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1. 发明申请

WO2011080661A1 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON MEHRLAGENSCHICHTEN UND/ODER GRADIENTENSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：用于多层膜和/或梯度分离
公开(公告)号：WO2011080661A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/IB2010/055954
申请日：2010-12-20
申请人： ROTH & RAU AG , MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/34 , C23C16/517 , H01L31/0216
CPC分类号： C23C14/54 , C23C16/345 , C23C16/517 , H01L31/02168 , Y02E10/50
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung von Mehrlagenschichten und/oder Gradientenschichten auf wenigstens ein Substrat in einer Inline-Plasmabeschichtungs-anlage mit wenigstens einer Prozesskammer, in der wenigstens zwei einzelne Plasmaquellen in Transportrichtung der Substrate nacheinander angeordnet sind, mit plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren dieser Gattung zur Verfügung zu stellen, mit welchem mehrere unterschiedliche Schichten eines Schichtstapels oder eine sich mit ihrer Dicke hinsichtlich ihrer Eigenschaften ändernde Schicht auf wenigstens einem Substrat in einer einzigen Prozesskammer während des Transportes des Substrates durch die Prozesskammer herstellbar sind. Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen mit unterschiedlichen Prozessbedingungen bei Anregungsfrequenzen zwischen 10 kHz und 2,45 GHz betrieben werden, wenigstens eine der wenigstens zwei Plasmaquellen dabei gepulst wird und das Substrat kontinuierlich durch die Beschichtungsgebiete der einzelnen Plasmaquellen hindurch transportiert wird, wobei wenigstens ein definierter zweilagiger Schichtstapel mit unterschiedlichen Schichteigenschaften der Einzelschichten und/oder wenigstens eine definierte Gradientenschicht auf dem Substrat abgeschieden wird.
摘要翻译：本发明涉及用于多层涂层和/或梯度层中的至少一个基板上与至少一个处理腔室的内联等离子体涂覆设备的沉积的方法，两个单独的等离子体源被布置在所述基片逐一在至少的输送方向，利用等离子体增强化学气相沉积。本发明的目的是提供这种类型的方法是可用的，与通过所述衬底的运输过程中的多个层堆叠或它的厚度相对于它们的性质层上在单个工艺室中的至少一个衬底上的变化的不同层的是处理室以产生。该目的通过上述类型，其中所述至少两个等离子体源与10千赫和2.45 GHz之间的在激励频率不同的工艺条件下操作的方法来实现，所述至少两个等离子体源中的至少一个是通过个别的涂层区域连续脉冲它与基板等离子体源被输送穿过其中，其中至少一个限定与所述各个层的不同的涂层性能两层层堆叠和/或在至少一个定义的梯度层沉积在衬底上。

2. 发明申请

WO2011080659A1 INLINE-BESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： INLINE涂装线
公开(公告)号：WO2011080659A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/IB2010/055949
申请日：2010-12-20
申请人： ROTH & RAU AG , MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/54 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/517 , H01J37/32082 , H01J37/32192 , H01J37/32779
摘要： Die Erfindung betrifft eine Inline-Beschichtungsanlage, die wenigstens eine Prozesskammer mit wenigstens zwei nacheinander in Förderrichtung von Substraten durch die Prozesskammer angeordnete Plasmaquellen aufweist. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine solche Inline-Plasmabeschichtungsanlage bereit zu stellen, die eine kontinuierliche, großflächige und effektive Abscheidung von hochqualitativen Mehrlagen- und/oder Gradientenschichten ermöglicht. Die Aufgabe wird durch eine Inline- Plasmabeschichtungsanlage der oben genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen unterschiedliche Plasmaquellen sind, die bei unterschiedlichen Anregungsfrequenzen arbeiten.
摘要翻译：本发明涉及一种在线涂布装置，其包括至少一个处理腔室具有至少两个通过处理室的等离子源连续地布置在基板的输送方向。本发明的目的是提供这样一种涂层在线等离子体可用的系统，其允许连续的，大规模和高品质的多层和/或梯度的有效沉积。该目的通过上述类型，其特征在于，所述至少两个等离子体源在不同的激励频率下工作的不同的等离子体源的串联式等离子体涂层系统来解决。

3. 发明申请

WO2010085949A2 SUBSTRATTRÄGER ZUR HALTERUNG VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：衬底载体基板保持
公开(公告)号：WO2010085949A2
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/DE2010/000138
申请日：2010-01-31
申请人： ROTH & RAU AG , PRÜSTEL, Mario , SCHUBERT, Stefan , SCHLEMM, Hermann , UHLIG, Matthias , LUX, André , DECKER, Daniel , KRAUTWALD, Silvia
发明人： PRÜSTEL, Mario , SCHUBERT, Stefan , SCHLEMM, Hermann , UHLIG, Matthias , LUX, André , DECKER, Daniel , KRAUTWALD, Silvia
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L31/18 , C23C16/4583 , C23C16/54 , H01L21/67336 , H01L21/6734 , H01L21/67363 , H01L21/67383 , H01L21/68735 , H01L21/68757 , H01L21/68778
摘要： Die Erfindung betrifft einen Substratträger zur Halterung von Substraten, bestehend aus einem Tragrahmen (1) und mindestens einer Substrataufnahme (2). Der Tragrahmen (1) weist eine selbsttragende und biegesteife Rahmenstruktur aus winklig zueinander angeordneten Längsstegen (6) und Querstegen (7) aus einem bis 800 0C formstabilen Material auf. Die Substrataufnahme (2) liegt auf dem Tragrahmen (1) auf und ist plattenartig derart ausgebildet, dass die Solarzellenwafer (5) auf der Oberseite der Substrataufnahme (2) positioniert werden können. Zwischen dem Tragrahmen (1) und der Substrataufnahme (2) sind thermische Isolierelemente (9) vorhanden. Die Elemente des Tragrahmens (1) und die Substrataufnahme (2) bestehen aus Stahl, Titan, Aluminium, Keramik, CFC (CFC = Carbon Fiber reinforced Carbon) oder daraus hergestellten Verbundwerkstoffen.
摘要翻译：本发明涉及一种基板支撑件，用于保持衬底，其包括支撑框架（1）和至少一个衬底保持器（2）。所述支撑框架（1）具有自支撑和刚性框架中的角度的尺寸稳定的布置成彼此纵向腹板（6）和横向腹板（7）高达800 0℃的材料。衬底保持器（2）的支撑框架上放置（1）和是平板状形成，使得在基片架（2）的顶部上的太阳能电池晶片（5）可被定位。所述支撑框架（1）和所述衬底保持器（2）之间是热绝缘体（9）中都存在。所述支撑框架（1）和所述衬底保持器（2）的元件由钢，钛，铝，陶瓷，CFC（CFC =碳纤维增强碳），或者从这样的复合材料制成的。

4. 发明申请

WO2012136586A1 SUBSTRATTRÄGER 审中-公开
标题翻译：衬底载体
公开(公告)号：WO2012136586A1
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/EP2012/055804
申请日：2012-03-30
申请人： ROTH & RAU AG , SCHUBERT, Stefan , DECKER, Daniel , OELSNER, Daniel
发明人： SCHUBERT, Stefan , DECKER, Daniel , OELSNER, Daniel
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/673 , C23C16/458 , C23C16/54 , C23C14/50 , C23C14/56
CPC分类号： C23C16/4581 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C14/568 , C23C16/4583 , C23C16/4586 , C23C16/50 , C23C16/54 , H01J2237/2001 , H01L21/673
摘要： Gegenstand der Erfindung ist ein Substratträger zum Transport und zur Halterung von Substraten bei der Beschichtung in Plasmakammern. Der Substratträger besteht aus einem bis 800 °C formstabilen Material und weist Längsstreben und Querstreben auf, die eine Mehrzahl von Öffnungen umgeben, in die Substrate eingelegt und entlang der Kanten der Längs- und Querstreben gehalten werden. Die Substrate werden auf der Unterseite an den Kanten so abgestützt, dass ein Plasmaumgriff reduziert ist. Die Unter- und/oder die Oberseiten einer oder mehrerer der Querstreben weisen eine Formgebung auf, die einen Gas- und Plasmafluss quer zur Transportrichtung des Substrats unterstützt.
摘要翻译：本发明涉及一种用于输送的基板支撑件和用于等离子体腔室保持基板在涂层中。基板载体是由形状稳定的高达800℃的材料，并且具有纵向支柱和横向支柱围绕多个放置在基片，并保持沿纵向和横向支柱的边缘开口。将基片支撑在使得Plasmaumgriff减小边缘下侧。底部和/或一个或多个所述横向支柱的顶部有一个支持横跨基板的输送方向的气体和等离子流的形状。

5. 发明公开

EP2521803A1 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON MEHRLAGENSCHICHTEN UND/ODER GRADIENTENSCHICHTEN 失效转让
标题翻译：用于多层膜和/或梯度分离
公开(公告)号：EP2521803A1
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：EP10816356.9
申请日：2010-12-20
申请人： Roth & Rau AG
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/34 , C23C16/517 , H01L31/0216
CPC分类号： C23C14/54 , C23C16/345 , C23C16/517 , H01L31/02168 , Y02E10/50
摘要： The invention relates to a method for depositing multi-layered layers and/or gradient layers on at least one substrate in an inline plasma coating installation comprising at least one process chamber in which at least two individual plasma sources are successively arranged in the transport direction of the substrate, by means of plasma-assisted chemical gas phase deposition. The aim of the invention is to provide such a method by which means a plurality of different layers in a stack of layers, or a layer having properties that change according to its thickness, can be produced on at least one substrate in a single process chamber during the transport of the substrate through the process chamber. To this end, according to such a method, the at least two plasma sources are operated under different process conditions at excitation frequencies of between 10 kHz and 2,45 GHz, at least one of the at least two plasma sources is pulsed, and the substrate is continuously transported through the coating areas of the individual plasma sources, at least one defined double-layered stack comprising individual layers having different properties and/or at least one defined gradient layer being deposited on the substrate.

6. 发明公开

EP2877610A1 GASSEPARATION 有权转让
标题翻译：气体分离
公开(公告)号：EP2877610A1
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：EP13739717.0
申请日：2013-07-23
申请人： Roth & Rau AG
发明人： MAI, Joachim , DECKER, Daniel , HELBIG, Stefan , LOEWEL, Oliver
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/54
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C14/564 , C23C16/4401 , C23C16/455 , C23C16/45502 , C23C16/458 , C23C16/4582 , C23C16/4583 , C23C16/54
摘要： A device (1) for moving gas in vacuum coating systems is disclosed, which suctions out gaseous coating material in the coating chamber that has not precipitated onto the substrates (3) to be coated. At least one pump for suctioning out the coating material is connected in an axial extension (112) of the suction device to the same, wherein the suction device has one or more suction openings (121) and is subdivided into at least two axial areas, the suction characteristics of which can be adjusted largely separately from one another.

7. 发明公开

EP2521804A1 INLINE-BESCHICHTUNGSANLAGE 失效转让
标题翻译： INLINE涂装线
公开(公告)号：EP2521804A1
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：EP10816355.1
申请日：2010-12-20
申请人： Roth & Rau AG
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/54 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/517 , H01J37/32082 , H01J37/32192 , H01J37/32779
摘要： The invention relates to an inline coating installation comprising at least one process chamber having at least two plasma sources successively arranged in the direction of transport of substrates through the process chamber. The aim of the invention is to provide such an inline plasma coating installation that enables a continuous, large-surface and effective deposition of highly qualitative multi-layered and/or gradient layers. To this end, such an inline plasma coating installation is provided, wherein the at least two plasma sources are different plasma sources operating at different excitation frequencies.

8. 发明申请

WO2014016297A1 GASSEPARATION 审中-公开
标题翻译：气体分离
公开(公告)号：WO2014016297A1
公开(公告)日：2014-01-30
申请号：PCT/EP2013/065513
申请日：2013-07-23
申请人： ROTH & RAU AG
发明人： MAI, Joachim , DECKER, Daniel , HELBIG, Stefan , LOEWEL, Oliver
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/54
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C14/564 , C23C16/4401 , C23C16/455 , C23C16/45502 , C23C16/458 , C23C16/4582 , C23C16/4583 , C23C16/54
摘要： Es wird eine Vorrichtung (1) zur Gasbewegung in Vakuum-Beschichtungsanlagen, offenbart, die in der Beschichtungskammer gasförmiges Beschichtungsmaterial absaugt, dass sich nicht auf den zu beschichtenden Substraten (3) niedergeschlagen hat. Mindestens eine Pumpe zur Absaugung des Beschichtungsmaterials ist dabei in axialer Verlängerung (112) der Absaugvorrichtung an diese angeschlossen, wobei die Absaugvorrichtung eine oder mehrere Ansaugöffnungen (121) aufweist und in mindestens zwei axiale Bereiche aufgeteilt ist, deren Absaugcharakteristika weitgehend getrennt voneinander einstellbar sind.
摘要翻译：它是公开在真空涂覆植物气体的运动的装置（1），其吸入不是在衬底上待涂布（3）被压下的涂覆室的气态涂层材料。至少一个泵用于涂层材料的提取是在连接到该抽吸装置的轴向延伸部（112），其中，所述排气装置包括一个或多个抽吸开口（121），并且被划分成至少两个轴向区域，其Absaugcharakteristika被设置在很大程度上彼此分离。

9. 发明申请

WO2015132214A1 VORRICHTUNG ZUR PLASMAPROZESSIERUNG MIT PROZESSGASZIRKULATION IN MULTIPLEN PLASMEN 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR等离子体处理在多个等离子体处理气体循环
公开(公告)号：WO2015132214A1
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：PCT/EP2015/054334
申请日：2015-03-03
申请人： ROTH & RAU AG
发明人： SCHLEMM, Hermann , KEHR, Mirko , ANSORGE, Erik , DECKER, Daniel
IPC分类号： C23C16/455 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/4412 , C23C16/45512 , C23C16/45561 , C23C16/45593 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/3244 , H01J37/32779 , H01J37/32834 , H01J37/32871 , H01J2237/3321 , H01J2237/334
摘要： Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Plasmaprozessierung umfasst eine Prozesskammer mit mindestens zwei von einem Prozessgas durchströmten Plasmaprozesszonen, einem Gaseinlass, der geeignet ist, das Prozessgas den mindestens zwei Plasmaprozesszonen zuzuführen, und einem Gasauslass, der geeignet ist, ein Abgas aus der Prozesskammer auszulassen, sowie eine Zirkulationseinheit mit einer Zirkulationsleitung und einer Zirkulationspumpe, wobei die Zirkulationseinheit geeignet ist, mindestens einen Teil des Abgases in den Gaseinlass einzuspeisen und wobei das in den Gaseinlass eingespeiste Abgas eine Mischung von Gasen, die aus mindestens zwei der Plasmaprozesszonen austreten, ist. Durch die Mischung von Abgasen aus mindestens zwei der Plasmaprozesszonen und deren erneute Einspeisung in den Gaseinlass, werden die bereits umgesetzten, aber auch die noch nicht umgesetzten Bestandteile des Prozessgases aus den mindestens zwei der Plasmaprozesszonen vermischt und damit eine Homogenisierung des Prozessgases, das den Plasmaprozesszonen zugeführt wird, erreicht. Dies reduziert die Inhomogenität der Plasmaprozessierung zwischen einzelnen Substraten, die aus Unterschieden des Plasmaprozesses in verschiedenen Plasmaprozesszonen entstehen.
摘要翻译：用于等离子体处理的本发明的装置包括处理腔室具有至少两个通过该处理气体的等离子体工艺区，气体入口，其适于供给处理气体，以在至少两个等离子体处理区，和气体出口适于从所述处理腔室泄废气，和循环单元用循环管线和循环泵，所述循环单元适于至少在排气气体的一部分供给到所述气体入口，并且其中送入气体入口排气从至少两个等离子体处理区的发出气体的混合物的信号。通过从至少两个等离子体处理区和其再引入到气体入口的废气的混合物中，已经实现，但是不混合，从所述至少两个等离子体处理区域，并且供应给等离子体处理区域中的处理气体的均匀化的工艺气体的未反应组分实现。这减少了从在不同的等离子体处理区域中的等离子体工艺的差异所出现单个基板之间的等离子体处理的不均匀性。

10. 发明申请

WO2004074296A2 PHOSPHAZENIUMSALZ-MISCHUNGEN ENTHALTEND HEXAKIS(AMINO)DIPHOSPHAZENIUM, TETRAKIS(AMINO)-PHOSPHONIUM UND POLYAMINOPHOSPAZENIUM-SALZE 审中-公开
标题翻译：磷氮杂MIXES含六（氨基）Diphosphazenium，四（氨基）磷和POLYAMINOPHOSPAZENIUM盐类
公开(公告)号：WO2004074296A2
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：PCT/EP2004/001253
申请日：2004-02-11
申请人： CLARIANT GMBH , WESSEL, Thomas , DECKER, Daniel , SOMMER, Thomas , HÜNIG, Hagen , SCHWESINGER, Reinhard
发明人： WESSEL, Thomas , DECKER, Daniel , SOMMER, Thomas , HÜNIG, Hagen , SCHWESINGER, Reinhard
IPC分类号： C07F
CPC分类号： B01J31/0268 , B01J31/0239 , B01J31/0265 , B01J2231/40 , C07B39/00 , C07C17/208 , C07C45/63 , C07F9/5721 , C07F9/591 , C07C47/55
摘要： Mischungen enthaltend 5 bis 99,5 Gew.-% einer Verbindung der Formel (I), 95 bis 0,5 Gew.-% einer Verbindung der Formel (II) und höchstens 10 Gew.-% einer oder mehrerer Verbindungen der allgemeinen Formel (III a), worin A 1 bis A 32 unabhängig voneinander, gleich oder verschieden sind und für ein geradkettiges oder verzweigtes Alkyl oder Alkenyl mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen, ein Aryl mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, ein Aralkyl mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen stehen, oder A 1 -A 2 , A 3 -A 4 , A 5 -A 6 usw. bis A 31 -A 32 unabhängig voneinander, gleich oder verschieden sind und direkt oder über O oder N-A 33 miteinander zu einem Ring mit 3 bis 7 Ringgliedern verbunden sind, A 33 für ein Alkyl mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen steht, wobei X 1 und/oder X 2 und/oder X 3 unabhängig voneinander Reste der Formel (III b), oder die Reste X 1 und/oder X 2 und/oder X 3 ebenfalls für ein geradkettiges oder verzweigtes Alkyl oder Alkenyl mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen, für ein Aryl mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, ein Aralkyl mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen stehen, oder jeweils die Reste, die sich an einem identisch gebundenen Stickstoffatomen befinden, z.B. A 1 und A 2 , A 3 und A 4 , A 5 und A 6 usw. bis A 31 und A 32 unabhängig voneinander, gleich oder verschieden sind und direkt oder über O oder N-A 33 miteinander zu einem Ring mit 3 bis 7 Ringgliedern verbunden sind und A 33 für ein Alkyl mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen steht und B - für einen einwertigen organischen oder anorganischen Säurerest oder das Äquivalent eines mehrwertigen Säurerests steht. Die Mischungen eignen sich als Katalysatoren und Co-Katalysatoren für Phasentransferreaktionen, nucleophile Substitutionsreaktionen oder Halogen-Fluor-Austauschreaktionen.
摘要翻译：含有5混合物至99.5重量式（I）的化合物的％，95至0.5重量下式的化合物的％（II）和至多10重量通式的一种或多种化合物的％（ III a），其中一个<1>到<32>独立地，相同或不同，表示直链或支链烷基或碳原子数1〜12的链烯基，具有环烷基为4〜8个碳原子，具有芳基为6〜12个碳原子，具有7至12个碳原子，或芳烷基一<1> -A <2>中，<3> -A <4>中，<5> -A <6>等，以一<31> -A < 32>独立地，相同或不同的，并直接或通过O或NA <33>连接在一起以形成具有3至7个环成员的环，<33>表示碳原子数1〜4的烷基，其中X 1和/或 X2和/或X3独立地是式的基团（III b）或基团X 1和/或X 2和/或X 3是也直链或支链烷基或具有1至烯12K个 ohlenstoffatomen，碳原子数为4〜8，具有6至12个碳原子，碳原子数7〜12的芳烷基，或在每种情况下其位于一个相同键合氮原子的基团，例如芳基环烷基 A <1>和A <2>，A <3>和A <4>中，A <5>和A <6>是，依此类推，以A <31>和A <32>彼此独立地相同或不同的直或通过O或NA <33>被连接到彼此，以形成具有3至7个环成员和一个环的<33>表示具有1至4个碳原子和B的烷基< - >为一价的有机或无机酸基团或一价的等效酸根看台。的混合物用作催化剂和助催化剂为相转移反应，亲核取代反应或卤素 - 氟交换反应是有用的。

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