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1. 发明公开

EP3337768A1 LAYERED GLASS STRUCTURES 审中-公开
公开(公告)号：EP3337768A1
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：EP16757461.5
申请日：2016-08-18
申请人： Corning Incorporated
发明人： BUTLER, Douglas Llewellyn , DEJNEKA, Matthew John , HAWTOF, Daniel Warren , POWERS, Dale Robert , TANDON, Pushkar
IPC分类号： C03B19/14 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C23/00 , C03C13/04 , G02B6/132 , C03C27/10
CPC分类号： C03B19/1492 , B32B17/06 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B37/01446 , C03B37/01466 , C03B2201/02 , C03B2201/08 , C03B2201/30 , C03B2201/31 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/36 , C03B2201/42 , C03B2203/12 , C03B2207/20 , C03C13/045 , C03C17/02 , C03C17/3417 , C03C23/0025 , C03C2201/02 , C03C2201/08 , C03C2201/31 , C03C2201/32 , C03C2201/34 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , G02B6/00 , G02B6/132
摘要： Layered glass structures and fabrication methods are described. The methods include depositing soot on a dense glass substrate to form a composite structure and sintering the composite structure to form a layered glass structure. The dense glass substrate may be derived from an optical fiber preform that has been modified to include a planar surface. The composite structure may include one or more soot layers. The layered glass structure may be formed by combining multiple composite structures to form a stack, followed by sintering and fusing the stack. The layered glass structure may further be heated to softening and drawn to control linear dimensions. The layered glass structure or drawn layered glass structure may be configured as a planar waveguide.

2. 发明授权

EP2038230B1 METHOD FOR MAKING REDUCED STRIAE LOW EXPANSION GLASS 有权
标题翻译：制备折射率低膨胀玻璃的方法
公开(公告)号：EP2038230B1
公开(公告)日：2018-01-10
申请号：EP07777346.3
申请日：2007-05-31
申请人： Corning Incorporated
发明人： MAXON, John E. , ROSCH, William R.
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , C03C4/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/42 , C03C2203/50 , Y02P40/57
摘要： The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point-to-point variation in titania content is 0.1 wt % or less through its thickness and a CTE of 0±3 ppb/° C. in the temperature range 5-35° C. The invention is further directed to a method for producing the low expansion glass by using a method in which the time for repetition of the oscillation patterns used in the process are 10 minutes or less. In addition, the low expansion glass of the invention can have striae further reduced by heat-treating the glass at temperatures above 1600° C. for a time in the range of 48-160 hours.

3. 发明授权

EP2426091B1 Titania-doped quartz glass and making method 有权转让
标题翻译：掺杂二氧化钛的石英玻璃和制造方法
公开(公告)号：EP2426091B1
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：EP11179625.6
申请日：2011-08-31
申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
发明人： Maida, Shigeru , Otsuka, Hisatoshi , Sekizawa, Osamu , Yanagisawa, Naoki
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06 , C03C4/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/12 , C03B2207/20 , C03B2207/62 , C03B2207/64 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/42
摘要： A titania-doped quartz glass suited as an EUV lithographic member is prepared by feeding a silicon-providing reactant gas and a titanium-providing reactant gas through a burner along with hydrogen and oxygen, subjecting the reactant gases to oxidation or flame hydrolysis to form synthetic silica-titania fine particles, depositing the particles on a rotating target, and concurrently melting and vitrifying the deposited particles to grow an ingot of titania-doped quartz glass. The target is retracted such that the growth front of the ingot may be spaced a distance of at least 250 mm from the burner tip.

4. 发明授权

EP3033306B8 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TITAN-DOTIERTEM KIESELGLAS FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE 有权
公开(公告)号：EP3033306B8
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：EP14744804.7
申请日：2014-07-22
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： OCHS, Stefan , BECKER, Klaus , THOMAS, Stephan
IPC分类号： C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/00 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/46 , C03C2203/52 , C03C2204/00 , G03F1/52 , G03F1/60

5. 发明授权

EP2377826B1 OPTICAL MEMBER COMPRISING SILICA GLASS CONTAINING TiO2 有权转让
标题翻译：有TiO 2，含QUARZGLAS光学元件
公开(公告)号：EP2377826B1
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：EP10731255.5
申请日：2010-01-13
申请人： Asahi Glass Company, Limited
发明人： KOIKE, Akio , TAMITSUJI, Chikaya , WATANABE, Kunio , OGAWA, Tomonori
IPC分类号： C03C3/06 , C03B20/00 , G02B1/00 , H01L21/027
CPC分类号： C03B19/1461 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1453 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/52 , G03F1/24 , G03F1/60

6. 发明公开

EP3044174A1 ULTRALOW EXPANSION GLASS 有权
标题翻译： VERFAHREN ZUM ENTSPANNEN EIN SILICIUMDIOXID-TITANDIOXID GLAS。
公开(公告)号：EP3044174A1
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：EP14772259.9
申请日：2014-09-11
申请人： Corning Incorporated
发明人： DURAN, Carlos Alberto
IPC分类号： C03B25/08
CPC分类号： C03B25/00 , C03B25/02 , C03B25/08 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C2201/00 , C03C2201/42 , Y02P40/57
摘要： Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.
摘要翻译：在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。该方法包括在两种不同温度条件下具有受控退火的冷却方案。较高的温度控制退火可以在750℃-950℃的温度间隔或其次间隔发生。较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值，其范围迄今为止只能通过组成变化。

7. 发明公开

EP3000791A1 Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Fluor- und Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für den Einsatz in der EUV-Lithographie und danach hergestellter Rohling 有权
标题翻译：制造氟和的预成型体的方法，钛掺杂的高纯石英玻璃为在EUV光刻使用，再制成空白
公开(公告)号：EP3000791A1
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：EP14186139.3
申请日：2014-09-24
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Ochs, Stefan , Becker, Klaus
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14
CPC分类号： G03F1/22 , C03B19/06 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B32/00 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C21/007 , C03C23/00 , C03C23/007 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F7/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mit Titan und Fluor codotierten Kieselglas-Rohling für den Einsatz in der EUV-Lithographie, mit einer internen Transmission von mindestens 60 % im Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm bei einer Probendicke von 10 mm, wobei das Titan in den Oxidationsformen Ti 3+ und Ti 4+ vorliegt, umfassend die Verfahrensschritte:
(a) Herstellen eines TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen
(b) Fluorieren des Sootkörpers unter Bildung eines mit Fluor dotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers,
(c) Behandeln des mit Fluor dotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers in einer Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre unter Bildung eines konditionierten Sootkörpers, und
(d) Verglasen des konditionierten Sootkörpers unter Bildung des Rohlings aus Titan-dotiertem Kieselglas mit einen mittleren OH-Gehalt im Bereich von 10 bis 100 Gew.-ppm und mit einem mittleren Fluorgehalt im Bereich von 2.500 bis 10.000 Gew.-ppm.
Die durch die Wasserdampfbehandlung eingeführten OH-Gruppen zeigen auch nach Einwirkung von reduzierender Atmosphäre auf den Rohling eine verlängerte Wirkungsperiode im Sinne eines Depots für die interne Oxidation von Ti 3+ Ionen in Ti 4+ Ionen, so dass das Verhältnis von Ti 3+ /Ti 4+ auf einen Wert ≤ 2 x 10 -4 einstellbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于生产共掺杂有氧化钛和氟石英玻璃坯料在EUV光刻使用，具有至少60％，在波长范围为400nm至700nm的内部透射，以10毫米的样品厚度，其中，所述钛以Ti 3+和Ti 4+的氧化形式存在，其包括以下步骤：（a）在含硅和钛的原料的火焰水解（b）制备的TiO 2 -SiO 2烟炱体与形成氟掺杂的TiO氟化烟灰体 2 -SiO 2烟炱体，（c）处理掺杂的TiO 2中的氟在水蒸气气氛-SiO 2烟灰体，以形成经调节的烟灰体，和（d）与在形成空白空调掺钛二氧化硅玻璃的烟灰体的玻璃化具有10至100重量ppm的范围内的平均OH含量和具有在2.5范围内的平均氟含量 00-10000重量ppm。通过蒸汽处理引入OH基也显示暴露于在坯料上延长的作用期还原气氛后，作为用于钛3+的内部氧化的贮库的一部分离子的Ti 4+离子，从而使钛3+ / Ti的比值 4+ 2×10 -4是可调整的，以一个值‰¤。

8. 发明授权

EP1608599B2 SILICA GLASS CONTAINING TIO2 AND OPTICAL MATERIAL FOR EUV LITHOGRAPHY 有权转让
标题翻译： TIO2包含EUV光刻石英玻璃光学材料
公开(公告)号：EP1608599B2
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：EP04725542.7
申请日：2004-04-02
申请人： Asahi Glass Company, Limited
发明人： IWAHASHI, Yasutomi, Asahi Glass Company, Limited , KOIKE, Akio, Asahi Glass Company, Limited
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C4/0085 , C03C2201/42

9. 发明公开

EP2508492A4 METHOD FOR PRODUCING SILICA-BASED GLASS SUBSTRATE FOR IMPRINT MOLD, AND METHOD FOR PRODUCING IMPRINT MOLD 审中-公开
标题翻译：用于生产在硅衬底上基础上玻璃冲压成型模具及其制造方法冲压FORM
公开(公告)号：EP2508492A4
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：EP10834550
申请日：2010-11-30
申请人： ASAHI GLASS CO LTD
发明人： KOIKE AKIO , MIYASAKA JUNKO
IPC分类号： G03F7/00 , B29C33/38 , B29C59/02 , C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C15/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C33/3842 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/14 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C15/00 , C03C2201/42 , C03C2203/44

10. 发明授权

EP2428488B1 Low expansivity, high transmission titania doped silica glass 有权
标题翻译： Titanoxiddotiertes二氧化硅玻璃具有高透射率和低的可扩展
公开(公告)号：EP2428488B1
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：EP11155920.9
申请日：2011-02-25
申请人： Corning Incorporated
发明人： Duran, Carlos , Hrdina, Kenneth Edward , Mueller, Michael A
IPC分类号： B82Y10/00 , C03B19/14 , C03C3/06 , C03C4/00 , G03F7/20
CPC分类号： C03C3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , G03F1/60 , G03F7/0002 , G03F7/70958

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