目标表面（216）;以及其中，和抛光工具（320），所述抛光工具（320）联接到所述车床组件（202）并且包括其上的抛光表面（322），所述抛光工具联接到驱动系统（208），其中所述抛光表面（322）围绕第二旋转轴线旋转，平行于第一旋转轴线，使得抛光表面（322）选择性地接触部件（210）的目标表面（216）以产生抛光目标表面（216）。

3. 发明公开

EP3184240A1 SURFACE TREATMENT OF TURBOMACHINERY 审中-公开
标题翻译：涡轮机械的表面处理
公开(公告)号：EP3184240A1
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：EP16205048.8
申请日：2016-12-19
申请人： General Electric Company
发明人： COLLETTI, Andrew Joseph , BADDING, Bruce John , WILLIAMS, Bryan Edward
IPC分类号： B24B7/04 , B24B7/16 , B27C1/00 , B23C3/00 , B23D45/00 , B24C1/00 , B26D3/00 , B24B41/06 , F01D7/00 , F01D25/28 , F01D5/02 , B24B27/00 , B24B39/06
CPC分类号： F01D5/025 , B23C3/00 , B23D45/00 , B23D45/003 , B23D45/046 , B23P15/006 , B24B7/04 , B24B7/16 , B24B19/26 , B24B27/0038 , B24B27/0092 , B24B39/06 , B24B41/061 , B24B41/067 , B24C1/00 , B26D3/00 , B27C1/00 , B27C7/00 , B27C7/04 , F01D5/02 , F01D7/00 , F01D25/285 , F05D2230/10 , F05D2230/90 , F05D2240/20 , F05D2240/24 , F05D2300/13 , F05D2300/131 , F05D2300/132
摘要： Embodiments of the present disclosure provide surface treatment tools (200), methods, and/or treated turbomachine components (210). A surface treatment tool (200) according to the present disclosure can include a lathe assembly (202) having a lathe chuck (204) for receiving a component (210) thereon, wherein the lathe chuck (204) rotates the component (210) about a first axis of rotation, and wherein the component (210) includes an exposed axial target surface (216); and a sander (220) coupled to the lathe assembly (202) and including a sanding surface (222) thereon, coupled to a drive system, wherein the sanding surface (222) is oriented along a second axis substantially non-parallel with the first axis of rotation, such that the sanding surface (222) selectively contacts the target surface (216) of the component (210) to yield a polished target surface (216).
摘要翻译：本公开的实施例提供了表面处理工具（200），方法和/或经处理的涡轮机械部件（210）。根据本公开的表面处理工具（200）可以包括具有用于在其上接收组件（210）的车床卡盘（204）的车床组件（202），其中车床卡盘（204）围绕组件第一旋转轴线，并且其中所述部件（210）包括暴露的轴向目标表面（216）;以及其中，和联接到所述车床组件（202）并且在其上包括磨削表面（222）的磨砂机（220），所述磨削表面（222）联接到驱动系统，其中所述磨削表面（222）沿着基本不平行于所述第一轴线使得砂磨表面（222）选择性地接触部件（210）的目标表面（216）以产生抛光目标表面（216）。

4. 发明公开

EP2319657A1 Planschleifmaschine mit Zusatzantrieb für Werkstücke in Form eines Umschlingungsgetriebes 审中-公开
标题翻译： Form eines Umschlingungsgetriebes的Planchleifmaschine mit ZusatzantriebfürWerkstücke
公开(公告)号：EP2319657A1
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：EP09013929.6
申请日：2009-11-06
申请人： Supfina Grieshaber GmbH & Co. KG
发明人： Spengler, Fritz , Winkens, Markus, Dipl.-ing.(FH)
IPC分类号： B24B7/04 , B24B7/16 , B23Q7/02
CPC分类号： B24B7/162 , B24B41/067 , B24B47/04
摘要： Die Erfindung betrifft eine Planschleifmaschine (10), umfassend mindestens eine Schleifscheibe (12), mindestens eine mittels einer Antriebseinrichtung (20) antreibbare Transporteinrichtung (18), welche mindestens zwei Aufnahmebereiche (24) zur Aufnahme jeweils mindestens eines Werkstücks (26a, 26b) aufweist, und mindestens einen Zusatzantrieb zum Antrieb von mindestens zwei Werkstücken (26a, 26b) relativ zu der Transporteinrichtung (18), wobei der Zusatzantrieb in Form eines Umschlingungsgetriebes (36) ausgebildet ist, welches in unterschiedlichen Stellungen der Transporteinrichtung (18) jeweils mit unterschiedlichen Teilmengen der mindestens zwei Werkstücke (26a, 26b) zumindest mittelbar in Wirkverbindung steht.
摘要翻译：表面研磨机（10）设置有砂轮（12），具有用于接收工件（26a，26b）的两个接收区域（24）的驱动装置（20）驱动输送机（18）和备用驱动用于相对于输送机驱动两个工件。带驱动器（36）设有输送机。

5. 发明公开

EP2303506A1 APPARATUS AND METHOD FOR POLISHING SEMI-CONDUCTOR DICE 审中-公开
标题翻译：装置和方法进行抛光半导体芯片
公开(公告)号：EP2303506A1
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：EP09743292.6
申请日：2009-04-29
申请人： QUALCOMM INCORPORATED
发明人： MARBLE, Christopher, L.
IPC分类号： B24B7/04 , B24B37/04 , B24B41/06 , B23Q3/00
CPC分类号： B24B7/04 , B24B37/30
摘要： Hands free removal of layers of material simultaneously from a number of dies is accomplished by temporarily positioning a plurality of die holding devices (26) into different segmented open areas (202) of a template (20) mounted over the grinding surface (12). In one embodiment, frictional force imparted to each holding device by the grinding wheel serves to position the holding device against a stop (24) within the confines of each opening. The stop in each segment could be positioned at a different radial distance from the center of the grinding wheel in order to use different portions of the grinding wheel to grind each of the dies. In some embodiments, the segments are offset from each other around the template in order to increase the effective working area of the grinding surface.

6. 发明公开

EP2260975A1 Planschleifmaschine und Verfahren zur planschleifenden Werkstückbearbeitung 有权转让
标题翻译：计划书和Verfahren zur planchleifendenWerkstückbearbeitung
公开(公告)号：EP2260975A1
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：EP09007668.8
申请日：2009-06-10
申请人： Supfina Grieshaber GmbH & Co. KG
发明人： Stöckel, Harald , Winkens, Markus, Dipl.-Ing. (FH)
IPC分类号： B24B7/04 , B24B37/04 , B24B49/02 , B24B7/17
CPC分类号： B24B49/02 , B24B7/17 , B24B41/005
摘要： Die Erfindung betrifft eine Planschleifmaschine (10), umfassend mindestens ein Schleifwerkzeug (12) und einen bewegbar antreibbaren Werkstückhalter (16) zum Halten mindestens eines Werkstücks (20), wobei zumindest ein Abschnitt des Werkstückhalters (16) aus einem Bestückungsbereich (22), in welchem der Werkstückhalter (16) mit mindestens einem Werkstück (20) bestückbar ist, über einen Bearbeitungsbereich (24), in welchem mindestens ein an dem Werkstückhalter (16) gehaltenes Werkstück (20) in Eingriff mit dem Schleifwerkzeug (12) steht, in einen Entnahmebereich (26) zum Entnehmen eines bearbeiteten Werkstücks (20) bewegbar ist, wobei der Entnahmebereich (26) eine Handhabungseinrichtung (38) zur Steuerung der Bewegung eines bearbeiteten Werkstücks (20) umfasst, wobei die Handhabungseinrichtung (38) in eine Entnahmestellung und in eine Transportstellung überführbar ist, wobei in der Entnahmestellung eine Entnahme des bearbeiteten Werkstücks (20) aus dem Werkstückhalter (16) erfolgt und wobei in der Transportstellung das bearbeitete Werkstück (20) an dem Werkstückhalter (16) gehalten bleibt und dem Bearbeitungsbereich (24) unter Beibehaltung einer Bewegungsrichtung (50) des Werkstückhalters (16) erneut zuführbar ist.
摘要翻译：表面磨床（10）具有用于保持工件（20）的研磨工具和可移动被驱动的工件保持器（16）。接收区域（26）具有用于控制加工的工件的移动的搬运装置（38）。处理装置承载在接收位置和运送位置。还包括用于表面研磨工件加工的方法的独立权利要求。

7. 发明公开

EP2260974A1 Werkstückhalter für eine Planschleifmaschine 有权
标题翻译： Werkstückhalterfüreine Planchleifmaschine
公开(公告)号：EP2260974A1
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：EP09007670.4
申请日：2009-06-10
申请人： Supfina Grieshaber GmbH & Co. KG
发明人： Bergmann, Torsten
IPC分类号： B23Q7/02 , B24B7/04 , B24B7/17 , B24B37/04 , B24B41/06
CPC分类号： B24B7/04 , B24B7/17 , B24B41/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Werkstückhalter (10) für eine Planschleifmaschine, mit einer zentrischen Werkstückhalterachse (12), um welche der Werkstückhalter (10) drehbar antreibbar ist, mit mindestens einer Werkstückaufnahme (26) zur Aufnahme mindestens eines Werkstücks (32), und mit mindestens zwei relativ zueinander bewegbaren Halterteilen (18, 20), welche gemeinsam die mindestens eine Werkstückaufnahme (26) begrenzen und welche mittels einer Verbindungseinrichtung relativ zueinander fixierbar sind.
摘要翻译：工件保持器（10）具有可旋转地驱动工件保持器的中心工件保持轴（12）。工件插座（26）设置用于接收工件（32）。两个保持件（18,20）相互移动在一起，并共同限定一个保持件。保持件通过连接装置相对固定在一起。

8. 发明公开

EP1541283A4 OPTICAL DISK POLISHING DEVICE 审中-公开
标题翻译：研磨装置用于光学镜片
公开(公告)号：EP1541283A4
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：EP02807762
申请日：2002-09-02
申请人： ELM INC
发明人： MIYAHARA TAKAKAZU , GENOZONO JIRO
IPC分类号： B24B7/16 , B24B7/22 , B24B29/04 , B24D13/14 , G11B23/50 , B24B7/04
CPC分类号： B24B29/04 , B24B7/16 , B24B7/228 , B24D13/147 , G11B23/505
摘要： An optical disk polishing device comprising a flange (24) for holding a polishing body (20), e.g. a sand paper, a backup material (21) interposed between the polishing body (20) and the flange (24), a rotary table (12) for holding a body being polished, i.e. an optical disk (10), a mechanism (28) for pressing the polishing body (20) against the optical disc (10) with a specified pressing force required for polishing, and motors (26, 14) for driving the flange (24) and the rotary table (12) rotationally, wherein the amount of deformation of the backup material (21) is set in the range of 0.05-0.3 mm when the specified pressure is applied. The pressing force of the polishing body (20) is thereby applied substantially uniformly over the entire polishing surface of the optical disc (10) and occurrence of surface shear drop is suppressed around the optical disc.

9. 发明授权

EP1647359B1 Polishing pad 有权
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：EP1647359B1
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：EP05022097.9
申请日：2005-10-11
申请人： JSR Corporation
发明人： Sakurai, Fujio , Koumura, Tomoo , Igarashi, Yoshinori
IPC分类号： B24B7/04 , B24B29/00 , B24B37/04 , B24D3/00 , B24D3/34
CPC分类号： B24B7/04 , B24B29/00 , B24B37/04 , B24D3/002 , B24D3/34

10. 发明公开

EP0916452A3 Method and apparatus for polishing semiconductor wafers 有权
标题翻译：用于抛光半导体晶片的方法和装置
公开(公告)号：EP0916452A3
公开(公告)日：2001-01-31
申请号：EP98309218.0
申请日：1998-11-11
申请人： LAM Research Corporation
发明人： Engdahl, Erik H. , Ferri, Edward T., Jr. , Krusell, Wilbur C. , Jairath, Rahul , Green, Randall L. , Pant, Anl
IPC分类号： B24B37/04 , B24B41/00 , B24B5/00 , B24B7/04 , B24B29/00
CPC分类号： H01L21/31053 , B24B21/04 , B24B21/10 , B24B37/04 , B24B37/345 , B24B41/005
摘要： A system and method for planarizing a plurality of semiconductor wafers is provided. The method includes the steps of processing each wafer along the same process path using at least two polishing stations to each partially planarize the wafers. The system includes an improved process path exchanging a detachable wafer carrying head with spindles at each processing point and conveying the detached wafer carrying heads in a rotary index table between processing points. The system also provides for improved polishing accuracy using linear polishers having pneumatically adjustable belt tensioning and aligning capabilities.

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