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1. 发明专利

JP2014125671A Vapor deposition mask, and manufacturing method of the same 有权
标题翻译：蒸气沉积掩模及其制造方法
公开(公告)号：JP2014125671A
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2012284936
申请日：2012-12-27
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー , Dainippon Printing Co Ltd , 大日本印刷株式会社
发明人： MIZUMURA MICHINOBU , KUDO SHUJI , OBATA KATSUYA
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition mask improved in an opening pattern shape and location accuracy.SOLUTION: A vapor deposition mask includes: a resin film 2 in which an opening pattern 6 with the same dimensions as that of a thin film pattern to be deposited on a substrate is formed; and a thin-plate type magnetic metal member 1 through which a through hole 4 is provided, of which size includes the opening pattern 6. The vapor deposition mask has a structure in which the resin film 2 and the thin-plate type film 2 contact tightly. A dummy through hole 5 is provided in a region of the magnetic metal member 1, other than the an evaporation effective region which includes the through hole 4. A dummy opening pattern 7 is provided to control deformation of the opening pattern 6 and the through hole 4, the deformation being caused by difference in thermal expansion between the film 2 and the magnetic metal member 1.
摘要翻译：要解决的问题：提供改善开口图形形状和定位精度的蒸镀掩模。解决方案：一种蒸镀掩模包括：树脂膜2，其中具有与薄膜图案相同尺寸的开口图案6 沉积在基板上; 以及设置有通孔4的薄板型磁性金属构件1，其尺寸包括开口图案6.蒸镀掩模具有树脂膜2和薄板型膜2接触的结构紧紧。除了包括通孔4的蒸发有效区域之外，在磁性金属构件1的区域中设置虚拟通孔5.虚拟开口图案7设置成用于控制开口图案6和通孔如图4所示，变形是由膜2和磁性金属构件1之间的热膨胀差引起的。

2. 发明专利

JP2015010270A 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法有权
标题翻译：沉积掩模及其制造方法
公开(公告)号：JP2015010270A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2013138814
申请日：2013-07-02
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , B23K11/11 , B23K26/382 , C23C16/042 , H01L51/0011
摘要：【課題】高精細な薄膜パターンを位置精度よく形成する。【解決手段】貫通する複数の開口パターン4を形成すると共に、一面に複数の開口パターン4を内包する大きさの開口を有する枠状の金属薄膜5を設けた樹脂製のフィルム1と、フィルム1の一面1a側にて金属薄膜5の開口に対応した位置にフィルム1と分離独立して設けられ、複数の開口パターン4のうち少なくとも一つの開口パターン4を内包する大きさの複数の貫通孔6を設けたメタルマスク2と、フィルム1の一面1a側に位置し、メタルマスク2の複数の貫通孔6を内包する大きさの開口部7を設けて枠状に形成され、フィルム1及びメタルマスク2を張架した状態で、金属薄膜5の部分及びメタルマスク2の縁部領域を一端面3aにスポット溶接してフィルム1及びメタルマスク2を支持する金属フレーム3と、を備えて構成したものである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：形成具有良好定位精度的高清晰度薄膜图案。解决方案：掩模包括：树脂膜1，其中形成有多个穿透开口图案4，并且框状金属薄膜5是其具有开口，其尺寸使得多个开口图案4包括在表面中; 金属掩模2，其在与膜1的表面的1a侧的金属薄膜5的开口对应的位置处独立于膜1设置，并且设置有多个通孔6，其包括在多个打开模式4中的至少一个; 并且位于膜1的表面的1a侧的金属框架3形成为框架形状并且具有包括金属掩模2的多个通孔6以提供开口7的尺寸，并且当膜1和金属掩模2处于拉伸状态时，通过将金属薄膜5的一部分和金属掩模2的绝缘区域点焊到边缘3a来支撑膜1和金属掩模2。

3. 发明专利

JP2014205870A 蒸着マスク有权
标题翻译：蒸气沉积掩模
公开(公告)号：JP2014205870A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2013082687
申请日：2013-04-11
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： MIZUMURA MICHINOBU , KUDO SHUJI , KAJIYAMA KOICHI
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011
摘要：【課題】熱変形を抑制して蒸着される薄膜パターンの高精細化を図る。【解決手段】スリット状の複数の貫通孔5を並列に並べて有するシート状の磁性金属部材2の一面に樹脂製のフィルム3を密接させた構造を有し、前記各貫通孔5内の前記フィルム3の部分に貫通する複数の開口パターン6を設けた蒸着マスク1であって、前記フィルム3は、線膨張係数が直交二軸で異なる異方性を有し、前記磁性金属部材2の前記貫通孔5の長軸に交差する方向に前記フィルム3の線膨張係数の小さい軸を合わせたものである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过抑制热变形来提供高清晰度薄膜图案的气相沉积掩模。解决方案：蒸镀掩模1被构造成使得塑料膜3与片状物的一个表面接触磁性金属构件2，其中狭缝状多个通孔5平行布置，并且穿透膜3的多个开放图案6设置在相应的通孔5中。膜3具有不同各向异性的线性膨胀系数在正交双轴中，膜3中具有较小线膨胀系数的轴与磁性金属构件2的通孔5的长轴交叉的方向对齐。

4. 发明专利

JP2014199889A 露光ヘッド及びその製造方法有权
标题翻译：光曝光头及其制造方法
公开(公告)号：JP2014199889A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2013075232
申请日：2013-03-29
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： KAJIYAMA KOICHI , NASUKAWA TOSHIMICHI , MIZUMURA MICHINOBU , KANAO MASAYASU , ISHIKAWA SUSUMU
IPC分类号： H01S5/18
摘要：【課題】基板上に複数の半導体レーザ素子を形成するに際して、基板に対して任意の方向にレーザ光の出射方向を設定することができると共に、効果的な発光層の冷却を行う。【解決手段】露光ヘッド1は、一つの半導体基板(基板10)と、基板10を共通基板として、基板10の表面に沿った発光層2Aと表面に垂直な一対の共振器端面20を有する複数の半導体レーザ素子部2と、隣接する半導体レーザ素子部2の共振器端面20間に形成される凹溝部3と、凹溝部3内で半導体レーザ素子部2の光出射面に対面させて光出射面から出射されるレーザ光Lbを基板10側に反射させる反射面4とを備え、基板10を介して被露光面にレーザ光Lbを照射する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：当在基板上形成多个半导体激光元件时，将激光束的出射方向设定为相对于基板的任意方向，并且对发光层进行有效的冷却。解决方案：曝光头1包括：一个半导体衬底（衬底10）; 使用基板10作为公共基板的多个半导体激光元件部件2，各自具有沿着基板10的表面的发光层2A和与表面垂直的一对谐振器端面20; 形成在相邻半导体激光元件部2的谐振器端面20之间的凹槽部3; 以及在凹槽部3中面向半导体激光元件部2的发光面的反射面4，将从发光面发射的激光束Lb反射到基板10侧。暴露的表面经由衬底10用激光束Lb照射。

5. 发明专利

JP2014177682A Manufacturing method of vapor deposition mask 有权
标题翻译：蒸汽沉积掩模的制造方法
公开(公告)号：JP2014177682A
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：JP2013053207
申请日：2013-03-15
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： SAITO YUJI , KUDO SHUJI , KOSUGE TAKAYUKI , MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： B32B38/10 , B32B15/00 , B32B2310/0843 , C23C14/042
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To apply equal tension over the entire surface of a mask sheet and fix the sheet to a frame.SOLUTION: There is provided a manufacturing method of a vapor deposition mask having a structure that a metal mask sheet 4 on which a plurality of opening patterns are formed is stretched and fixed to a frame-shaped metal frame 7, in which a first step of adhering a peripheral part of the metal mask sheet 4 to a synthetic fiber mesh 1 to which fixed tension is applied; a second step of cutting off a portion of the mesh 1 corresponding to a vapor deposition effective region having an enough size that includes the plurality of opening patterns of the metal mask sheet 4; a third step of bonding and fixing the frame 7 to the peripheral part of the metal mask sheet 4 from the opposite side of the mesh 1; and a fourth step of removing the mesh 1 from the metal mask sheet 4 are performed.
摘要翻译：要解决的问题：在掩模片的整个表面上施加相等的张力并将片材固定到框架上。解决方案：提供一种蒸镀掩模的制造方法，其具有金属掩模片4，其上形成有形成有多个开口图案被拉伸并固定在框状的金属框架7上，其中将金属掩模片4的周边部分粘附到固定张力的合成纤维网1上的第一步骤; 第二步骤，切除与具有包括金属掩模片4的多个开口图案的足够尺寸的蒸镀有效区域对应的网孔1的一部分; 将框架7从网1的相对侧接合并固定到金属掩模片4的周边部分的第三步骤; 并且执行从金属掩模片4去除网格1的第四步骤。

6. 发明专利

JP2014135571A Imaging apparatus 审中-公开
标题翻译：成像设备
公开(公告)号：JP2014135571A
公开(公告)日：2014-07-24
申请号：JP2013001399
申请日：2013-01-08
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： KAJIYAMA KOICHI , MIZUMURA MICHINOBU , KANAO MASAYASU , ISHIKAWA SUSUMU
IPC分类号： H04N5/33 , H01L27/146 , H01L31/10 , H04N5/372 , H04N5/374
CPC分类号： H01L27/14607 , H01L27/14621 , H01L27/14623 , H01L27/1463 , H01L27/14643 , H01L27/14645 , H01L27/14649 , H01L27/14698
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a clear long-wavelength band image with longer wavelengths than those of near-infrared rays when obtaining a visible image and the long-wavelength band image with longer wavelengths than those of near-infrared rays using one imaging sensor.SOLUTION: In an imaging sensor 1 for an imaging apparatus, plural photoelectric conversion units 2(2A, 2B) are formed on one semiconductor substrate 10. Each photoelectric conversion unit 2A included in the plural photoelectric conversion units 2(2A, 2B) represents spectral response characteristics which peak in the band of longer wavelengths than those of near-infrared rays. The plural photoelectric conversion units 2(2A, 2B) include photoelectric conversion units 2B representing spectral response characteristics which peak in a visible light band.
摘要翻译：要解决的问题为了获得具有比近红外线更长的波长的清晰的长波长带图像，并且使用一个成像传感器获得具有比使用一个成像传感器的近红外线更长的波长的长波长带图像解决方案：在用于成像装置的成像传感器1中，在一个半导体衬底10上形成多个光电转换单元2（2A，2B）。包括在多个光电转换单元2（2A，2B）中的每个光电转换单元2A表示在比较近的红外线的波长较长的波段中峰值的光谱响应特性。多个光电转换单元2（2A，2B）包括表示在可见光区域中峰值的光谱响应特性的光电转换单元2B。

7. 发明专利

JP2014098196A Method for manufacturing vapor deposition mask 有权
标题翻译：制造蒸气沉积掩模的方法
公开(公告)号：JP2014098196A
公开(公告)日：2014-05-29
申请号：JP2012250974
申请日：2012-11-15
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , B23K26/066 , C23C14/048 , C23C16/042
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the accuracy of positions where a plurality of opening patterns are formed.SOLUTION: A method for manufacturing a composite type vapor deposition mask where a resin film 17 formed with opening patterns 16, having the same geometry as that of thin film patterns, corresponding to the thin film patterns deposited on a substrate and a thin plate-shaped magnetic metal member 15 formed with through holes 14 having a size involving the opening pattern 16 are brought into close contact with each other, comprises steps of: forming a member 7 for a mask having a structure where the magnetic metal member 15 formed with the through holes 14 and the resin film 17 before being formed with the opening patterns 16 are brought into close contact with each other; forming marks 23 having a constant shape and depth by irradiating laser light L to the film 17 in the through holes 14 of the member 7 for a mask; and forming the opening patterns 16 penetrating the film 17 by irradiating the laser light L to predetermined positions on the basis of the marks 23.
摘要翻译：要解决的问题：提高形成多个开口图案的位置的精度。解决方案：一种复合型蒸镀掩模的制造方法，其中形成有开口图案16的树脂膜17具有与对应于沉积在基板上的薄膜图案的薄膜图案和形成有具有涉及开口图案16的尺寸的通孔14的薄板状磁性金属构件15彼此紧密接触，包括以下步骤：在形成具有开口图案16的形成有通孔14的磁性金属构件15和树脂膜17之间形成具有结构的掩模构件7彼此紧密接触; 通过在掩模用构件7的通孔14中的膜17上照射激光L来形成具有恒定形状和深度的标记23; 并且通过基于标记23将激光L照射到预定位置来形成穿透膜17的开口图案16。

8. 发明专利

JP2014098195A Thin film pattern formation method, alignment device, and vapor deposition device 审中-公开
标题翻译：薄膜图案形成方法，对准装置和蒸发沉积装置
公开(公告)号：JP2014098195A
公开(公告)日：2014-05-29
申请号：JP2012250973
申请日：2012-11-15
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve thin film pattern forming position accuracy.SOLUTION: Both ends of a vapor deposition mask are supported, and the vapor deposition mask is arranged above and opposite to a substrate. One supported end of the vapor deposition mask is lowered, and made near one end side of the substrate. Thereafter, the other end of the vapor deposition mask is gradually lowered, so that the vapor deposition mask is sequentially brought into close contact with one end side to the other end side of the substrate. The vapor deposition mask is moved in a plane parallel to a surface of the substrate to align the vapor deposition mask with the substrate. By applying a static magnetic field to a magnetic metal member of the vapor deposition mask from a rear face side of the substrate, the vapor deposition mask is closely fixed to the surface of the substrate by a magnetic force, and vapor deposition is performed from the vapor deposition mask side to form a thin film pattern with the same shape dimension as that of an opening pattern.
摘要翻译：要解决的问题：提高薄膜图案形成位置精度。解决方案：支持蒸镀掩模的两端，并且气相沉积掩模布置在基板的上方和相对之上。气相沉积掩模的一个支撑端降低，并在基底的一端侧附近制成。此后，蒸镀掩模的另一端逐渐降低，使得蒸镀掩模顺序地与基板的另一端侧的一端侧紧密接触。气相沉积掩模在平行于衬底的表面的平面中移动，以将气相沉积掩模与衬底对准。通过从基板的背面向静电磁性金属构件施加静磁场，通过磁力将气相沉积掩模紧密地固定在基板的表面上，并从蒸镀掩模侧，形成与开口图案相同的形状尺寸的薄膜图案。

9. 发明专利

JP2013156555A Laser illumination apparatus 有权
标题翻译：激光照明设备
公开(公告)号：JP2013156555A
公开(公告)日：2013-08-15
申请号：JP2012018729
申请日：2012-01-31
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： KAJIYAMA KOICHI , MIZUMURA MICHINOBU , YANAGAWA YOSHIKATSU
IPC分类号： G02B27/09
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser illumination apparatus capable of reducing illumination unevenness caused by an interference fringe of light transmitting through a fly-eye lens.SOLUTION: The laser illumination apparatus includes: a fly-eye lens 2(4) and a condenser lens 32 on a light path of a pulse laser beam 11 radiated from a light source 1; and two electro-optical crystal elements 5A, 5B disposed between the light source 1 and the fly-eye lens 2(4) or between the fly-eye lens 2(4) and the condenser lens 32, which continuously change a deflection direction of a pulse laser beam 14 with respect to incident light and cause the laser beam to pass therethrough. The electro-optical crystal elements 5A, 5B are, for example, composed of a pair of electrodes and an optical crystal material arranged between the electrodes, and change a refractive index of the electro-optical crystal elements by applying a voltage between the electrodes to generate an electric field. The electro-optical crystal element 5A changes the deflection direction of the laser beam to an X direction, and the electro-optical crystal element 5B changes the deflection direction to a Y direction.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够减少由透过眼睛透镜的光的干涉条纹引起的照明不均匀的激光照明装置。解决方案：激光照明装置包括：飞眼透镜2（4）和在从光源1辐射的脉冲激光束11的光路上的聚光透镜32; 以及设置在光源1和蝇眼透镜2（4）之间或者在双眼透镜2（4）和聚光透镜32之间的两个电光晶体元件5A，5B，其连续地改变偏转方向相对于入射光的脉冲激光束14，并使激光束通过。电光晶体元件5A，5B例如由配置在电极之间的一对电极和光学晶体材料构成，通过在电极之间施加电压来改变电光晶体的折射率，产生电场。电光晶体元件5A将激光束的偏转方向改变为X方向，并且电光晶体元件5B将偏转方向改变为Y方向。

10. 发明专利

JP2013156353A Exposure equipment 有权
标题翻译：曝光设备
公开(公告)号：JP2013156353A
公开(公告)日：2013-08-15
申请号：JP2012015482
申请日：2012-01-27
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： KAJIYAMA KOICHI , MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent fall of a photo mask by simple structure.SOLUTION: In exposure equipment which irradiates an exposed object arranged opposite to a rectangle photo mask 7 held by a mask holder 3 with exposed light via a mask pattern of the photo mask 7 to expose the exposed object, the photo mask 7 includes at least a pair of projection members 14 by being made to face each other at mutually facing positions on the outer peripheral surface; and the mask holder 3 forms structure of providing the outside surface 11b of a frame 11 having an opening 10 in the center area with chuck means 13 corresponding to the projection members 14 of the photo mask 7, and captures the projection members 14 by the chuck means 13 to fix the photo mask 7 to a holding surface 11a of the mask holder 3.
摘要翻译：要解决的问题：通过简单的结构防止光掩模的掉落。解决方案：在曝光设备中，照射曝光物体，曝光物体通过照相机的掩模图案照射由具有曝光的光束由掩模保持器3保持的矩形光罩7相对设置的曝光物体掩模7暴露曝光物体，光掩模7通过在外周面上的相互相对的位置处相互面对地包括至少一对突出部件14; 并且面罩座3形成在中心区域设置具有开口10的框架11的外表面11b的结构，其中夹具装置13对应于光掩模7的突出构件14，并且通过卡盘捕获突出构件14 用于将光罩7固定到掩模支架3的保持表面11a的装置13。

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