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    • 2. 发明公开
    • FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR
    • 光纤扩散装置及其制造方法
    • EP3184885A1
    • 2017-06-28
    • EP15201956.8
    • 2015-12-22
    • Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
    • SCHENK, ChristianSCHEICH, GerritTSCHOLITSCH, Nadine
    • F21V8/00G02B6/26G02B5/02
    • G02B6/0008A61B2018/2261C03C3/06C03C13/045C03C2201/02C03C2201/08C03C2201/80C03C2203/10G02B5/0247G02B5/0268G02B6/00G02B6/262
    • Bei faseroptischen Streueinrichtungen wird über eine Lichtleitfaser aus Quarzglas Licht zu einem an einem distalen Endbereich der Lichtleitfaser vorgesehenen Diffusor übertragen. Der Diffusor enthält Streuzentren. Zur Erzeugung des Diffusors ist es bekannt, auf dem distalen Faserende der Lichtleitfaser eine Streumasse aufzubringen und diese zu dem Diffusor zu verfestigen. Um davon ausgehend ein Verfahren zur kostengünstigen und zuverlässigen Herstellung einer derartigen faseroptischen Streueinrichtung anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Aufbringen der Streumasse folgende Verfahrensschritte umfasst
      (a) Bereitstellen einer SiO 2 -Körnung, die amorphe SiO 2 -Teilchen enthält und die zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 besteht,
      (b) Bereitstellen eines Hohlkörpers aus Glas mit einer Hohlraumwandung, die einen nach außen offenen Hohlraum umgibt,
      (c) Bilden einer Schüttung der SiO 2 -Körnung in dem Hohlraum und Einbringen des Faserendes in den Hohlraum, so dass mindestens ein Teil des Faserendes in die Schüttung hineinragt,
      (d) thermisches Verdichten der Schüttung unter Ausbildung einer porenhaltigen und zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 bestehenden Sintermasse, die mindestens teilweise von einer Glashülle umgeben ist.
    • 在光纤散射体中,光通过石英玻璃光纤传输到设置在光纤远端部分的扩散器。 扩散器包含散射中心。 为了制造漫射器,已知将散射质量施加到光纤的远端光纤端并固化它以形成漫射器。 为了此基础上提供廉价和可靠的生产这样的光纤散射装置的方法,本发明提出的是,分散体的质量的沉积方法包括以下步骤(a)提供含有无定形的SiO 2颗粒和至少90重量%的SiO 2系的谷物。 (b)提供具有围绕向外敞开的空腔的空腔壁的玻璃空心体;(c)在空腔中形成SiO 2颗粒床并将光纤端插入空腔中,使得至少 光纤端部的一部分突出到床,(d)热压缩所述填料,以形成多孔的,并且包括至少90重量的SiO 2的烧结质量%,其至少部分地由玻璃外壳包围。
    • 4. 发明公开
    • Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    • 用于光学元件的石英玻璃体及其制造方法
    • EP1101741A3
    • 2001-10-31
    • EP00123504.3
    • 2000-10-27
    • Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
    • Uebbing, Bruno, Dr.Vydra, Jan, Dr.
    • C03C3/06C03B19/14C03C4/00
    • C03C4/0085C03B19/1453C03B2201/03C03B2201/04C03B2201/075C03C3/06C03C2201/06C03C2201/08C03C2201/23C03C2203/40Y10S65/08Y10S65/16Y10S501/905
    • Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.
    • 本发明涉及一种石英玻璃体的光学部件,用于发送为250nm和更短的波长的紫外辐射,特别是对于157纳米的波长,并且用于制造石英玻璃体,其特征在于,石英玻璃的微粒形成的,沉积并通过硅化合物的火焰水解玻璃化的方法 是。 在高的基站传输和耐辐射性的意义上的石英玻璃的适用性取决于由本地Stöchiometrieabweichungen引起的,其化学成分及其结构特性。 根据本发明的石英玻璃体的特征在于均匀的(在基本传输相对变化≤1%)在155纳米和250纳米(传输长度10mm)的至少80%,低OH含量(小于10重量ppm)之间的波长范围基本透射和 基本上不含氧缺陷位点的玻璃结构。 这样的石英玻璃体由一种能够在玻璃网络中的氧气或氢气的体积掺入由釜之前的温度范围内的850℃内至少2个分步骤至玻璃化的热处理至1600℃Cerfolgt,最后一个子步骤中的制备 烧结包括:在1300℃和1600℃之间的温度范围内含有氢或氧或作为包含非可燃混合物,这些物质的组合的气氛下进行。
    • 5. 发明公开
    • Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    • 石英玻璃体用于其制备的光学元件和方法
    • EP1101741A2
    • 2001-05-23
    • EP00123504.3
    • 2000-10-27
    • Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
    • Uebbing, Bruno, Dr.Vydra, Jan, Dr.
    • C03B19/14C03C3/06C03C4/00
    • C03C4/0085C03B19/1453C03B2201/03C03B2201/04C03B2201/075C03C3/06C03C2201/06C03C2201/08C03C2201/23C03C2203/40Y10S65/08Y10S65/16Y10S501/905
    • Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.
    • 石英玻璃体的玻璃结构基本上没有氧缺陷位点和至少80%的在155至250nm的波长区域中的基站传输在通过辐射的10毫米的长度。 基地传输的相对变化在于在遍布全身的可利用表面的最大的百分之一。 因此独立claimsoft包括用于生产石英玻璃主体,其包括水解在一种产生火焰的细石英玻璃颗粒的硅化合物的工序; 沉积所述颗粒在载体上形成多孔体; 和热在850-1600度治疗身体在两个步骤C,所述负载的步骤包括在气氛含有氢气或氧气作为非可燃混合物在1300-1600摄氏度烧结。