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1. 发明专利

JP2015045836A パターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス审中-公开
标题翻译：用于其的图案形成方法和表面处理剂，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2015045836A
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：JP2014007907
申请日：2014-01-20
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： ENOMOTO YUICHIRO , UEHA RYOSUKE , SHIRAKAWA MICHIHIRO , FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI , KOJIMA MASASHI
IPC分类号： G03F7/38 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/30 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/26 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/405 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要：【課題】パターントップ部の平坦性や二重現像時のパターン残存性に優れたパターンを形成できるパターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により分解して極性基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、(2)前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、(4A)前記感活性光線性又は感放射線性膜に対して、露光後の樹脂が有する極性基と相互作用する化合物を含有する表面処理剤を作用させる工程、及び、(5A)有機溶剤を含む現像液を用いて前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像する工程、をこの順に含むパターン形成方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以形成具有优异的图案顶部的平坦度和双重显影中的图案残留特性的图案，用于该方法的表面处理剂，电子装置的制造方法，和电子器件。解决方案：图案形成方法按以下顺序包括：（1）从含有树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成光化射线敏感或辐射敏感膜的步骤其被酸的作用分解以产生极性基团; （2）曝光光化射线敏感或辐射敏感膜的步骤; （4A）使曝光后的光化射线敏感膜或放射线敏感膜受到包含与包含在树脂中的极性基团相互作用的化合物的表面处理剂的作用的步骤; 和（5A）通过使用含有机溶剂的显影液来显影光化射线敏感性或辐射敏感性膜的步骤。

2. 发明专利

JP2014235179A パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸敏感或辐射敏感膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014235179A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2013114502
申请日：2013-05-30
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI , SHIRAKAWA MICHIHIRO , YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322
摘要：【課題】線幅バラツキ(LWR)が小さく、更には膜べりが低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、この方法に好適に用い得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。また、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、溶剤、及び、前記樹脂中の極性基とイオン結合を形成する成分を発生する化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以以较小的线宽波动范围（LWR）和较小的膜还原程度形成图案，以提供光化学敏感或辐射敏感树脂组合物和适用于上述方法的光化射线敏感或辐射敏感膜，以及提供一种包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：：通过在基材上施加光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，形成光化射线敏感或辐射敏感膜，其包含通过酸，溶剂的作用显示出与有机溶剂的溶解度降低的树脂和在树脂中产生与极性基团形成离子键的成分的化合物; 暴露光化射线敏感或辐射敏感膜; 以及通过使用包含有机溶剂的显影剂显影曝光的光化射线敏感或辐射敏感膜以形成负型图案。

3. 发明专利

JP2014178645A Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸敏感或辐射敏感膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014178645A
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：JP2013054259
申请日：2013-03-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , SHIBUYA AKINORI , GOTO AKIYOSHI , SHIRAKAWA MICHIHIRO , YAMAMOTO KEI , YOSHINO FUMIHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/06 , C08K5/42 , C08L33/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C07C381/12 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/36 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, which are adaptable to a developing process or a rinsing process under various conditions, and to provide a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of: (i) forming a film of an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; (ii) exposing the film; and (iii) developing the exposed film by using a developing solution comprising an organic solvent to form a negative pattern. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) a resin which shows decrease in the solubility with a developing solution comprising an organic solvent by an action of an acid and which comprises a lactone structure expressed by general formula (1); and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供使用光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和光化射线敏感性或辐射敏感性膜的图案形成方法，其为适用于各种条件下的显影工艺或漂洗工艺，并提供一种制造电子器件和电子器件的方法。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（i）形成光化学敏感的膜或辐射敏感性树脂组合物; （ii）曝光胶片; 和（iii）通过使用包含有机溶剂的显影溶液来形成曝光的薄膜以形成负图案。光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）通过酸的作用显示与包含有机溶剂的显影溶液的溶解度降低的树脂，其包含由通式（1）表示的内酯结构）; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。

4. 发明专利

JP2014199389A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用该组合物的丙烯酸类敏感或辐射敏感性膜和图案形成方法，以及用于制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2014199389A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2013119288
申请日：2013-06-05
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： GOTO AKIYOSHI , YAMAGUCHI SHUHEI , MATSUDA TOMOKI , KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , TANGO NAOHIRO , KATO KEITA , SHIRAKAWA MICHIHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C311/03 , C07D279/12 , C07D295/22 , C07D319/18 , C07D327/06 , C07D411/04 , C08F20/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D295/22 , C07D279/12 , C07D311/80 , C07D311/82 , C07D327/06 , C07D339/08 , C07D411/04 , C07D417/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：【課題】パターン倒れが少なく、露光ラチチュード、及びLWRなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中の各符号は特許請求の範囲に記載の意味を表す。)【化1】【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供导致很少的图案塌陷的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，具有优异的图案粗糙度特性如曝光宽容度和LWR（线宽粗糙度），并且随着时间的推移表现出很小的变化，并提供使用上述组合物的光化射线敏感或辐射敏感膜和图案形成方法，以及电子器件和电子器件的制造方法。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含由下述通式（1）表示的化合物。在该式中，符号表示在本发明的权利要求中描述的含义。

5. 发明专利

JP2012158740A Dye compound, method for producing dipyrromethene metal complex compound, method for producing dye multimer, and substituted pyrrole compound 审中-公开
标题翻译：染料化合物，二氯乙烯金属复合化合物的制造方法，生产染料多元素的方法和取代的吡咯烷酮化合物
公开(公告)号：JP2012158740A
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：JP2011162389
申请日：2011-07-25
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： DEI HIROAKI , ARAYAMA KYOHEI , KANNA SHINICHI , USHIJIMA KENTA , GOTO AKIYOSHI
IPC分类号： C09B57/10 , C07D207/44 , C07F3/06 , C09B57/00 , C09B69/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dye compound excellent in heat resistance and good in color purity.SOLUTION: The dye compound has a partial structure represented by formula (5) (wherein Dye denotes a dye structure; Gdenotes NR or oxygen; Gdenotes a monovalent substituent having a steric parameter, -Es' value, of ≥1.5; p denotes an integer of 1 to 8, and when p is ≥2, the structures in the parentheses may be the same or different; and R denotes hydrogen or a monovalent substituent).
摘要翻译：要解决的问题：提供耐热性和色纯度优异的染料化合物。解决方案：染料化合物具有由式（5）表示的部分结构（其中染料表示染料结构; G 1 表示NR或氧; G 2 表示具有≥1.5的空间参数-E'值的一价取代基，p表示1〜8的整数，当p≥2时，括号中的结构可以是相同或不同; R表示氢或一价取代基）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2012051819A Production method of acid halide and acid halide 有权
标题翻译：酸和卤酸的生产方法
公开(公告)号：JP2012051819A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：JP2010193859
申请日：2010-08-31
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： GOTO AKIYOSHI
IPC分类号： C07C51/60 , C07C57/76
CPC分类号： C07C53/50 , C07C51/09 , C07C51/58 , C07C51/60 , C07C303/30 , C07C2601/14 , C07D213/55 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C53/19 , C07C57/66
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for safely and inexpensively producing an acid halide having a leaving group and a bulky group with high accuracy in selectiveness.SOLUTION: The production method of the acid halide includes a process for obtaining a carboxylic acid derivative by making a compound expressed by a general formula (III), a basic compound and a compound expressed by a general formula (IV) react with one another, and a process for obtaining a compound expressed by a general formula (I) by making the carboxylic acid derivative react with an acid halide agent. In the general formula (I), Rand Rare each independently a group selected from groups composed of alkyl, allyl, alkenyl, alkynyl, and hetero ring. Rdenotes an alkylene group. Xdenotes a halogen atom. Ldenotes a leaving group. In the general formula (III), Rand Rare synonymous with Rand Rin the general formula (I), respectively. M denotes a hydrogen atom or a metal atom. In the general formula (IV), Rand Lare synonymous with Rand Lin the general formula (I), respectively. Ldenotes the leaving group.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种以选择性高精度安全且廉价地生产具有离去基团和大体积基团的酰卤的方法。解决方案：酰卤的制备方法包括通过制备由通式（III）表示的化合物，碱性化合物和由通式（IV）表示的化合物表示的化合物来获得羧酸衍生物的方法与和通过使羧酸衍生物与酰卤反应而获得由通式（I）表示的化合物的方法。在通式（I）中，R 1 和R 2 各自独立地选自由烷基，烯丙基，烯基，炔基和杂环。 R 3 表示亚烷基。 X 1 表示卤素原子。 L 1 表示离开组。在通式（III）中，R 1 和R 2 与R 1同义分别在通式（I）中的和R 2 。 M表示氢原子或金属原子。在通式（IV）中，R 3 和L 1 与R 3 分别在通式（I）中的和L 1 。 L 2 表示离开组。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2012051817A Production method of acid halide and acid halide 审中-公开
标题翻译：酸和卤酸的生产方法
公开(公告)号：JP2012051817A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：JP2010193853
申请日：2010-08-31
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： GOTO AKIYOSHI , ITO JUNICHI , NAGATA YUZO
IPC分类号： C07C51/60 , C07C53/50 , C07C57/76
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inexpensively producing an acid halide having a leaving group and a bulky group with high accuracy in selectiveness.SOLUTION: The production method of the acid halide includes a process for obtaining a compound expressed by a general formula (II) by making a compound expressed by a general formula (III) and the acid halide react with each other, and expressed by a general formula (I) by making a compound expressed by the general formula (II) and an acid halide agent react with each other. In the general formula (I), A denotes a bivalent coupling group which is obtained by extracting one atom from a univalent substituent whose Es' value being a three-dimensional parameter is not smaller than 1.5, and Xdenotes a halogen atom. Ldenotes the leaving group. In the general formula (II), A and Lare synonymous with A and Lin the general formula (I), respectively. In the general formula (III), A and Lare synonymous with A and Lin the general formula (I), respectively.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种低选择性地制备具有离去基团和大体积基团的酰卤的方法。解决方案：酰卤的制备方法包括通过制备由通式（III）表示的化合物和酰卤彼此反应获得由通式（II）表示的化合物的方法，并且表达由通式（I）通过使通式（II）表示的化合物和酰卤剂相互反应而得到。在通式（I）中，A表示通过从Es'值为三维参数的一价取代基提取一个原子不小于1.5而得到的二价偶联基团，X 1 表示卤素原子。 L 1 表示离开组。在通式（II）中，在通式（I）中，A和L 1 与A和L 1 ，分别。在通式（III）中，通式（I）中的A和L 1 与A和L 1 同义，，分别。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2017116880A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017116880A
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2015255178
申请日：2015-12-25
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： TANAKA TAKUMI , FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/18 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要：【課題】本発明の目的は、ラフネス特性に優れ、且つ、塗布欠陥の発生を抑制可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、それを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、(A)少なくとも2つのラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物であり、前記化合物のフッ素原子の含有率は、前記化合物に含まれる全原子の質量の合計に対して、0以上0.20以下である化合物を含有している。【選択図】なし

9. 发明专利

JP2015055844A パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、処理剤有权
标题翻译：图案形成方法，制造电子装置的方法和处理剂
公开(公告)号：JP2015055844A
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013190735
申请日：2013-09-13
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： ENOMOTO YUICHIRO , UEHA RYOSUKE , SHIRAKAWA MICHIHIRO , FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI , KOJIMA MASASHI
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/405 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0273
摘要：【課題】パターンに処理剤を作用させる(いわゆる、シュリンク工程を実施する)ことによりパターンの微細化を図るパターン形成方法において、上記パターンの微細化に優れることにより、超微細のスペース幅(例えば60nm以下)を有するラインアンドスペースパターンを確実に形成でき、かつ、該ラインアンドスペースパターンを、シュリンク工程が適用された後におけるラフネス性能が優れた状態で形成可能なパターン形成方法及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、(2)前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、(3)前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程、及び、(4)前記被処理パターンに対し、1級アミノ基及び2級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物(x)を含む処理剤を作用させて、処理済パターンを得る工程を含む、パターン形成方法、及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供用于该方法的图案形成方法和处理剂，通过该图案形成方法和处理剂，可以在图案对处理剂的作用进行图案化处理（可以进行所谓的“ 所谓收缩处理），从而可以获得更细的图案，从而可以可靠地形成具有超微细空间宽度（例如60nm以下）的线间距图案，并且经受可以形成具有优异的粗糙度性能的收缩工艺，并提供一种电子器件的制造方法。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用光化学敏感或辐射敏感的膜形成膜树脂组合物，其包含通过酸的作用显示极性增加的树脂和与含有机溶剂的显影液的溶解度降低的树脂组合物; （2）将膜暴露于光化射线或辐射; （3）通过使用含有有机溶剂的显影液形成通过显影膜来处理的图案; 和（4）使含有具有伯氨基和仲氨基中的至少一种的化合物（x）的处理剂作用于待处理的图案上，以获得处理图案。处理剂以上述图案形成方法使用; 并且电子设备的制造方法包括上述图案形成方法。

10. 发明专利

JP2014026102A Pattern forming method and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to be used for the method 有权
标题翻译：用于方法的图案形成方法和丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：JP2014026102A
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：JP2012166049
申请日：2012-07-26
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , GOTO AKIYOSHI , MATSUDA TOMOKI , FUKUHARA TOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C25/18 , C07C309/09 , C07C309/12 , C07C309/14 , C07C309/42 , C07C311/48 , C07C381/12 , C07D295/22 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method excellent in roughness performance such as line width roughness and excellent in exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to be used for the method.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of: (i) forming a film containing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which contains a compound (A) expressed by general formula (I), a resin (P) that shows decrease in the solubility with a developing solution containing an organic solvent by an action of an acid, and a compound (B) that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (ii) irradiating the film with actinic rays or radiation; and (iii) developing the film irradiated with actinic rays or radiation by use of a developing solution containing an organic solvent.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种粗糙度优异的图案形成方法，例如线宽粗糙度和优异的曝光宽容度，以及用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（i）形成含有光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的膜，其含有由通式（I）表示的化合物（A），表现出与通过酸的作用含有有机溶剂的显影溶液和通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物（B）; （ii）用光化射线或辐射照射薄膜; 和（iii）通过使用含有机溶剂的显影溶液显影用光化射线或辐射照射的薄膜。

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