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1. 发明申请

WO2011147658A1 OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微晶投影装置的光学系统
公开(公告)号：WO2011147658A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/056830
申请日：2011-04-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
发明人： SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and a microlithographic exposure method. In an embodiment an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus includes at least one mirror arrangement (200, 720, 730, 920) having a plurality of mirror elements (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,...) which are displaceable independently of each other for altering an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200, 720, 730, 920), and at least one manipulator (300, 720, 910) which is arranged downstream of said mirror arrangement (200, 720, 730, 920) in the light propagation direction and has a raster arrangement of manipulator elements (301, 302,..., 600, 721, 722, 723,... ) in such a way that light incident on the manipulator (300, 600, 720, 910) in operation of the optical system is influenced differently in its polarisation state and/or in its intensity in dependence on the incidence location, wherein at least two mutually different illumination settings (420, 520) are adjustable by the variation in an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200), wherein said illumination settings (420, 520) differ from each other in that identical regions of a pupil plane of the illumination system (10) are illuminated with light of a different polarisation state.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置和微光刻曝光方法的光学系统。在一个实施例中，用于微光刻投影曝光装置的光学系统包括具有多个反射镜元件（200a，200b，200c，721,722,733,731,732,920）的至少一个反射镜装置（200,720,730,920） 733，...），其可彼此独立地移位，以改变由反射镜装置（200,720,730,920）反射的光的角分布，以及至少一个操纵器（300,720,910），其是在光传播方向上布置在所述反射镜装置（200,720,730,920）的下游，并且具有光栅装置，其中所述操纵元件（301,302，...，600,721,722,723，...）入射在光学系统操作的操纵器（300,600,720,910）上的光的偏振状态和/或其强度根据入射位置受到不同的影响，其中至少两个相互不同照明设置（420,520）可通过角度dist的变化进行调节由反射镜装置（200）反射的光的贡献，其中所述照明设置（420,520）彼此不同，因为照明系统（10）的光瞳平面的相同区域被不同偏振态的光照射。

2. 发明申请

WO2010094658A1 MONITORING VON KIPPBAREN SPIEGELN 审中-公开
标题翻译：监测TILTING镜子
公开(公告)号：WO2010094658A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：PCT/EP2010/051876
申请日：2010-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HORN, Jan , MAJOR, András G. , KEMPTER, Christian , BIHR, Ulrich
发明人： HORN, Jan , MAJOR, András G. , KEMPTER, Christian , BIHR, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/7085 , G02B26/0833 , G03F7/70116 , G03F7/70425
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein entsprechendes Verfahren zur Überwachung der Orientierung mindestens eines Spiegels (4), insbesondere einer Vielzahl von Spiegeln in einem Spiegelfeld, wie es beispielsweise in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie eingesetzt werden kann. Gemäß der Erfindung wird eine Erfassungseinrichtung (1) zur Erfassung des von dem Spiegel reflektierten Lichts vorgesehen, wobei eine Musterquelle (2) angeordnet ist, die ein Muster (3) mit räumlicher und/oder zeitlich variablen Lichtquellen bereitstellt, welches von dem mindestens einen Spiegel auf die Erfassungseinrichtung gespiegelt wird. Aus dem von der Erfassungseinrichtung erfassten Spiegelbild kann die Orientierung des Spiegels ermittelt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种装置和用于监控所述取向至少一个反射镜（4），特别是多个反射镜中的反射镜阵列，如可以例如在用于微光刻的投射曝光设备中使用的相应方法。根据本发明，用于检测光的检测装置（1）从被设置在光的反射镜，其中一个模式源被布置（2），它提供了一个模式（3）与空间和/或时间变化的光源，反射其中至少一个反射镜的被反射到检测装置。反射镜的取向可以从由检测装置镜像所覆盖的区域来确定。

3. 发明申请

WO2009015845A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2009015845A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/EP2008/006183
申请日：2008-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DEGÜNTHER, Markus , MAJOR, András, G. , ANDRESEN, Änne, Christine
发明人： DEGÜNTHER, Markus , MAJOR, András, G. , ANDRESEN, Änne, Christine
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/702
摘要： An illumination system (110) of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a pupil surface (116) and an arrangement (112) of individually drivable beam deviating elements (118). Each beam deviating element (118) is configured to direct light impinging thereon onto different positions on the pupil surface (116) in response to a control signal applied to the beam deviating element (118). According to the invention an attenuation unit (134, 140, 154) is provided which is configured to reduce the intensity of light, which is directed by any arbitrary beam deviating element (118) onto the pupil surface, by more than 50%. This makes it possible to reduce the intensity of light in the pupil surface that has been reflected by defective beam deviating elements.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的照明系统（110）包括瞳孔表面（116）和单独驱动的偏转偏转元件（118）的装置（112）。响应于施加到光束偏离元件（118）的控制信号，每个光束偏离元件（118）被配置为将光照射到其上的光瞳表面（116）上的不同位置。根据本发明，提供了一种衰减单元（134,140,154），其被配置为将由任何任意的偏转光束偏离元件（118）引导到光瞳表面上的光强度减少超过50％。这使得可以减小由于有缺陷的光束偏离元件反射的瞳孔表面中的光的强度。

4. 发明申请

WO2012101080A3 OPTICAL ARRANGEMENT FOR AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR COOLING AN OPTICAL COMPONENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2012101080A3
公开(公告)日：2012-08-02
申请号：PCT/EP2012/050946
申请日：2012-01-23
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , ANDERL, Willi , KIEREY, Holger , BAUER, Markus , WALDIS, Severin , MAJOR, András G.
发明人： ANDERL, Willi , KIEREY, Holger , BAUER, Markus , WALDIS, Severin , MAJOR, András G.
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： An optical arrangement (80) for an EUV projection exposure apparatus comprises an optical component (82), which has a substrate (84) and a surface (86) on a side of the substrate (84) which surface is optically operative in the EUV spectral range, and a cooling device (90) for the optical component (82), said cooling device having a cooling medium (94). The substrate (84) comprises a material having at a temperature T s 50 W -1 K -1 and a coefficient of thermal expansion of -6 K -1 , and the cooling medium (94) has a temperature of s .

5. 发明申请

WO2012069351A1 METHOD AND ARRANGEMENT FOR DETERMINING THE HEATING CONDITION OF A MIRROR IN AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于确定光学系统中的镜子的加热条件的方法和装置
公开(公告)号：WO2012069351A1
公开(公告)日：2012-05-31
申请号：PCT/EP2011/070320
申请日：2011-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , VOGT, Peter , HERMANN, Martin , DIER, Oliver , MAJOR, András G.
发明人： VOGT, Peter , HERMANN, Martin , DIER, Oliver , MAJOR, András G.
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/00 , G01N21/41 , G01B11/06
CPC分类号： G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： The invention concerns a method of and an arrangement for determining the heating condition of a mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801) in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus. In an embodiment the mirror is an EUV mirror and a method according to the invention comprises the following steps: deflecting at least one input measuring beam on to the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801), ascertaining at least one optical parameter of at least one output measuring beam produced from the input measuring beam after interaction with the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801), and determining the heating condition of the mirror (101, 201, 401, 601, 701, 801) on the basis of said parameter.
摘要翻译：本发明涉及用于确定光学系统中的镜（101,201,401,601,701,801）的加热条件的方法和装置，特别是在微光刻投影曝光装置中。在一个实施例中，反射镜是EUV反射镜，根据本发明的方法包括以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转到反射镜（101,201,401,601,701,801）上，确定至少一个在与反射镜（101,201,401,601,701,801）相互作用之后，从输入测量光束产生的至少一个输出测量光束的光学参数，以及确定反射镜（101,201,401,601）的加热条件，701,801）。

6. 发明申请

WO2010102649A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2010102649A1
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：PCT/EP2009/001827
申请日：2009-03-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DEGUENTHER, Markus , PATRA, Michael , MAJOR, András, G.
发明人： DEGUENTHER, Markus , PATRA, Michael , MAJOR, András, G.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G02B26/0833 , G03F7/70116 , G03F7/70266 , G03F7/70591 , G03F7/706
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical surface, which may be formed by a plurality of micro-mirrors (M ij ) and a measurement device which is configured to measure a parameter related to the optical surface at a plurality of locations. The measurement device comprises an illumination unit (92) comprising a plurality of illumination members (104, 118) each having a light exit facet (106). An optical imaging system (110) establishes an imaging relationship between an object plane (108) in which at least two light exit facets (106) are arranged, and an image plane (112) which at least substantially coincides with the optical surface. A detector unit (96) measures the property of measuring light after it has interacted with the optical surface and an evaluation unit (102) determines the surface related parameter for each of the locations on the basis of the properties determined by the detector unit (96).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）包括可以由多个微镜（Mij）形成的光学表面和被配置为测量与多个位置处的光学表面相关的参数的测量装置。测量装置包括照明单元（92），其包括多个照明构件（104,118），每个照明构件具有光出射面（106）。光学成像系统（110）在其中布置有至少两个光出射面（106）的物平面（108）与至少基本上与光学表面重合的像平面（112）之间建立成像关系。检测器单元（96）测量光已经与光学表面相互作用后测量光的性质，并且评估单元（102）基于由检测器单元（96）确定的特性来确定每个位置的表面相关参数）。

7. 发明申请

WO2008095695A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR IN的微光刻投射曝光设备的照明系统的监控多个MIRROR ARRANGEMENTS
公开(公告)号：WO2008095695A2
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/EP2008/000920
申请日：2008-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
发明人： XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

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