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1. 发明授权

EP2960219B1 Rohling aus Titan-dotiertem Kieselglas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung 有权
公开(公告)号：EP2960219B1
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：EP14174699.0
申请日：2014-06-27
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Becker, Klaus , Ochs, Stefan , Thomas, Stephan
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , G03F1/24

2. 发明公开

EP2960219A1 Rohling aus Titan-dotiertem Kieselglas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung 有权
标题翻译：坯件制成掺钛二氧化硅玻璃的用于其制备在EUV光刻中使用的镜基板，以及方法
公开(公告)号：EP2960219A1
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：EP14174699.0
申请日：2014-06-27
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Becker, Klaus , Ochs, Stefan , Thomas, Stephan
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , G03F1/24
CPC分类号： C03B23/04 , C03B19/066 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/06 , C03B2201/075 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/10 , C03C2203/50 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/7095
摘要： Bei Rohlingen aus Titan-dotiertem Kieselglas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie ist üblicherweise eine optisch genutzte Fläche CA definiert. Innerhalb von CA zeigt der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE ein über die Rohling-Dicke gemitteltes, zweidimensionales dCTE-Verteilungsprofil, bei dem die maximale Inhomogenität dCTE max , definiert als Differenz zwischen einem Inhomogenitäts-Maximalwert und einem Inhomogenitäts-Minimalwert, weniger als 5 ppb/K beträgt. Es ist bekannt, hohe CTE-Inhomogenitätswerte durch individuell angepasste, ortsabhängige Einstellung der Titandioxid-Konzentration zu vermeiden. Vergleichsweise hohe absolute CTE-Inhomogenitätswerte sind nur akzeptabel, sofern die im Einsatz auftretenden Bestrahlungsprofile Kreissymmetrie haben. Um hiervon ausgehend einen Rohling aus Titan-dotiertem Kieselglas bereitzustellen, der auch ohne individuell angepasste, ortsabhängige Einstellung der Titandioxid-Konzentration für den Einsatz mit nicht-kreisrundem Bestrahlungsprofil ausgelegt und geeignet ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass dCTE max mindestens 0,5 ppb/K beträgt, und dass CA eine nicht-kreisrunde Fläche mit einem Flächenschwerpunkt bildet, wobei das dCTE-Verteilungsprofil nicht rotationssymmetrisch und über CA derart definiert ist, dass gerade und auf eine Einheitslänge normierte Profilschnitte durch den Flächenschwerpunkt eine dCTE-Kurvenschar ergeben, die ein Kurvenband mit einer Bandbreite von weniger als 0,5 x dCTE max bilden.
摘要翻译：在掺杂钛的石英玻璃用于在EUV光刻中使用的镜基板的坯料，其光学使用区域CA通常定义。内的热膨胀CA系数CTE是在坯料的厚度平均，二维DCTE分布，其中的最大不均匀性DCTE max时，定义为不均匀性最大值和不均匀性最小值小于5ppb的之间的差/ K是轮廓，已知的是通过将二氧化钛浓度的定制的，依赖于位置的设置，避免高CTEInhomogenitätswerte。相对高的绝对CTEInhomogenitätswerte仅可以接受的是，在利用辐射轮廓发生具有圆形对称。向该基础提供由掺杂钛的石英玻璃，其也被设计成没有二氧化钛的浓度为具有非圆形照射轮廓和合适的使用的定制的，依赖于位置的设置的空白，它是根据本发明提出，DCTE最大值至少为0.5 ppb的/ K是，且该CA形成具有质心，其中所述DCTE分布轮廓定义为不旋转对称的和CA以便得到DCTE曲线直的，并且在通过重力的区域中心，弯曲带，一个单元长度归一化的轮廓截面的非圆形表面具有小于0.5×DCTE最大的带宽形成。

3. 发明授权

EP1211226B1 Blank for an optical lens of quartz glass for a microlithographic device using laser radiation as well as vessel and method of producing the same 有权
标题翻译：预制件的石英玻璃的用于微光刻设备的光学透镜使用的激光辐射，以及一个鼓和用于其制备方法
公开(公告)号：EP1211226B1
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：EP01128615.0
申请日：2001-11-30
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人： Ueda, Tetsuji , Fujinoki, Akira , Nishimura, Hiroyuki , Trommer, Martin , Ochs, Stefan
IPC分类号： C03B19/14 , C03B32/00 , C03C23/00
CPC分类号： C03C23/007 , C03B19/1453 , C03B32/00 , Y10T428/131 , Y10T428/24612

4. 发明授权

EP1712528B1 OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DE BAUTEILS UND VERWENDUNG DESSELBEN 有权
标题翻译：光学元件QUARZGLAS，用于生产DE组件的方法和相同的使用
公开(公告)号：EP1712528B1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：EP06112628.0
申请日：2006-04-13
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Kuehn, Bodo , Ochs, Stefan , Kaiser, Steffen , Kassube, Denis
IPC分类号： C03C3/06 , C03C4/00 , C03B19/14 , G02B1/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03C4/0085 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , Y02P40/57

5. 发明公开

EP1854768A1 Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas mit vorgegebenem hydroxylgruppengehalt 有权
标题翻译：维尔芬哈尔
公开(公告)号：EP1854768A1
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：EP07107684.8
申请日：2007-05-08
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Kuehn, Bodo , Ochs, Stefan
IPC分类号： C03B19/14 , C03B37/014
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B37/01446
摘要： Ein bekanntes Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas mit vorgegebenem Hydroxylgruppengehalt, umfasst die folgenden Verfahrensschritte: durch Flammenhydrolyse oder Oxidation einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung und schichtweises Abscheiden von SiO 2 -Partikeln auf einem rotierenden Träger wird ein poröser SiO 2 -Sootkörper hergestellt, der Sootkörper wird zum Entfernen von Hydroxylgruppen einer Dehydratationsbehandlung in einer ein Reaktionsgas enthaltenden Trocknungsatmosphäre bei einer Trocknungstemperatur unterzogen, und der SiO 2 -Sootkörper wird zu einem Körper aus dem synthetischen Quarzglas verglast. Um hiervon ausgehend ein eine reproduzierbare und verlässliche Herstellung von synthetischem, UV-strahlenbeständigem Quarzglas mit vorgegebenem Hydroxylgruppengehalt und geringem Chlorgehalt zu ermöglichen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Dehydratationsbehandlung gemäß Verfahrensschritt (b) eine Trocknungsphase umfasst, während der als Reaktionsgas Ozon eingesetzt wird, und dass der Ozongehalt der Trocknungsatmosphäre zwischen 0,5 und 10 Vol.-% beträgt, wobei der Trocknungsatmosphäre keine Halogene zugeführt werden und die Trocknungstemperatur im Bereich zwischen 1200 °C und 1400 °C liegt.
摘要翻译：具有规定羟基含量的合成石英玻璃的制造包括使用臭氧作为反应气体的干燥相脱水由含硅原料化合物的火焰水解或氧化形成的烟灰体。干燥气氛的臭氧含量为0.5-10体积％。在干燥气氛中不加入卤素，干燥温度为1200-1400℃。

6. 发明公开

EP1211226A3 Glass blank for an optical element as well as method and apparatus for heat treating the blank 有权
标题翻译：从玻璃母材的预成型件的热处理的光学元件和方法及装置
公开(公告)号：EP1211226A3
公开(公告)日：2003-02-26
申请号：EP01128615.0
申请日：2001-11-30
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd.
发明人： Ueda, Tetsuji , Fujinoki, Akira , Nishimura, Hiroyuki , Trommer, Martin , Ochs, Stefan
IPC分类号： C03B19/14 , C03B32/00 , C03C23/00
CPC分类号： C03C23/007 , C03B19/1453 , C03B32/00 , Y10T428/131 , Y10T428/24612
摘要： An object of the present invention is to provide an improved blank such that an optical member of a high homogeneity can be obtained therefrom, and to provide a vessel and a method of heat-treating a highly uniform synthetic quartz glass blank. In a first aspect of the invention a special designed synthetic silica glass blank is provided showing a concave shaped outer surface. In a second aspect of the invention a special designed vessel for heat-treating blanks is provided, whereby the degree of heat emission at the center is set higher than that of the surroundings. The ultimate use of the blank is as an optical element for use in excimer laser lithographic processes and apparatus.
摘要翻译：本发明的一个目的是提供改进的空白搜索并以高均匀性的光学部件可以从那里获得，并提供一种容器和用于热处理高度均匀的合成石英毛坯的热处理方法。在本发明的第一方面设计的坯件的特别提供了示出一个凹形外表面。在本发明的第二方面的特别设计的容器中用于热处理坯料被提供，从而在中心处的热辐射的程度设定为比周围高。

7. 发明公开

EP3950611A1 ALTERNATIVE FLUORIERUNGSMITTEL ZUR HERSTELLUNG VON FLUORIERTEM QUARZGLAS 审中-公开
公开(公告)号：EP3950611A1
公开(公告)日：2022-02-09
申请号：EP20189830.1
申请日：2020-08-06
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Ochs, Stefan , Kayser, Thomas , Trommer, Martin
IPC分类号： C03B19/14
摘要： Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von einem fluorierten Quarzglas, umfassend die Verfahrensschritte des Bereitstellens eines SiO 2 -Sootkörpers; des Umsetzens des SiO 2 -Sootkörpers mit einem Fluorierungsmittel, welches einen Siedepunkt von größer gleich -10 °C aufweist, unter Erhalt eines fluorierten SiO 2 -Sootkörpers; und des Verglasens des fluorierten SiO 2 -Sootkörpers.

8. 发明授权

EP3000791B1 Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Fluor- und Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für den Einsatz in der EUV-Lithographie und danach hergestellter Rohling 有权
标题翻译：制造氟和的预成型体的方法，钛掺杂的高纯石英玻璃为在EUV光刻使用，再制成空白
公开(公告)号：EP3000791B1
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：EP14186139.3
申请日：2014-09-24
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Ochs, Stefan , Becker, Klaus
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14
CPC分类号： G03F1/22 , C03B19/06 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B32/00 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C21/007 , C03C23/00 , C03C23/007 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F7/00

9. 发明公开

EP1847517A3 Werkstoff, insbesondere für ein optisches Bauteil zum Einsatz in der Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff 审中-公开
标题翻译：材料，特别是用于在微光刻和方法中使用的光学部件，用于从材料产生的成形体
公开(公告)号：EP1847517A3
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：EP07105703.8
申请日：2007-04-05
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Kuehn, Bodo , Ochs, Stefan
IPC分类号： C04B35/14 , C03C10/00
CPC分类号： C04B35/14 , C03C10/0009 , C04B35/645 , C04B2235/6565 , C04B2235/77 , C04B2235/785 , C04B2235/786 , C04B2235/94 , C04B2235/95 , C04B2235/9661
摘要： Es geht in der Erfindung um einen Werkstoff, der für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge unterhalb von 250 nm eine geringe Absorption, eine geringe Doppelbrechung, hohe chemische Resistenz sowie eine hohe Strahlenbeständigkeit aufweist, und der daher insbesondere für die Herstellung optischer Bauteile für die Mikrolithographie verwendbar ist. Erfindungsgemäß besteht der Werkstoff aus synthetisch erzeugten und ein polykristallines Gefüge bildenden Quarzkristalliten mit einer mittleren Korngröße im Bereich zwischen 500 nm und 30 µm. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff umfasst ein Bereitstellen einer Körnung aus synthetisch erzeugten Quarzkristallen mit einer mittleren Korngröße im Bereich zwischen 500 nm und 30 µm, und ein Sintern der Körnung zu einem Formkörper aus polykristallinem Quarz.

10. 发明公开

EP1847517A2 Werkstoff, insbesondere für ein optisches Bauteil zum Einsatz in der Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff 审中-公开
标题翻译：材料，特别是用于在微光刻和方法中使用的光学部件，用于从材料产生的成形体
公开(公告)号：EP1847517A2
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：EP07105703.8
申请日：2007-04-05
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： Kuehn, Bodo , Ochs, Stefan
IPC分类号： C04B35/14 , C03C10/00
CPC分类号： C04B35/14 , C03C10/0009 , C04B35/645 , C04B2235/6565 , C04B2235/77 , C04B2235/785 , C04B2235/786 , C04B2235/94 , C04B2235/95 , C04B2235/9661
摘要： Es geht in der Erfindung um einen Werkstoff, der für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge unterhalb von 250 nm eine geringe Absorption, eine geringe Doppelbrechung, hohe chemische Resistenz sowie eine hohe Strahlenbeständigkeit aufweist, und der daher insbesondere für die Herstellung optischer Bauteile für die Mikrolithographie verwendbar ist. Erfindungsgemäß besteht der Werkstoff aus synthetisch erzeugten und ein polykristallines Gefüge bildenden Quarzkristalliten mit einer mittleren Korngröße im Bereich zwischen 500 nm und 30 µm. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff umfasst ein Bereitstellen einer Körnung aus synthetisch erzeugten Quarzkristallen mit einer mittleren Korngröße im Bereich zwischen 500 nm und 30 µm, und ein Sintern der Körnung zu einem Formkörper aus polykristallinem Quarz.
摘要翻译：材料包括合成产生的石英晶体上的500纳米至30微米的平均晶粒尺寸形成多晶结构。因此独立claimsoft包括用于生产上述物质的方法。

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