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1. 发明公开

EP3075491A4 METHOD FOR GRINDING SPRING WITH HIGH QUALITY AND HIGH EFFICIENCY 有权
标题翻译： VERFAHREN ZUM SCHLEIFEN EINER FEDER MIT HOHERQUALITÄTUND EFFIZIENZ
公开(公告)号：EP3075491A4
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：EP14876702
申请日：2014-05-22
申请人： ZHEJIANG JIADU SPRING MACHINE CO LTD
发明人： YU JIALIN , YU DU , HUANG HUALI
IPC分类号： B24B7/17
CPC分类号： B24B7/167 , B24B7/162 , B24B7/17 , B24B41/04 , B24B41/047 , B24B41/067 , B24B47/00 , B24B47/04
摘要： Disclosed is a method for grinding a spring with high quality and high efficiency, comprising the steps as follows: firstly, at least one of an upper grinding wheel (1) and a lower grinding wheel (2) is configured to comprise an inner grinding wheel (21) and an outer grinding wheel (24), wherein the inner grinding wheel (21) is fitted in the outer grinding wheel (24); the inner grinding wheel (21) or the outer grinding wheel (24) is driven by a transmission mechanism, the inner grinding wheel (21) and the outer grinding wheel (24) rotating in opposite directions; after a complete spring is fed to a space between the upper grinding wheel (1) and the lower grinding wheel (2), the complete spring is moved back and forth in the plane of the grinding wheels; and then the upper grinding wheel (1) is moved downwardly such that two end faces of the spring are ground by the grinding wheels, and when the height of the ground spring meets the requirement, the upper grinding wheel (1) is stopped moving downwardly and is returned to the original point later. Then, the ground spring movement is stopped and it is moved away from the space between the two grinding wheels, i.e., the complete spring is removed. In this way, the spring is ground in a revolving state, which can improve the yield and quality of ground springs, save energy and protect the environment, and result in a low cost of grinding, a simple structure, low cost for manufacturing parts, long persistence in precision of mechanisms, and good stability.
摘要翻译：本发明公开了一种高质量，高效率地研磨弹簧的方法，包括以下步骤：首先，将上砂轮（1）和下砂轮（2）中的至少一个构造成包括内砂轮（21）和外砂轮（24），其中内砂轮（21）安装在外砂轮（24）中; 内砂轮（21）或外砂轮（24）由传动机构驱动，内砂轮（21）和外砂轮（24）沿相反方向旋转; 在完整的弹簧被输送到上砂轮（1）和下砂轮（2）之间的空间后，整个弹簧在砂轮的平面内前后移动; 然后使上磨轮（1）向下移动，使得弹簧的两个端面被磨轮磨削，并且当接地弹簧的高度满足要求时，上磨轮（1）停止向下移动并稍后返回到原始点。然后，停止接地弹簧运动，并将其从两个磨轮之间的空间移开，即，完整的弹簧被移除。这样，弹簧在回转状态下磨削，可以提高接地弹簧的产量和质量，节约能源，保护环境，并且磨削成本低，结构简单，制造零件成本低，机构精度持久性好，稳定性好。

2. 发明公开

EP3120379A1 ABRASIVE PAD AND GLASS SUBSTRATE ABRADING METHOD 无效
标题翻译： SCHLEIFKISSEN UND SCHLEIFEFAHRENFÜRGLASSUBSTRAT
公开(公告)号：EP3120379A1
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：EP15764427.9
申请日：2015-03-17
申请人： 3M Innovative Properties Company
发明人： NAKAMURA, Yoko
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B7/24 , B24B7/17 , B24B7/228 , B24B37/08 , B24B37/105 , B24B37/245 , B24B37/26 , B24D2203/00
摘要： Problem: To provide an abrasive pad and abrading method using same that are capable of extending the life of the abrasive pad when applied to abrading the surface of glass substrates, and that can ensure abrading capability that is appropriate for abrading the surface of glass substrates. Resolution Means: An abrasive pad used for abrading the surface of a glass substrate, that includes a base material layer, and an abrasive layer provided on one side of the base material layer, the abrasive layer including a plurality of pillar shaped abrading portions arranged separated from each other on the base material layer, the abrading portions being made from abrasive material that includes polishing abrasive particles, a filler, and a binder resin, the polishing abrasive particles including abrasive particles and a glass matrix, and the filler including a first filler that fractures or drops out when the surface is being abraded, forming approximately spherical crown shaped recesses in the top face of the abrading portions.
摘要翻译：问题：为了提供一种研磨垫和研磨方法，当使用该研磨垫和研磨方法时，能够延长研磨垫的使用寿命，当用于研磨玻璃基板的表面时，并且可以确保适于研磨玻璃基板表面的研磨能力。分辨装置：用于研磨包括基材层的玻璃基板的表面的研磨垫和设置在基材层的一侧上的研磨层，所述研磨层包括分开设置的多个柱状研磨部所述研磨部由研磨材料制成，所述研磨材料包括研磨磨料颗粒，填料和粘合剂树脂，所述抛光磨料颗粒包括研磨颗粒和玻璃基质，所述填料包括第一填料当表面被磨损时，其断裂或脱落，在研磨部的顶面形成大致球形的冠状凹部。

3. 发明公开

EP2689891A3 Zweischeibenmaschine zur Oberflächenbearbeitung 审中-公开
标题翻译：两个圆盘机进行表面处理
公开(公告)号：EP2689891A3
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：EP13075050.8
申请日：2013-07-25
申请人： FLP Microfinishing GmbH
发明人： Rehfeldt, Thomas
IPC分类号： B24B37/08 , B24B41/02 , B24B7/17 , B23Q1/01
CPC分类号： B24B37/08 , B24B7/17 , B24B41/02
摘要： Es wird eine Zweischeibenmaschine zur Oberflächenbehandlung eines Werkstücks durch Feinschleifen, Läppen oder Polieren beschrieben. Diese besteht aus einem Maschinengestell, mindestens zwei Antrieben (3, 4), zwei durch jeweils einen Antrieb (3, 4) über eine Welle (5, 6) rotativ antreibbaren Arbeitsscheiben (7, 8), nämlich einer unteren Arbeitsscheibe (8) und einer höhenverstellbar darüber angeordneten oberen Arbeitsscheibe (7), sowie aus mindestens einer zwischen den Arbeitsscheiben (7, 8) als Teil einer planetenkinematischen Anordnung bewegbaren Läuferscheibe (18) zur Aufnahme mindestens eines Werkstücks. Zur Vermeidung beziehungsweise deutlichen Verringerung von Schwingungen, wird vorgeschlagen zumindest den Teil (1) des Maschinengestells, an welchem der Antrieb (3) für die obere Arbeitsscheibe (7) festgelegt und die diese Arbeitsscheibe (7) treibende Welle (5) gelagert ist, gemeinsam mit mindestens einem diesen Teil (1) direkt oder mittelbar über den unteren Teil (2) des Maschinengestells auf dem Boden abstützenden vertikalen Abschnitt (11, 12) als eine monolithische Einheit aus einem Hartgestein ausauszubilden.

4. 发明公开

EP3061565A1 Justiervorrichtung für eine Schleifmaschine 有权
标题翻译：用于研磨机的调整装置
公开(公告)号：EP3061565A1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：EP15156368.1
申请日：2015-02-24
申请人： OFFICINA MECCANICA DOMASO S.p.A.
发明人： Kunz, Gabriella
IPC分类号： B24B7/16 , B24B7/17 , B24B49/12
CPC分类号： B24B7/167 , B24B7/17 , B24B49/12
摘要： Justiervorrichtung für eine Schleifmaschine (1), insbesondere Federendenschleifmaschine, wobei die Justiervorrichtung (2) eine Ladeeinheit (3), eine Schleifeinheit (4) und eine Versatzerfassungseinheit (5) umfasst. Die Ladeeinheit (3) hat mindestens einen Ladeteller (31), der um eine Drehachse (B) drehbar gelagert ist und weist eine Vielzahl von Aufnahmeöffnungen (32) zur Aufnahme von Werkstücken (6), insbesondere Schraubenfedern, auf, wobei die Aufnahmeöffnungen (32) exzentrisch zur Drehachse (B) angeordnet sind. Die Schleifeinheit (4) hat mindestens eine Schleifscheibe (41, 42), die um eine Drehachse (C), die im Wesentlichen parallel zur Drehachse (B) des Ladetellers (31) ist, drehbar gelagert ist, und einen Stellantrieb (43, 44), durch den die Schleifscheibe (41, 42) axial verfahrbar ist. Ein radialer Überlappungsbereich des Ladetellers (31) mit der Schleifscheibe (41, 42) begrenzt einen Schleifbereich (7), in den mindestens ein Werkstück (6) durch Drehung des Ladetellers (31) zum Schleifen einfahrbar ist. Mindestens eine Versatzerfassungseinheit (5) ist zur Erfassung eines Versatzes zwischen einer Schleiffläche (411, 421) der Schleifscheibe (41, 42) und einer Werkstückstirnebene (61, 62) ausgebildet, in der sich ein Werkstückende (63, 64), insbesondere Federende, eines im Ladeteller (31) aufgenommenen Werkstücks (6) außerhalb des Schleifbereichs (7) bei Drehung des Ladetellers (31) bewegt.
摘要翻译：包括用于研磨机（1）调节装置，特别是弹簧端研磨机，其特征在于，所述调节装置（2）的装载单元（3），研磨单元（4）和一个移动检测单元（5）。充电单元（3）具有至少一个装载板（31）围绕旋转轴（B）可转动地安装并且具有用于接收工件的多个接纳开口（32）（6），尤其是螺旋弹簧，与所述接纳开口（32 ）偏心旋转（B轴）被布置。研磨单元（4）具有至少一个砂轮（41，42）围绕旋转轴线（C），其基本上平行于所述装载板（31）的旋转（B）的轴线可旋转地安装，以及致动器（43，44 ），通过该砂轮（41，42）是沿轴向移动。装载板（31）与研磨轮（41，42）的径向重叠区域限定了研磨区域（7），在所述至少一个工件（6）由装载板（31）的旋转研磨缩回。用于检测的研磨表面（411，421），所述砂轮（41，42）和工件面平面（61，62）形成，之间的偏移的至少一个位移检测单元（5），在该工件端部（63，64），特别是弹簧端部，一个在装载板（31）的所述装载板（31）移动时在旋转时接收到的所述工件（6）研磨区域（7）之外。

5. 发明公开

EP2987589A1 COMPRESSION LINE SPRING GRINDING DEVICE AND GRINDING METHOD 有权
标题翻译：研磨装置及方法磨压管弹簧
公开(公告)号：EP2987589A1
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：EP13882565.8
申请日：2013-04-17
申请人： Daewon Kang Up Co., Ltd.
发明人： JUNG, Chan-Gi , YOON, Ui-Seuk
IPC分类号： B24B19/00 , B24B9/04
CPC分类号： B24B7/167 , B24B7/17 , B24B21/008 , B24B27/0069 , B24B41/005
摘要： Disclosed herein is an apparatus for grinding a compression line spring. The apparatus includes a lower chain conveyor (100), an upper chain conveyor (200), and grinding units (300). The lower chain conveyor includes chain units each having first support blocks (115) for supporting compression line springs. The upper chain conveyor includes chain units each having second support blocks (215) for compressing downward upper portions of the compression line springs and thus supporting the compression line springs. The grinding units grind seat surfaces formed on opposite ends of the compression line springs that are moved by the upper and lower chain conveyors. A V-shaped depression (115a) is formed in each first support block so that each of the compression line springs is seated onto the corresponding V-shaped depression. A lower surface (215a) of the second support block that compresses the compression line springs has a planar structure.

6. 发明公开

EP2926949A3 LUFT-KÜHLUNG SCHLEIFSCHEIBEN UND LADETELLER VON FEDERENDENSCHLEIFMASCHINE (3-KAMMER-SYSTEM) 有权
标题翻译：空冷轮和弹簧端部磨削充电板（3室系统）
公开(公告)号：EP2926949A3
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：EP15162107.5
申请日：2015-03-31
申请人： Officina Meccanica Domaso SpA
发明人： Kunz, Gabriella
IPC分类号： B24B7/16 , B24B7/17 , B24B27/00 , B24B41/00 , B24B55/02 , B24B55/04 , B23Q11/08
CPC分类号： B24B7/167 , B24B7/17 , B24B27/0069 , B24B41/005 , B24B55/02 , B24B55/045
摘要： Schleifmaschine (1), insbesondere Federendenschleifmaschine, die Folgendes umfasst: einen um eine Drehachse (A) drehbar gelagerten Drehtisch (10), mindestens einen Ladeteller (11) zur Bestückung mit Werkstücken (12), insbesondere Schraubenfedern, wobei der Ladeteller (11) durch Drehung des Drehtisches (10) von einer Ladeposition (L) in eine Schleifposition (S) verfahrbar ist, eine Schleifeinheit (13) mit mindestens einer Schleifscheibe (14), wobei die Schleifscheibe (14) mit mindestens einem Werkstück (12) in einer Schleifzone (15) in Schleifkontakt kommt, wenn sich der mit Werkstücken bestückte Ladeteller (11) in einer Schleifposition (S) befindet, eine Schleifkammer (16), die die Schleifzone (15) einschließt, wobei eine Innenkammer (36), die die Schleifzone (15) zumindest teilweise umschließt, und eine Zwischenkammer (37) durch eine Abschirmvorrichtung (38) voneinander abgrenzbar sind, mindestens eine Außenkammer (17), die die Zwischenkammer (37) zumindest teilweise umschließt, wobei die Zwischenkammer (37) mindestens eine Zwischentür (18) aufweist, die die Außenkammer (17) von der Zwischenkammer (37) trennt.

7. 发明授权

EP2213413B1 Schleifmaschine zum Planschleifen von Bauelementen aus keramischem oder ähnlichem Material, insbesondere von Ziegelsteinen 有权
标题翻译：一种磨床，研磨由陶瓷或类似材料制成的部件，尤其是砖
公开(公告)号：EP2213413B1
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：EP10151735.7
申请日：2010-01-27
申请人： Hans Lingl Anlagenbau und Verfahrenstechnik GmbH & Co. KG
发明人： Koch, Rainer , Appel, Frank
IPC分类号： B24B7/06 , B24B41/00 , B24B7/22 , B24B7/17
CPC分类号： B24B7/06 , B24B7/17 , B24B7/22 , B24B41/005

8. 发明公开

EP2762615A2 Substrate, substrate with thin film, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device 审中-公开
标题翻译： Substrat，Substrat mitDünnfilm，Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung des Halbleiterbauelements
公开(公告)号：EP2762615A2
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：EP14166214.8
申请日：2010-04-06
申请人： Sumitomo Electric Industries, Ltd.
发明人： Harada, Shin , Sasaki, Makoto , Masuda, Takeyoshi
IPC分类号： C30B29/36 , C23C16/32 , C23C16/42 , C30B25/20 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/329 , H01L21/336 , H01L21/337 , H01L21/338 , H01L29/12 , H01L29/47 , H01L29/78 , H01L29/80 , H01L29/808 , H01L29/812 , H01L29/861 , H01L29/872
CPC分类号： H01L29/7802 , B24B7/17 , B24B7/228 , B24B37/08 , B24B37/10 , C30B25/20 , C30B29/36 , H01L21/02378 , H01L21/0243 , H01L21/02529 , H01L21/0465 , H01L29/02 , H01L29/045 , H01L29/063 , H01L29/0657 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/78 , H01L29/7813 , H01L29/808 , H01L29/8083 , H01L29/812 , H01L29/8122 , H01L29/8128 , H01L29/8611 , H01L29/872
摘要： A substrate with a thin film, comprising: a substrate composed of silicon carbide and having a main surface having a diameter of 2 inches or greater; and a thin film composed of silicon carbide and formed on one said main surface, and a value for bow at said main surface being not smaller than -40 µm and not greater than 0 µm, and a value for warp at said main surface being not smaller than 0 µm and not greater than 40 µm.
摘要翻译：一种具有薄膜的基板，包括：由碳化硅构成的基板，其主表面具有2英寸或更大的直径; 以及由碳化硅构成的薄膜，形成在一个所述主表面上，所述主表面上的弓形值不小于-40μm且不大于0μm，并且所述主表面处的翘曲值不为小于0μm且不大于40μm。

9. 发明公开

EP2708324A1 Tischplatte für Federauflagetisch einer Federendenschleifmaschine sowie Federendenschleifmaschine damit 有权
标题翻译： Federendenschleifmaschine sieie Federendenschleifmaschine
公开(公告)号：EP2708324A1
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：EP13181778.5
申请日：2013-08-27
申请人： WAFIOS AG
发明人： Walz, Bernd
IPC分类号： B24B7/17
CPC分类号： B24B7/167 , B24B7/17 , B24B41/068
摘要： Eine Tischplatte für einen Federauflagetisch (190) einer Federendenschleifmaschine zum Schleifen von Federenden von Schraubendruckfedern wird beschrieben. Die Federendenschleifmaschine hat eine Schleifeinheit mit zwei vertikal übereinander angeordneten drehbaren Schleifscheiben, zwischen denen ein Schleifraum gebildet ist. Angrenzend an die Schleifeinheit ist ein Federauflagetisch einer Ladeeinheit angeordnet. Die Tischplatte weist an einer den Schleifscheiben zugeordneten Seite eine kreisbogenförmige Ausnehmung (215') auf, die dem äußeren Rand einer unteren Schleifscheibe der Schleifeinheit so angepasst ist, dass zwischen der Tischplatte und der Schleifscheibe nur ein schmaler Zwischenraum verbleibt. Die Tischplatte ist dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens in einem an die Ausnehmung angrenzenden Übergangsbereich eine Schichtstruktur mit einer Trägerplatte (232) und einer auf der Trägerplatte angeordneten, relativ zur Trägerplatte dünnen Deckschicht (234) aufweist, die flächig mit der Trägerplatte verbunden ist und eine freie Oberfläche hat, die die Oberfläche der Tischplatte bildet, wobei die Trägerplatte aus einem ersten Material und die Deckschicht aus einem relativ zum ersten Material verschleißfesteren zweiten Material besteht.
摘要翻译：台面结构（200）具有形成在可旋转砂轮（130,140）之间的研磨室（135）。充电单元（150）布置在弹簧支撑台（190）上。在研磨单元的下砂轮（140）的外边缘上形成圆弧形凹部。在凹部中形成有承载板。耐磨材料支撑板上设有薄层。

10. 发明公开

EP2420599A4 SUBSTRATE, SUBSTRATE PROVIDED WITH THIN FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
标题翻译：底物，用薄膜，半导体元件及其制造方法半导体元件基板
公开(公告)号：EP2420599A4
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：EP10764377
申请日：2010-04-06
申请人： SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
发明人： HARADA SHIN , SASAKI MAKOTO , MASUDA TAKEYOSHI
IPC分类号： C30B29/36 , C23C16/32 , C23C16/42 , C30B25/20 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/329 , H01L21/336 , H01L21/337 , H01L21/338 , H01L29/12 , H01L29/47 , H01L29/78 , H01L29/80 , H01L29/808 , H01L29/812 , H01L29/861 , H01L29/872
CPC分类号： H01L29/808 , B24B7/17 , B24B7/228 , B24B37/08 , B24B37/10 , C30B25/20 , C30B29/36 , H01L21/02378 , H01L21/0243 , H01L21/02529 , H01L21/0465 , H01L29/02 , H01L29/045 , H01L29/063 , H01L29/0657 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/78 , H01L29/7802 , H01L29/7813 , H01L29/8083 , H01L29/812 , H01L29/8122 , H01L29/8128 , H01L29/8611 , H01L29/872
摘要： A substrate achieving suppressed deterioration of processing accuracy of a semiconductor device due to bending of the substrate, a substrate with a thin film and a semiconductor device formed with the substrate above, and a method of manufacturing the semiconductor device above are obtained. A substrate (1) according to the present invention has a main surface (1a) having a diameter of 2 inches or greater, a value for bow at the main surface (1a) being not smaller than -40 µm and not greater than -5 µm, and a value for warp at the main surface (1a) being not smaller than 5 µm and not greater than 40 µm. Preferably, a value for surface roughness Ra of the main surface (1a) of the substrate (1) is not greater than 1 nm and a value for surface roughness Ra of a main surface (1b) is not greater than 100 nm.

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