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1. 发明申请

WO2012104136A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING SUCH A MIRROR, PROJECTION LENS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜子，用于生产这样的镜子的方法，用于包含这种镜子的微观尺寸的投影镜头和用于包含这样的投影镜头的微结构的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012104136A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2012/050573
申请日：2012-01-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
发明人： MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B17/0657 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror (1a; 1b; 1c; 1d) for the EUV wavelength range having a reflectivity of greater than 40% for at least one angle of incidence of between 0° and 25°, comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement comprises at least one layer subsystem (ASL) consisting of a periodic sequence of at least two periods (PASL) of individual layers (LASL, B, HASL) composed of different materials, and wherein the layer subsystem (ASL) has an oxygen doping of between 10 ppb and 0.1 %, in particular between 50 ppb and 50 ppm. Furthermore, the invention relates to a method for coating a mirror (1a; 1b; 1c: 1d) for the EUV wavelength range, wherein an oxygen partial pressure of greater than 10 -9 mbar, in particular of greater than 10 -7 mbar, is present during the coating of the layer subsystem (ASL) with oxygen doping. Furthermore, the invention relates to a projection lens for micro lithography comprising such a mirror, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1b; 1c; 1d），其对于至少一个入射角在0°至25°之间的反射率大于40％，包括基底（S）和层布置，其中所述层布置包括由由不同材料组成的单个层（LASL，B，HASL）的至少两个周期（PASL）的周期性序列组成的至少一个层子系统（ASL），并且其中所述层子系统（ASL）的氧掺杂在10ppb和0.1％之间，特别是在50ppb和50ppm之间。此外，本发明涉及一种用于EUV波长范围的用于涂覆反射镜（1a; 1b; 1c：1d）的方法，其中大于10-9毫巴，特别是大于10-7毫巴的氧分压，在具有氧掺杂的层子系统（ASL）的涂覆期间存在。此外，本发明涉及一种包括这种反射镜的微光刻用投影透镜以及包括这种投影透镜的投影曝光装置。

2. 发明申请

WO2015075214A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT, SOWIE OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：反射光学元件，以及微光刻投射曝光设备的光学系统
公开(公告)号：WO2015075214A1
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：PCT/EP2014/075356
申请日：2014-11-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , PAUL, Hans-Jochen , SCHICKETANZ, Thomas , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , GRASSE, Christian , WINTER, Ralf , STROBEL, Sebastian
发明人： ENKISCH, Hartmut , PAUL, Hans-Jochen , SCHICKETANZ, Thomas , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , GRASSE, Christian , WINTER, Ralf , STROBEL, Sebastian
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G21K1/062
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein reflektives optisches Element sowie ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Ein reflektives optisches Element weist ein Substrat (52) und ein auf diesem Substrat angeordnetes Viellagensystem (51) auf, wobei das Viellagensystem (51) eine Mehrzahl von Teilstapeln aus jeweils einer ersten Lage (54) eines ersten Materials und wenigstens einer zweiten Lage (55) eines zweiten Materials aufweist, wobei sich das erste Material und das zweite Material im Wert des Realteils des Brechungsindex bei einer Arbeitswellenlänge des reflektiven optischen Elements (50) voneinander unterscheiden, wobei jeder dieser Teilstapel (53) eine Teilstapeldicke (D i ) und ein Lagendickenverhältnis (Γ i ) aufweist, wobei das Lagendickenverhältnis (Γ i ) als Quotient der Dicke der jeweiligen ersten Lage (54) und der Teilstapeldicke (D i ) definiert ist, wobei in einem ersten Abschnitt des Viellagensystems (51) für wenigstens eine der beiden Größen Teilstapeldicke (D i ) und Lagendickenverhältnis (Γ i ) die mittlere quadratische Abweichung vom jeweiligen Mittelwert um wenigstens 10% kleiner ist als in einem zweiten Abschnitt des Viellagensystems (51); und wobei das reflektive optische Element (50) eine Reflektivität (R) aufweist, deren Wellenlängenabhängigkeit in einem Wellenlängenintervall von Δλ = 0.5nm einen PV-Wert kleiner als 0.25 besitzt, wobei der PV-Wert definiert ist als PV = (R max_rel - R min_rel )/R max_abs , wobei R max_rel den maximalen Reflektivitätswert in diesem Wellenlängenintervall Δλ, R min_rel den minimalen Reflektivitätswert in diesem Wellenlängenintervall Δλ und R max_abs den absolut maximalen Reflektivitätswert bezeichnen.
摘要翻译：本发明涉及一种反射光学元件和微光刻投射曝光设备的光学系统。一种反射光学元件包括基底（52）和设置在阀所述衬底的多层系统（51），所述多层系统（51）包括多个亚电池堆的每个包括第一材料的第一层（54）和至少一个第二层（55 ）第二材料，其中所述第一材料和在所述反射光学元件的工作波长的折射率的实数部分的值的第二材料（50）彼此不同，每个所述子叠层（53）（一个局部堆叠厚度（DI）和一个层厚度比 γI），其中所述片材厚度之比（γI）被定义为相应的第一层（54）和部件层叠厚度（DI），的厚度的比率，其中在所述多层系统（51），用于所述两个尺寸部分堆叠厚度中的至少一个的第一部分（DI）和位置厚度比（γI），根均从各自的均方差的至少10％是小比在多层系统（51）的第二部分; 并且其中，所述反射光学元件（50）具有一个反射率（R），其波长依赖性在波长间隔Δλ= 0.5nm的PV值具有小于0.25，其中，所述PV值被定义为PV =（Rmax_rel - Rmin_rel） / Rmax_abs其中Rmax_rel在该波长间隔Δλ，Rmin_rel最大反射率表示在该波长间隔Δλ最小反射率和Rmax_abs绝对最大反射率。

3. 发明申请

WO2018007081A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微型投影曝光设备
公开(公告)号：WO2018007081A1
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：PCT/EP2017/063715
申请日：2017-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
发明人： ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, with at least one mirror (200) which has an optically effective surface and, for electromagnetic radiation of a predefined operating wavelength impinging on the optically effective surface at an angle of incidence of at least 65° relative to the respective surface normal, has a reflectivity of at least 0.5, wherein the mirror has a reflection layer (210) and a compensation layer (220) which is arranged above this reflection layer (210) in the direction of the optically effective surface, wherein the compensation layer (220), for an intensity distribution generated in a pupil plane or a field plane of the optical system during operation thereof, reduces the difference between the maximum and the minimum intensity value by at least 20% compared to an analogous structure without the compensation layer (220).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是用于微光刻投影曝光装置的光学系统，其具有至少一个反射镜（200），该反射镜具有光学有效表面，并且对于预定工作波长入射的电磁辐射以至少65°的入射角在光学有效表面上; 相对于相应的表面法线具有至少0.5的反射率，其中该反射镜具有反射层（210）和补偿层（220），该补偿层布置在该反射层（210）上方的光学有效表面，其中对于在其操作期间在光学系统的光瞳平面或场平面中产生的强度分布，补偿层（220）将最大强度值与最小强度值之间的差减小至少20％，与类似结构没有补偿层（220）。

4. 发明申请

WO2017009185A1 SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2017009185A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2016/066178
申请日：2016-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
发明人： DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Spiegelsubstrat (205, 305), einer Reflexionsschicht (220, 320), welche derart ausgestaltet ist, dass der Spiegel für elektromagnetische Strahlung einer vorgegebenen Arbeitswellenlänge, welche auf die optische Wirkfläche (200a, 300a) unter einem auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Einfallswinkel von wenigstens 65° auftrifft, eine Reflektivität von wenigstens 50% besitzt, und einer Substratschutzschicht (210, 310), welche zwischen dem Spiegelsubstrat (205, 305) und der Reflexionsschicht (220, 320) angeordnet ist, wobei die Substratschutzschicht (210, 310) für EUV-Strahlung eine Transmission von weniger als 0.1% aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光系统，其具有的光学有效表面的反射镜，利用该被设计为使得用于一个电磁辐射的反射镜预定的反射镜衬底（205，305），反射层（220，320）工作波长，其中所述光学活性表面（200A，300A）撞击在涉及到至少65°入射的相应表面法线夹角的时间，具有至少50％的反射率，以及设置在镜基板之间的基底保护层（210,310）（205， 305）和反射层（220，320）被设置，其中，对于具有小于0.1％的透射的极紫外辐射的基板保护层（210，310）。

5. 发明申请

WO2017009014A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SPIEGELS, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：制造方法MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2017009014A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2016/064385
申请日：2016-06-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver , GRASSE, Christian , WEBER, Jörn , SIX, Stephan
发明人： DIER, Oliver , GRASSE, Christian , WEBER, Jörn , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegels sowie einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in einer Beschichtungsanlage ein Spiegelsubstrat durch Aufbringen eines vorgegebenen Schichtaufbaus zur Erzielung eines vorgegebenen Soll-Schichtdickenprofils des Spiegels beschichtet, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Virtuelles Unterteilen des vorgegebenen Schichtaufbaus in wenigstens zwei Schichtsysteme (610, 710, 620, 720, 730), und Beschichten des Spiegelsubstrats (605, 705) durch Aufbringen der wenigstens zwei Schichtsysteme unter Vorgabe unterschiedlicher Einzel-Soll-Schichtdickenprofile für diese Schichtsysteme, wobei diese Einzel-Soll-Schichtdickenprofile so gewählt werden, dass sich die jeweiligen Abweichungen der Einzel-Soll-Schichtdickenprofile von dem vorgegebenen Soll-Schichtdickenprofil in ihrem Beitrag zur Wellenfrontwirkung des Spiegels wenigstens teilweise kompensieren.
摘要翻译：本发明涉及一种制造反射镜和反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备的方法。 710，620，720虚拟分割所述规定层结构在至少两个层系统（610：在涂布系统中的本发明的方法中，反射镜衬底是通过施加预定的层结构，用于实现所述反射镜的预定的期望层厚度分布涂覆，所述方法包括以下步骤，730），以及镜基板（605的涂层，705），通过不同的各个目标层厚度分布对于这些层系统，其中，这些单独的目标层厚度分布被选择为使得规范应用所述至少两层系统中的单个的各自的偏差期望层厚度分布从预定的期望层厚度分布在其对波阵面的镜面效果的贡献至少部分地补偿。

6. 发明申请

WO2012069351A1 METHOD AND ARRANGEMENT FOR DETERMINING THE HEATING CONDITION OF A MIRROR IN AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于确定光学系统中的镜子的加热条件的方法和装置
公开(公告)号：WO2012069351A1
公开(公告)日：2012-05-31
申请号：PCT/EP2011/070320
申请日：2011-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , VOGT, Peter , HERMANN, Martin , DIER, Oliver , MAJOR, András G.
发明人： VOGT, Peter , HERMANN, Martin , DIER, Oliver , MAJOR, András G.
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/00 , G01N21/41 , G01B11/06
CPC分类号： G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： The invention concerns a method of and an arrangement for determining the heating condition of a mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801) in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus. In an embodiment the mirror is an EUV mirror and a method according to the invention comprises the following steps: deflecting at least one input measuring beam on to the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801), ascertaining at least one optical parameter of at least one output measuring beam produced from the input measuring beam after interaction with the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801), and determining the heating condition of the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801) on the basis of said parameter.
摘要翻译：本发明涉及用于确定光学系统中的镜（101,201,401,601,701,801）的加热条件的方法和装置，特别是在微光刻投影曝光装置中。在一个实施例中，反射镜是EUV反射镜，根据本发明的方法包括以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转到反射镜（101,201,401,601,701,801）上，确定至少一个在与反射镜（101,201,401,601,701,801）相互作用之后，从输入测量光束产生的至少一个输出测量光束的光学参数，以及确定反射镜（101,201,401,601）的加热条件，701,801）。

7. 发明申请

WO2013014182A1 MIRROR, OPTICAL SYSTEM COMPRISING MIRROR AND METHOD FOR PRODUCING A MIRROR 审中-公开
标题翻译：镜子，包括镜子的光学系统和用于制造镜子的方法
公开(公告)号：WO2013014182A1
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/EP2012/064594
申请日：2012-07-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver
发明人： DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70091 , G03F7/70316 , G03F7/70891 , G21K1/062 , G21K2201/065
摘要： A mirror has a substrate (112), which consists of a substrate material having a specific thermal conductivity of less than 10W/(m*K), and a reflection coating (116) applied on the substrate, said reflection coating having a reflective effect for vacuum ultraviolet radiation or radiation from the extreme ultraviolet range. A heat distribution intermediate layer (120, 220) is arranged between the substrate (112) and the reflection coating (116), said heat distribution intermediate layer consisting of a layer material having a specific thermal conductivity that is at least 10 times the magnitude of the specific thermal conductivity of the substrate material. The heat distribution intermediate layer has a layer thickness of at least 1 µm.
摘要翻译：反射镜具有基板（112），其由具有小于10W /（m * K）的比热导率的基板材料和施加在基板上的反射涂层（116）组成，所述反射涂层具有反射效应用于真空紫外线辐射或来自极紫外线范围的辐射。热分布中间层（120,220）布置在基板（112）和反射涂层（116）之间，所述热分布中间层由具有比其导热系数的至少10倍的比热导率的层材料组成衬底材料的比热导率。热分布中间层的层厚度为1μm以上。

8. 发明申请

WO2012126954A1 EUV MIRROR ARRANGEMENT, OPTICAL SYSTEM COMPRISING EUV MIRROR ARRANGEMENT AND METHOD FOR OPERATING AN OPTICAL SYSTEM COMPRISING AN EUV MIRROR ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译： EUV镜像布置，包含EUV镜像布局的光学系统和运行包含EUV镜像布局的光学系统的方法
公开(公告)号：WO2012126954A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/EP2012/055013
申请日：2012-03-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DINGER, Udo , BIJKERK, Frederik , BAYRAKTAR, Muharrem , DIER, Oliver
发明人： DINGER, Udo , BIJKERK, Frederik , BAYRAKTAR, Muharrem , DIER, Oliver
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G21K2201/067
摘要： An EUV mirror arrangement (100) has a multiplicity of mirror elements (110, 111, 112) which are arranged alongside one another and jointly form a mirror surface of the mirror arrangement. Each mirror element has a substrate (120) and a multilayer arrangement (130) applied on the substrate and having a reflective effect with respect to radiation from the extreme ultraviolet range (EUV), said multilayer arrangement comprising a multiplicity of layer pairs (135) having alternate layers composed of a high refractive index layer material and a low refractive index layer material. The multilayer arrangement has an active layer (140) arranged between a radiation entrance surface and the substrate and consisting of a piezoelectrically active layer material, the layer thickness (z) of which active layer can be altered by the action of an electric field. For each active layer provision is made of an electrode arrangement for generating an electric field acting on the active layer.
摘要翻译： EUV反射镜装置（100）具有多个彼此并排设置并共同形成反射镜装置的镜面的反射镜元件（110,111,112）。每个镜元件具有施加在衬底上并具有相对于来自极紫外范围（EUV）的辐射的反射效应的衬底（120）和多层布置（130），所述多层布置包括多个层对（135）具有由高折射率层材料和低折射率层材料构成的交替层。多层布置具有布置在辐射入射表面和基底之间并由压电有源层材料组成的有源层（140），其活性层可以通过电场的作用而改变。对于每个有源层，提供用于产生作用在有源层上的电场的电极装置。

9. 发明申请

WO2012028569A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012028569A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011/064796
申请日：2011-08-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EHM, Dirk Heinrich , SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , DIER, Oliver
发明人： EHM, Dirk Heinrich , SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70891 , G21K1/062 , H05B6/10
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus (11) for semiconductor lithography comprising optical elements (1, 18), wherein at least one of the optical elements (1) has means (2) for contactlessly producing electric currents in the optical element (1) which are suitable for heating the at least one optical element (1) at least in regions.
摘要翻译：本发明涉及一种用于包括光学元件（1,18）的半导体光刻的投影曝光设备（11），其中至少一个光学元件（1）具有用于在光学元件（1）中非接触地产生电流的装置（2）），其适于至少在区域中加热所述至少一个光学元件（1）。

10. 发明申请

WO2013160008A1 OPTICAL ELEMENTS COMPRISING MAGNETOSTRICTIVE MATERIAL 审中-公开
标题翻译：包含磁性材料的光学元件
公开(公告)号：WO2013160008A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/EP2013/055235
申请日：2013-03-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HUBER, Peter , DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B27/00 , G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G02F1/0128 , B82Y10/00 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G02B27/0068 , G03F7/2008 , G03F7/70266 , G03F7/70891 , G03F7/7095 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： The invention relates to an optical element (21) comprising a substrate (30) and a reflective coating (31). The reflective coating (31) has, in particular for the reflection of EUV radiation, a plurality of layer pairs having alternate layers (33a, 33b) composed of a high refractive index material and a low refractive index material, wherein at least one active layer (34) composed of a magnetostrictive material is formed within the reflective coating (31). The invention also relates to an optical element (21) having a substrate (30) and a reflective coating (31), wherein the optical element (21 ) comprises at least one first active layer comprising a material having positive magnetostriction and at least one second active layer comprising a material having negative magnetostriction, wherein the layer thicknesses and the layer materials of the active layers are chosen such that mechanical stress changes or changes in length of the active layers that are produced by a magnetic field mutually compensate for one another. The invention also relates to an optical arrangement, in particular an EUV lithography apparatus, which comprises at least one such optical element (21).
摘要翻译：本发明涉及一种包括基底（30）和反射涂层（31）的光学元件（21）。反射涂层（31）特别是EUV辐射的反射，具有由高折射率材料和低折射率材料组成的交替层（33a，33b）的多个层对，其中至少一个有源层在反射涂层（31）内形成由磁致伸缩材料构成的（34）。本发明还涉及具有基底（30）和反射涂层（31）的光学元件（21），其中光学元件（21）包括至少一个第一有源层，该第一有源层包括具有正磁致伸缩的材料和至少一个第二活性层包括具有负磁致伸缩性的材料，其中选择有源层的层厚度和层材料，使得由磁场产生的有源层的机械应力变化或长度的变化彼此相互补偿。本发明还涉及一种光学装置，特别是EUV光刻设备，其包括至少一个这样的光学元件（21）。

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