专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2011080661A1 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON MEHRLAGENSCHICHTEN UND/ODER GRADIENTENSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：用于多层膜和/或梯度分离
公开(公告)号：WO2011080661A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/IB2010/055954
申请日：2010-12-20
申请人： ROTH & RAU AG , MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/34 , C23C16/517 , H01L31/0216
CPC分类号： C23C14/54 , C23C16/345 , C23C16/517 , H01L31/02168 , Y02E10/50
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung von Mehrlagenschichten und/oder Gradientenschichten auf wenigstens ein Substrat in einer Inline-Plasmabeschichtungs-anlage mit wenigstens einer Prozesskammer, in der wenigstens zwei einzelne Plasmaquellen in Transportrichtung der Substrate nacheinander angeordnet sind, mit plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren dieser Gattung zur Verfügung zu stellen, mit welchem mehrere unterschiedliche Schichten eines Schichtstapels oder eine sich mit ihrer Dicke hinsichtlich ihrer Eigenschaften ändernde Schicht auf wenigstens einem Substrat in einer einzigen Prozesskammer während des Transportes des Substrates durch die Prozesskammer herstellbar sind. Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen mit unterschiedlichen Prozessbedingungen bei Anregungsfrequenzen zwischen 10 kHz und 2,45 GHz betrieben werden, wenigstens eine der wenigstens zwei Plasmaquellen dabei gepulst wird und das Substrat kontinuierlich durch die Beschichtungsgebiete der einzelnen Plasmaquellen hindurch transportiert wird, wobei wenigstens ein definierter zweilagiger Schichtstapel mit unterschiedlichen Schichteigenschaften der Einzelschichten und/oder wenigstens eine definierte Gradientenschicht auf dem Substrat abgeschieden wird.
摘要翻译：本发明涉及用于多层涂层和/或梯度层中的至少一个基板上与至少一个处理腔室的内联等离子体涂覆设备的沉积的方法，两个单独的等离子体源被布置在所述基片逐一在至少的输送方向，利用等离子体增强化学气相沉积。本发明的目的是提供这种类型的方法是可用的，与通过所述衬底的运输过程中的多个层堆叠或它的厚度相对于它们的性质层上在单个工艺室中的至少一个衬底上的变化的不同层的是处理室以产生。该目的通过上述类型，其中所述至少两个等离子体源与10千赫和2.45 GHz之间的在激励频率不同的工艺条件下操作的方法来实现，所述至少两个等离子体源中的至少一个是通过个别的涂层区域连续脉冲它与基板等离子体源被输送穿过其中，其中至少一个限定与所述各个层的不同的涂层性能两层层堆叠和/或在至少一个定义的梯度层沉积在衬底上。

2. 发明申请

WO2011080659A1 INLINE-BESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： INLINE涂装线
公开(公告)号：WO2011080659A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/IB2010/055949
申请日：2010-12-20
申请人： ROTH & RAU AG , MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/54 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/517 , H01J37/32082 , H01J37/32192 , H01J37/32779
摘要： Die Erfindung betrifft eine Inline-Beschichtungsanlage, die wenigstens eine Prozesskammer mit wenigstens zwei nacheinander in Förderrichtung von Substraten durch die Prozesskammer angeordnete Plasmaquellen aufweist. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine solche Inline-Plasmabeschichtungsanlage bereit zu stellen, die eine kontinuierliche, großflächige und effektive Abscheidung von hochqualitativen Mehrlagen- und/oder Gradientenschichten ermöglicht. Die Aufgabe wird durch eine Inline- Plasmabeschichtungsanlage der oben genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen unterschiedliche Plasmaquellen sind, die bei unterschiedlichen Anregungsfrequenzen arbeiten.
摘要翻译：本发明涉及一种在线涂布装置，其包括至少一个处理腔室具有至少两个通过处理室的等离子源连续地布置在基板的输送方向。本发明的目的是提供这样一种涂层在线等离子体可用的系统，其允许连续的，大规模和高品质的多层和/或梯度的有效沉积。该目的通过上述类型，其特征在于，所述至少两个等离子体源在不同的激励频率下工作的不同的等离子体源的串联式等离子体涂层系统来解决。

3. 发明公开

EP2521803A1 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON MEHRLAGENSCHICHTEN UND/ODER GRADIENTENSCHICHTEN 失效转让
标题翻译：用于多层膜和/或梯度分离
公开(公告)号：EP2521803A1
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：EP10816356.9
申请日：2010-12-20
申请人： Roth & Rau AG
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael , SPERLICH, Hans-Peter
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/34 , C23C16/517 , H01L31/0216
CPC分类号： C23C14/54 , C23C16/345 , C23C16/517 , H01L31/02168 , Y02E10/50
摘要： The invention relates to a method for depositing multi-layered layers and/or gradient layers on at least one substrate in an inline plasma coating installation comprising at least one process chamber in which at least two individual plasma sources are successively arranged in the transport direction of the substrate, by means of plasma-assisted chemical gas phase deposition. The aim of the invention is to provide such a method by which means a plurality of different layers in a stack of layers, or a layer having properties that change according to its thickness, can be produced on at least one substrate in a single process chamber during the transport of the substrate through the process chamber. To this end, according to such a method, the at least two plasma sources are operated under different process conditions at excitation frequencies of between 10 kHz and 2,45 GHz, at least one of the at least two plasma sources is pulsed, and the substrate is continuously transported through the coating areas of the individual plasma sources, at least one defined double-layered stack comprising individual layers having different properties and/or at least one defined gradient layer being deposited on the substrate.

4. 发明公开

EP2521804A1 INLINE-BESCHICHTUNGSANLAGE 失效转让
标题翻译： INLINE涂装线
公开(公告)号：EP2521804A1
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：EP10816355.1
申请日：2010-12-20
申请人： Roth & Rau AG
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/54 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/517 , H01J37/32082 , H01J37/32192 , H01J37/32779
摘要： The invention relates to an inline coating installation comprising at least one process chamber having at least two plasma sources successively arranged in the direction of transport of substrates through the process chamber. The aim of the invention is to provide such an inline plasma coating installation that enables a continuous, large-surface and effective deposition of highly qualitative multi-layered and/or gradient layers. To this end, such an inline plasma coating installation is provided, wherein the at least two plasma sources are different plasma sources operating at different excitation frequencies.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式