专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2007066653A1 ポリシロキサン及び感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：聚硅氧烷和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2007066653A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/JP2006/324249
申请日：2006-12-05
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 杉江紀彦 , 夏目紀浩 , 高橋純一
发明人：西村功 , 杉江紀彦 , 夏目紀浩 , 高橋純一
IPC分类号： C08G77/12 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0757 , C08G77/12 , C08G77/14 , G03F7/0045
摘要：　下記の一般式（Ｉ）、及び一般式（ＩＩ）で表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られる、下記の一般式（ＩＩＩ）、及び下記の式（ＩＶ）で表される構造単位を有するポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。（式中、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及び各Ｒ４の定義は明細書に記載のとおりである。）
摘要翻译：公开了具有下述通式（III）或通式（IV）表示的结构单元的聚硅氧烷，其通过以下通式（I）或通式（II）表示的硅烷化合物的缩聚获得：的水。还公开了含有这种聚硅氧烷和辐射敏感性酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。（式中，R 1，R 2，R 3，R 4和R 4如在说明书中所定义）。）

2. 发明申请

WO2005101129A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005101129A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/JP2005/007123
申请日：2005-04-13
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 千葉隆 , 下川努
发明人：西村功 , 千葉隆 , 下川努
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0757
摘要：　１９３ｎｍ以下の波長において透明性が高く、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた化学増幅型レジストとして、保存後の感度変化が著しく抑制された感放射線性樹脂組成物を提供する。　感放射線性樹脂組成物は、（イ）下記式（Ｉ）で表される構造単位（Ｉ）および／または下記式（II）で表される構造単位（II）を有するシロキサン樹脂、（ロ）感放射線性酸発生剤、並びに（ハ）溶剤を含有し、樹脂組成物中の（イ）～（ハ）成分以外の含窒素化合物の含有率が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。　　【化１】（ＡおよびＢは直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の（置換）炭化水素基を示し、Ｒ 1 は１価の酸解離性基を示し、Ｒ 2 は水素原子または１価の酸解離性基を示す。）
摘要翻译：公开了对波长不大于193nm高度透明的特别适合于具有优异的焦深（DOF）的化学放大型抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物。此外，在该放射线敏感性树脂组合物中，抑制了储存后的灵敏度变化。辐射敏感性树脂组合物的特征在于，其含有（i）具有由下式（I）表示的结构单元（I）和/或由下式（II）表示的结构单元（II））的硅氧烷树脂，（ii）辐射敏感性酸产生剂和（iii）溶剂，除了组分（i） - （iii）以外的含氮化合物的含量不超过100ppm。（I）（II）（上式中，A和B分别表示直链，支链或环状二价（取代）烃基，R 1表示一价酸可裂解基团，R 2表示氢原子或一价酸可裂解基团。）

3. 发明申请

WO2004061525A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2004061525A1
公开(公告)日：2004-07-22
申请号：PCT/JP2003/016640
申请日：2003-12-24
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 藤原考一 , 小林英一 , 下川努 , 中村敦 , 米田英司 , 王勇
发明人：西村功 , 藤原考一 , 小林英一 , 下川努 , 中村敦 , 米田英司 , 王勇
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2006
摘要：　アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる特定の構造を有し、リビングラジカル重合により得られる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、　上記酸解離性基含有樹脂の重量平均分子量と数平均分子量との比（重量平均分子量／数平均分子量）が１．５よりも小さい感放射線性樹脂組成物。
摘要翻译：一种辐射敏感性树脂组合物，其特征在于，具有不溶解或易溶于碱的具有酸解离性基团的树脂，具有通过酸作用使树脂碱溶性的特定结构，通过活性自由基聚合得到; 和辐射敏感性酸产生剂，其中重均分子量与具有酸解离基的树脂的数均分子量的比[（重均分子量）/（数均分子量）] 为1.5以下。

4. 发明申请

WO2005037846A1 シラン化合物、ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：硅烷化合物，聚硅氧烷和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005037846A1
公开(公告)日：2005-04-28
申请号：PCT/JP2004/015150
申请日：2004-10-14
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 山原登 , 田中正人 , 下川努
发明人：西村功 , 山原登 , 田中正人 , 下川努
IPC分类号： C07F7/18
CPC分类号： G03F7/0757 , C07F7/0852 , C07F7/1836 , C08G77/14 , C08G77/24 , G03F7/0045
摘要： Disclosed is a novel polysiloxane which is suitable for a resin component in a chemically amplified resist that is particularly excellent in I-D bias, depth of focus (DOF) and the like. Also disclosed are a novel silane compound useful as a raw material for synthesizing such a polysiloxane, and a radiation-sensitive resin composition containing such a polysiloxane. The silane compound is represented by the following formula (I). (I) The polysiloxane has a constitutional unit represented by the following formula (1). (1) (R represents an alkyl group; R and R respectively represent a fluorine atom, a lower alkyl group or a lower fluorinated alkyl group; n is 0 or 1; k is 1 or 2; and i is an integer of 0-10.) The radiation-sensitive resin composition contains such a polysiloxane and a radiation-sensitive acid generator.
摘要翻译：公开了适用于I-D偏压，深度聚焦（DOF）等特别优异的化学增幅抗蚀剂中的树脂成分的新型聚硅氧烷。还公开了可用作合成这种聚硅氧烷的原料的新型硅烷化合物和含有这种聚硅氧烷的辐射敏感性树脂组合物。硅烷化合物由下式（I）表示。（I）聚硅氧烷具有由下式（1）表示的结构单元。（1）（R表示烷基; R 1和R 2分别表示氟原子，低级烷基或低级氟代烷基; n为0或1; k为1或2; i 是0-10的整数。）辐射敏感性树脂组合物含有这种聚硅氧烷和辐射敏感的酸发生剂。

5. 发明专利

JP2018204009A 組成物、硬化膜の製造方法及び電子部品审中-公开
公开(公告)号：JP2018204009A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2018107640
申请日：2018-06-05
申请人： JSR株式会社
发明人：伊藤彰基 , 金子将寛 , 穴吹翔馬 , 川島直之 , 西村功 , 宮木伸行
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/20 , C08F8/00 , C08F290/12 , C08F2/50
摘要：【課題】高温高湿下などの過酷な環境下であっても絶縁性を維持できる硬化膜を形成可能な組成物、及び前記硬化膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る組成物は、ラジカル重合性化合物、光ラジカル発生剤、及び光カチオン発生剤を含有する組成物であって、前記組成物の全質量を100質量%としたときに、水を0.01質量%以上1質量%以下含有する。【選択図】なし

6. 发明专利

JP6217857B2 新規な重合体およびその用途有权
公开(公告)号：JP6217857B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2016529202
申请日：2015-05-26
申请人： JSR株式会社
发明人：木村優 , 窪寛仁 , 徳永武士 , 西村功
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/09 , C12M3/00 , C08C19/00
CPC分类号： C08F8/34 , C12M23/20 , G03F7/038

7. 发明专利

JP2017105896A 硬化性組成物およびその用途审中-公开
公开(公告)号：JP2017105896A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2015239261
申请日：2015-12-08
申请人： JSR株式会社
发明人：西村功 , 藤冨晋太郎
IPC分类号： C08K5/29 , C08G14/073 , C09J163/00 , C09J11/06 , C09J179/00 , C09J7/04 , C08L61/34
摘要：【解決手段】ジヒドロ−1,3−ベンゾオキサジン環を有する化合物(A)、および環状アミジンを有する化合物と有機酸との塩(B)を含有することを特徴とする硬化性組成物。【効果】本発明の硬化性組成物を用いると、二律背反の関係にある接合性と保存安定性とをともに兼ね備えたフィルム状接着剤等の接着剤を得ることができる。この接着剤と繊維強化プラスチック等とから、繊維強化複合材料として利用できる積層体を得ることができる。【選択図】なし

8. 发明专利

JP2018204010A 組成物、硬化膜の製造方法及び電子部品审中-公开
公开(公告)号：JP2018204010A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2018107641
申请日：2018-06-05
申请人： JSR株式会社
发明人：伊藤彰基 , 金子将寛 , 穴吹翔馬 , 川島直之 , 西村功 , 宮木伸行
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F20/00 , C08F8/00 , C08F290/12 , C08F2/50
摘要：【課題】高温高湿下などの過酷な環境下であっても絶縁性を維持できる硬化膜を形成可能な組成物、及び前記硬化膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る組成物は、ラジカル重合性化合物、光ラジカル発生剤、及び光カチオン発生剤を含有する組成物であって、前記組成物の全質量を100質量%としたときに、ハロゲン原子を0.5ppm以上100ppm以下含有する。【選択図】なし

9. 发明专利

JP6439557B2 特定構造を有する化合物およびこれを含む感光性組成物有权
公开(公告)号：JP6439557B2
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：JP2015077815
申请日：2015-04-06
申请人： JSR株式会社
发明人：土井貴史 , ロジャンスキーイーゴリ , 西村功
IPC分类号： G03F7/004 , C07D265/16

10. 发明专利

JP2018169469A 表示パネルの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018169469A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017065608
申请日：2017-03-29
申请人： JSR株式会社
发明人：西村功 , 川島直之 , 鈴木康伸 , 宮本佳和
IPC分类号： G02F1/1339 , G09F9/30 , H05B33/12 , H05B33/22 , H01L51/50 , H05B33/10 , G03F7/038 , G09F9/00
摘要：【課題】薄膜基板上に形成されたパターンと、そのパターンに隣接する材料との密着性を向上させた表示パネルの製造方法を提供すること。【解決手段】表示パネルの製造方法であって、少なくとも (1)第1の基板上に硬化性材料を塗布し塗膜を形成する工程、 (2)上記塗膜を露光、パターンを形成する工程、 (3)上記パターンを光又は加熱により、パターンの表面状態を変性する工程、を有する表示パネルの製造方法。【選択図】なし

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式