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    • 1. 发明公开
    • Verfahren zur Schichtherstellung mittels Abscheidung, insbesondere aus Laser- oder Pseudofunken-Ablation
    • 通过沉积获得涂层的方法,特别是通过激光或PSEUDO-SPARK ABLATION
    • EP0484809A3
    • 1992-08-05
    • EP91118473.7
    • 1991-10-30
    • Battelle-Institut e.V.
    • Stafast, Herbert, Dr.Reiland, Werner, Dr.Diegel, MarcoVon der Burg, ErikGrill, Wolfgang, Prof. Dr.
    • C23C14/28H01L39/24
    • C23C14/32C23C14/0021C23C14/28
    • Um das Schichtwachstum bei gepulsten Abscheidungsverfahren, insbesondere durch gepulste Laser- oder Pseudofunken-Ablation zu verbessern, werden Gaspulse (8) in Form von Überschallmolekülstrahlen (bzw. -Atomstrahlen) einer Länge von 1µ bis 10 ms auf das Substrat (5), bzw. die Filmoberfläche gegeben. Die Gaspulse werden mit den Ablationspulsen (2) zeitlich so koordiniert, daß z.B. ein Gaspuls kurz nach den ablatierten Teilchen das Substrat erreicht. Aufgrund der gepulsten Gaszufuhr kann der Druck am Substrat kurzzeitig bedeutend höher als der maximal mögliche stationäre Hintergrunddruck sein, wodurch im Falle von Reaktivgas dessen Einbau deutlich verbessert wird. Zudem kann der stationäre Hintergrunddruck beim erfindungsgemäßen Verfahren viel kleiner sein als bei einer stationären Gaszufuhr, wodurch großflächige Substrate beschichtet werden können. Bei vielen Systemen läßt sich mit der Erfindung die Substrattemperatur deutlich absenken, wenn das Reaktivgas in aktivierter Form (als Ionen und/oder Radikale) pulsartig auf das Substrat geblasen wird.
    • 为了改善脉冲沉积过程中的涂层生长,特别是通过脉冲激光或伪火花消融,将气体脉冲(8)以超音速分子束(或原子束)的形式施加到衬底(5)或膜表面, 持续时间为1微秒至10毫秒。 气体脉冲在时间上与消融脉冲(2)协调,使得例如气体脉冲在消融的颗粒之后不久就到达衬底。 作为脉冲气体供应的结果,基板的压力可能在短时间内显着地高于最大可能的稳态背景压力,从而在反应性气体的情况下明显改善其结合。 此外,在根据本发明的方法的情况下,稳态背景压力可以低于稳态气体供应,因此可以涂覆大面积的基板。 在许多系统中,如果反应气体的脉冲以活性形式(作为离子和/或自由基)吹到基底上,本发明可以明显降低衬底温度。
    • 3. 发明公开
    • Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit geschmolzenem Material
    • Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit geschmolzenem材料。
    • EP0461543A2
    • 1991-12-18
    • EP91109223.7
    • 1991-06-06
    • Battelle-Institut e.V.
    • Tschulena, Guido, Dr.
    • H01L21/285H01L21/3205C23C26/02G03F7/16
    • H01L21/28
    • Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung, insbesondere Silizium- oder anderen Halbleiterwafern, in denen in einer auf eine vorbestimmte Temperatur aufgeheizten Spin-Coatingapparatur geschmolzenes Material, insbesondere Metall, auf das auf den vorgeheizten Drehteller der Apparatur fixierte Substrat gebracht wird und die Temperatur des Drehtellers nach erfolgter Ausbreitung des flüssigen Materials zur Hervorrufung einer Erstarrung des Materials abgekühlt wird, wobei sich gegenüber herkömmlichen Beschichtungsverfahren auch größere Schichtdicken ohne Schwierigkeiten und selektiv an bestimmten Stellen aufbringen lassen und Materialien mit beliebiger Schichtdicke insbesondere in den Kanälen oder andersartigen Vertiefungen strukturierter Substrate abscheiden lassen.
    • 在用于涂覆的方法和装置中,特别是硅和其它半导体晶片,将已经在旋涂装置中加热到预定温度的熔融材料,特别是金属施加到安装在预热的 转盘转盘。 在液体材料扩散之后,转盘的温度降低以使材料凝固。 与常规涂布方法相比,甚至可以在某些点上难以且选择性地施加相当大的层厚度,并且可以沉积具有任何所需层厚度的材料,特别是沉积在结构化基底上的通道或其它类型的凹部中。
    • 8. 发明公开
    • Akustische Sensoreinrichtung mit Störschallunterdrückung
    • 声传感器装置与噪声抑制。
    • EP0405331A2
    • 1991-01-02
    • EP90111750.7
    • 1990-06-21
    • BATTELLE-INSTITUT E.V.
    • Föller, Dieter, Dr.
    • G10K11/16
    • G10K11/178G10K2210/108G10K2210/3013G10K2210/3045Y10S367/901
    • Akustische Sensoreinrichtung mit Störschallunterdrückung insbesondere für auf einem geräuscherzeugenden Aggregat an­geordnete Sensoren unter Verwendung eines Doppelsensors (M1,M2), der zwischen einer Störquelle (S) und einem den aufzufassenden Objektschall aussendenden Objekt angeordnet ist und dessen einer Sensor (M1) auf die Störquelle (S) ge­richtet ist und einer Regelschaltung (R) ein Störschallsi­gnal zuführt, welche eine Antischallquelle (A) so ein­stellt, daß diese einen Antischall p A zur Kompensation des Störschalls p S erzeugt, wobei der andere Sensor (M2) auf das aufzufassende Objekt gerichtet ist und ein Meßsignal liefert, in dem der Störschallanteil stark und der Objekt­schallanteil sehr wenig geschwächt sind, so daß durch diese Minderung der Schallanteile in Anhängigkeit von der Ein­fallsrichtung die Auffaßreichweite des Sensors (M2) ver­größert ist.
    • 声学传感器与噪声抑制特定布置在使用双传感器(M1,M2),其连接一个噪声源(S)之间的声音产生单元的传感器装置布置成一个发射的aufzufassenden对象声音对象和它的一个传感器(M1)与干扰源(S )被寻址,和一个调节电路(R)一Störschallsignal用品,其调整的反声源的(a),这产生一个抗噪声pA的用于补偿干扰噪声PS,另一传感器(M2)被引导至aufzufassende对象和测量信号 提供,其中,所述Störschallanteil强烈和对象声音分量非常小柔使得通过在入射方向的依赖性这一减少的声音分量的传感器的Auffaßreichweite(M2)增加。