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1. 发明专利

JP2015009171A インクジェット吐出方法、パターン形成方法、および、パターン审中-公开
标题翻译：喷墨喷射方法，图案形成方法和图案
公开(公告)号：JP2015009171A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2013134401
申请日：2013-06-27
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： GOTO YUICHIRO , DAIMATSU TEI , KITAGAWA HIROTAKA , ENOMOTO YUICHIRO , KODAMA KENICHI
IPC分类号： B05D1/26 , B05D7/24 , C09D11/00
CPC分类号： C09D11/30 , B41J2/01 , C08G65/007 , C08G65/3322 , C08K5/06 , C08K5/103 , C08K5/12 , C09D11/101 , C09D11/106 , C09D11/38 , C09D133/06 , G03F7/0002
摘要：【課題】残膜の制御(薄膜化、均一化)に必要な6pL以下の微滴吐出用ヘッドを使用した場合でも、適切に吐出可能で、該吐出方法を用いて得られたパターンが離型性に優れ、かつ、そのパターンが良好となる吐出方法の提供。【解決手段】下記(a)〜(c)を満たす光硬化性組成物を6pL以下の液滴サイズで吐出することを含む、インクジェット吐出方法;(a)含フッ素材料を、前記組成物の4質量%以上の割合で含有する;(b)前記組成物の表面張力が、25〜35mN/mである;(c)沸点が200℃以下の溶剤の含有量が前記組成物の5質量%以下である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供这样一种能够适当地排出即使使用用于控制（膜薄化，均匀化）剩余膜所需的6pL或更小的微小液滴喷射头的排出方法，也可以使用通过使用排出方法的剥离性优异，且图案具有良好的性能。解决方案：在喷墨喷射法中，满足以下条件（a） - （c）的光固化性组合物以6pL以下的液滴尺寸排出 ; （a）组合物的4质量％以上的比例含有含氟材料; （b）组合物的表面张力为25-35mN / m; （c）沸点为200℃以下的溶剂的含量为组合物的5质量％以下。

2. 发明专利

JP2014167628A Pattern forming method and a resist composition 有权
标题翻译：图案形成方法和阻力组成
公开(公告)号：JP2014167628A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2014060928
申请日：2014-03-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KAMIMURA SATOSHI , TARUYA SHINJI , IWATO KAORU , KATAOKA SHOHEI , MIZUTANI KAZUYOSHI , DOBASHI TORU , ENOMOTO YUICHIRO , FUJII KANA , KATO KEITA
IPC分类号： G03F7/038 , C08F20/26 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method and a resist composition from which a pattern having fewer development defects can be formed.SOLUTION: The resist composition is used for a specified pattern forming method and comprises the following resin, a hydrophobic resin having a fluorine atom or a silicon atom, and a solvent comprising a specified component. The resin contains a repeating unit (P) having a group that is decomposed by an action of an acid to generate an alcoholic hydroxyl group, contains neither a fluorine atom nor a silicon atom, and shows decrease in the solubility with a developing solution containing an organic solvent by an action of an acid; and in the resin, the repeating unit (P) contains no lactone structure, and the group that is decomposed by an action of an acid to generate an alcoholic hydroxyl group is a group expressed by at least one of specified general formulae. The compounding rate of the resin showing decrease in the solubility with a developing solution containing an organic solvent by an action of an acid is 60 to 95 mass% in the total solid content.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够形成具有较少显影缺陷的图案的图案形成方法和抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物用于指定的图案形成方法，并且包括以下树脂，疏水性树脂具有氟原子或硅原子，以及包含特定成分的溶剂。树脂含有具有通过酸作用而分解以产生醇羟基的基团的重复单元（P），既不含氟原子也不含硅原子，并且显示出与含有有机溶剂通过酸的作用; 并且在树脂中，重复单元（P）不含有内酯结构，通过酸的作用而分解以产生醇羟基的基团是由至少一个指定的通式表示的基团。与通过酸作用而含有有机溶剂的显影溶液的溶解性显示出降低的树脂的配合比率，在总固体成分中为60〜95质量％。

3. 发明专利

JP2013093552A Underlay film composition for imprint and pattern formation method using the same 有权
标题翻译：用于印刷和图案形成方法的底膜组合物
公开(公告)号：JP2013093552A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：JP2012193857
申请日：2012-09-04
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KODAMA KUNIHIKO , TARUYA SHINJI , ENOMOTO YUICHIRO , DAIMATSU TEI , ITO TAKAYUKI , KITAGAWA HIROTAKA , HATTORI AKIKO
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , C08F299/00
CPC分类号： G03F7/094 , G03F7/0002 , Y10T428/31504
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern excellent in pattern formation property and line edge roughness.SOLUTION: An underlay film composition for imprint contains a compound (A) and a solvent (B), where the compound (A) has at least one of a group (Ka) capable of covalent-binding and/or interacting with a substrate and a group (Kb) capable of covalent-binding and/or interacting with a curable composition for imprint, and where the Onishi parameter (Z) calculated by (Formula 1) is 3.8 or more and the molecular weight is 400 or more: (Formula 1) Onishi parameter=(whole atomic number)/(carbon number-oxygen number).
摘要翻译：要解决的问题：提供图案形成性和线边缘粗糙度优异的图案。解决方案：用于印记的底层膜组合物含有化合物（A）和溶剂（B），其中化合物（A）具有能够共价结合和/或相互作用的基团（Ka）中的至少一种底物和能够与用于印记的可固化组合物共价结合和/或相互作用的基团（Kb），并且其中通过（式1）计算的Onishi参数（Z）为3.8以上且分子量为400以上 :(式1）大石参数=（全原子数）/（碳数 - 氧数）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2013036027A Curable composition for imprint, method for forming pattern, and pattern 有权
标题翻译：用于印刷的可固化组合物，形成图案的方法和图案
公开(公告)号：JP2013036027A
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：JP2012112278
申请日：2012-05-16
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KODAMA KUNIHIKO , ENOMOTO YUICHIRO , USUKI KAZUYUKI , DAIMATSU TEI , KITAGAWA HIROTAKA
IPC分类号： C08L71/00 , B41M5/00 , C08K5/00
CPC分类号： C08K5/053 , B29C59/005 , C08F2/46 , C08F2/48 , C08F220/10 , C08F220/22 , C08F222/1006 , C08F230/08 , C08F2220/1833 , C08F2220/185 , C08F2220/1875 , C08F2220/1891 , C08F2220/382 , C08F2222/1013 , C08F2222/102 , C09D4/06 , G11B5/855 , Y10T428/24479 , C09D133/04 , C08L71/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition for an imprint, which is superior in pattern shape, defective pattern, and line edge roughness.SOLUTION: The curable composition for imprint contains a polymerizable compound (A), photopolymerization initiator (B), and a non-polymerizable compound (C) having a polyalkylene glycol structure and substantially not containing fluorine atom and silicon atom.
摘要翻译：要解决的问题：提供图案形状优异，图案不良，线边缘粗糙度优异的印模用固化性组合物。解决方案：用于压印的可固化组合物含有聚合的化合物（A），光聚合引发剂（B）和具有聚亚烷基二醇结构并且基本上不含氟原子和硅原子的不可聚合化合物（C）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2012083727A Pattern forming method 有权
标题翻译：图案形成方法
公开(公告)号：JP2012083727A
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：JP2011196046
申请日：2011-09-08
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KAMIMURA SATOSHI , YAMANAKA TSUKASA , ENOMOTO YUICHIRO , KATO KEITA
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/405 , Y10T428/24802
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method capable of attaining both CDU (Critical Dimension Uniformity) performance and defect performance at high levels.SOLUTION: In the pattern forming method which includes (a) forming a film using a chemically amplified resist composition, (b) exposing the film, and (c) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, the developer contains an ester and ketone having a carbon number of 7 or more.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够以高水平实现CDU（临界尺寸均匀性）性能和缺陷性能的图案形成方法。解决方案：在图案形成方法中，包括（a）使用化学放大型抗蚀剂组合物形成膜，（b）使膜曝光，和（c）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜，显影剂含有碳数为7以上的酯和酮。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2011221509A Pattern forming method and resist composition 有权
标题翻译：图案形成方法和阻力组成
公开(公告)号：JP2011221509A
公开(公告)日：2011-11-04
申请号：JP2011056712
申请日：2011-03-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATO KEITA , TARUYA SHINJI , DOBASHI TORU , KAMIMURA SATOSHI , ENOMOTO YUICHIRO , FUJII KANA , IWATO KAORU , KATAOKA SHOHEI , MIZUTANI KAZUYOSHI
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method for forming a pattern having excellent exposure latitude (EL) and a large depth of focus (DOF), and a resist composition.SOLUTION: A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent. The resist composition contains (a) a resin which is decomposed by the action of an acid and ΔSP represented by the following equation (1) is equal or more than 2.5(MPa); (b) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (c) a solvent.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于形成具有优异的曝光宽容度（EL）和大的聚焦深度（DOF）的图案的图案形成方法和抗蚀剂组合物。解决方案：本发明的图案形成方法包括（A）用抗蚀剂组合物形成膜; （B）将薄膜曝光; 和（C）用含有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜。抗蚀剂组合物含有（a）通过酸的作用而分解的树脂和下述式（1）表示的ΔSP等于或大于2.5（MPa） 1/2 < SP>; （b）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; 和（c）溶剂。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2011203698A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and pattern forming method using the composition 有权
标题翻译：活性敏感或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物的图案形成方法
公开(公告)号：JP2011203698A
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：JP2010073662
申请日：2010-03-26
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATO KEITA , IWATO KAORU , TARUYA SHINJI , KATAOKA SHOHEI , KAMIMURA SATOSHI , ENOMOTO YUICHIRO , FUJII KANA , MIZUTANI KAZUYOSHI , DOBASHI TORU
IPC分类号： G03F7/038 , C08F20/12 , C08F34/00 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in stability with time, a development defect performance and a roughness characteristic, and also to provide a pattern forming method using the composition.SOLUTION: This active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: a resin containing a repeated unit including a group generating an alcoholic hydroxy group by being decomposed by action of an acid, whose solubility to a developing solution containing an organic solvent is reduced by action of the acid; a compound generating an acid by irradiation of an active ray or a radiation; and a solvent. The moisture content rate measured by the Karl Fischer's method is ≤1.0 mass%.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种稳定性随时间优异，显影缺陷性能和粗糙度特性优异的活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，并且还提供使用该组合物的图案形成方法。主动射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有：含有通过酸作用分解产生醇羟基的基团的重复单元的树脂，其对含有有机溶剂的显影溶液的溶解度通过酸; 通过活性射线或辐射的照射产生酸的化合物; 和溶剂。通过卡尔费休法测定的含水率≤1.0质量％。

8. 发明专利

JP2011191753A Pattern forming method, chemical amplification resist composition, and resist film 有权
标题翻译：图案形成方法，化学放大抗蚀剂组合物和耐蚀膜
公开(公告)号：JP2011191753A
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2011031438
申请日：2011-02-16
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATO KEITA , TARUYA SHINJI , KAMIMURA SATOSHI , ENOMOTO YUICHIRO , IWATO KAORU
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/24 , C07C309/30 , C07C381/12 , C08F2/48 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with an excellent resolution, a wide exposure latitude (EL) and a small line width variation (LWR), a chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film. SOLUTION: The pattern forming method comprises a step of forming a film from a chemical amplification resist composition, a step of exposing the film, and a step of developing the exposed film by using a developer containing an organic solvent where the chemical amplification resist composition contains (A) resin, (B) a compound capable of generating an acid represented by a general formula (I) upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a cross-linking agent, and (D) a solvent. In the formula (I), A represents a cyclic organic group and each of the other symbols represents a predetermined structure. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够形成具有优异分辨率，宽曝光宽容度（EL）和小线宽度变化（LWR）的图案的图案形成方法，该方法中使用的化学放大抗蚀剂组合物，和抗蚀膜。解决方案：图案形成方法包括从化学放大抗蚀剂组合物形成膜的步骤，曝光膜的步骤以及通过使用包含有机溶剂的显影剂显影所述曝光膜的步骤，其中化学扩增抗蚀剂组合物含有（A）树脂，（B）在用光化射线或辐射照射时能够产生由通式（I）表示的酸的化合物，（C）交联剂和（D）溶剂。式（I）中，A表示环状有机基团，其他各符号表示规定的结构。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2011141495A Pattern forming method, chemically amplified resist composition and resist film 有权
标题翻译：图案形成方法，化学放大电阻组合物和电阻膜
公开(公告)号：JP2011141495A
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：JP2010003387
申请日：2010-01-08
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ENOMOTO YUICHIRO , TARUYA SHINJI , KAMIMURA SATOSHI , IWATO KAORU , KATO KEITA , SHIBUYA AKINORI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/075 , G03F7/32 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.
SOLUTION: The pattern forming method includes (α) a step of forming a film from a chemically amplified resist composition; (β) a step of exposing the film; and (γ) a step of developing with a developer containing an organic solvent, wherein the resist composition comprises (A) a resin, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, (C) a crosslinking agent, (D) a solvent, and (G) a compound which has basicity or exhibits increased basicity due to the action of an acid, the compound having at least one of a fluorine atom or an oxygen atom.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供显示出大的聚焦深度（DOF）和小的线宽粗糙度（LWR）的图案形成方法和化学放大的负型抗蚀剂组合物，并且能够形成具有优异图案形状的图案并减少桥梁缺陷。解决方案：图案形成方法包括（α）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜的步骤; （β）暴露薄膜的步骤; 和（γ）用包含有机溶剂的显影剂显影的步骤，其中抗蚀剂组合物包含（A）树脂，（B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物，（C）交联剂，（D）溶剂，和（G）由于酸的作用而具有碱性或显示增加的碱性的化合物，具有至少一个氟原子或氧原子的化合物。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2015055844A パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、処理剤有权
标题翻译：图案形成方法，制造电子装置的方法和处理剂
公开(公告)号：JP2015055844A
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013190735
申请日：2013-09-13
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： ENOMOTO YUICHIRO , UEHA RYOSUKE , SHIRAKAWA MICHIHIRO , FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI , KOJIMA MASASHI
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/405 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0273
摘要：【課題】パターンに処理剤を作用させる(いわゆる、シュリンク工程を実施する)ことによりパターンの微細化を図るパターン形成方法において、上記パターンの微細化に優れることにより、超微細のスペース幅(例えば60nm以下)を有するラインアンドスペースパターンを確実に形成でき、かつ、該ラインアンドスペースパターンを、シュリンク工程が適用された後におけるラフネス性能が優れた状態で形成可能なパターン形成方法及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、(2)前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、(3)前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程、及び、(4)前記被処理パターンに対し、1級アミノ基及び2級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物(x)を含む処理剤を作用させて、処理済パターンを得る工程を含む、パターン形成方法、及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供用于该方法的图案形成方法和处理剂，通过该图案形成方法和处理剂，可以在图案对处理剂的作用进行图案化处理（可以进行所谓的“ 所谓收缩处理），从而可以获得更细的图案，从而可以可靠地形成具有超微细空间宽度（例如60nm以下）的线间距图案，并且经受可以形成具有优异的粗糙度性能的收缩工艺，并提供一种电子器件的制造方法。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用光化学敏感或辐射敏感的膜形成膜树脂组合物，其包含通过酸的作用显示极性增加的树脂和与含有机溶剂的显影液的溶解度降低的树脂组合物; （2）将膜暴露于光化射线或辐射; （3）通过使用含有有机溶剂的显影液形成通过显影膜来处理的图案; 和（4）使含有具有伯氨基和仲氨基中的至少一种的化合物（x）的处理剂作用于待处理的图案上，以获得处理图案。处理剂以上述图案形成方法使用; 并且电子设备的制造方法包括上述图案形成方法。

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