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1. 发明申请

WO2006005547A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：目标投影目标
公开(公告)号：WO2006005547A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：PCT/EP2005/007431
申请日：2005-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/00 , G02B17/00 , G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0828 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/70341
摘要： A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective has a first, refractive objective part for imaging the pattern provided in the object plane into a first intermediate image; a second objective part including at least one concave mirror for imaging the first intermediate imaging into a second intermediate image; and a third, refractive objective part for imaging the second intermediate imaging onto the image plane; wherein the projection objective has a maximum lens diameter D max , a maximum image field height Y', and an image side numerical aperture NA; wherein COMP1 = D max / (Y' • NA 2 ) and wherein the condition COMP1
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的像平面上的折反射投射物镜具有用于将设置在物平面中的图案成像为第一中间图像的第一折射目标部分; 第二目标部分，其包括用于将第一中间成像成像成第二中间图像的至少一个凹面镜; 以及第三折射物镜部分，用于将所述第二中间成像成像到所述图像平面上; 其中所述投影物镜具有最大透镜直径D

2. 发明申请

WO2005081067A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2005081067A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2004/014727
申请日：2004-12-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus (110) is designed for immersion operation in which an immersion liquid (134) adjoins a photosensitive layer (126). The refractive index of the immersion liquid is greater than the refractive index of a medium (L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9). that adjoins the immersion liquid on the object side of the projection objective (120; 120'; 120"). The projection objective is designed such that the immersion liquid (134) is convexly curved towards the object plane (122) during immersion operation.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（110）的投影物镜被设计用于浸没操作，其中浸没液体（134）邻接感光层（126）。浸没液的折射率大于介质的折射率（L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9）。在所述投影物镜（120; 120'; 120“）的物体侧邻接所述浸没液体，所述投影物镜被设计为使得所述浸没液体（134）在浸入操作期间朝向所述物体平面（122）凸形弯曲。

3. 发明申请

WO2006053751A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光设备的投影目标
公开(公告)号：WO2006053751A2
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012327
申请日：2005-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
发明人： BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20) auf, das ein Objekt (24) auf eine Bildebene (28) abbildet und eine Linse (L3) mit einer gekrümmten Fläche (S) hat. In dem Projektionsobjektiv (20) befindet sich ein flüssiges oder festes Medium (34), das unmittelbar an die gekrümmte Fläche (S) über einen Bereich hinweg angrenzt, der für die Abbildung des Objekts (24) nutzbar ist. Die Projektionsbelichtungsanlage weist außerdem einen verstellbaren Manipulator (M) zur Verringerung einer Bildfeldwölbung auf, die durch eine Erwärmung des Mediums (34) während des Projektionsbetriebs verursacht wird.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20）到图像平面（28）的图像的对象（24）和具有一个冠导航中使用的透镜（L3）奈德FL＆AUML;枝（S）具有，在投影透镜20中，存在液体或固体介质34，其在与图像相邻的区域上紧邻曲面S 物体（24）的尺寸是可用的。投影曝光＆害羞;植物具有坳道除了可调节的操纵器（M），以减少一个Bildfeldw＆OUML; lbung，其通过EI＆害羞; NE广告＆AUML;所述介质（34）的变暖W＆AUML; Projektionsbe＆期间害羞;引起驱动。

4. 发明申请

WO2007031544A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微波曝光系统的光学系统
公开(公告)号：WO2007031544A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/066332
申请日：2006-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
发明人： TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B27/286 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： An optical system, in particular an illumination system or a projection lens of a microlithographic exposure system, according to one aspect of the present invention has an optical system axis (OA) and at least one element group (200) consisting of three birefringent elements (211 ,212,213) each of which being made of optically uniaxial material and having an aspheric surface, wherein a first birefringent element (211 ) of said group has a first orientation of its optical crystal axis, a second birefringent element (212) of said group has a second orientation of its optical crystal axis, wherein said second orientation can be described as emerging from a rotation of said first orientation, said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof, and a third birefringent element (213) of said group has a third orientation of its optical crystal axis, wherein said third orientation can be described as emerging from a rotation of said second orientation said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof.
摘要翻译：根据本发明的一个方面的光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴（OA）和由三个双折射元件（200）组成的至少一个元件组（200） 211,212,213），其由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第一双折射元件（211）具有其光学晶轴的第一取向，所述组的第二双折射元件（212）具有其光学晶轴的第二取向，其中所述第二取向可以被描述为从所述第一取向的旋转出来，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍，并且所述组的第三双折射元件（213）具有其光学晶轴的第三取向，其中所述第三取向可以被描述为从所述第二方向的旋转，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍。

5. 发明申请

WO2005081068A2 ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PICTURE SYSTEM FOR A微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2005081068A2
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2005/000277
申请日：2005-01-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Abbildungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Projektionsobjektiv (200, 300, 500, 600) zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht; und einer Flüssigkeitszufuhr (205) zum Füllen eines Zwischenraums zwischen der Bildebene und einem bildebenenseitig letzten optischen Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs mit Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601); wobei das bildebenenseitig letzte optische Element des Projektionsobjektivs in Schwerkraftrichtung nachfolgend zur Bildebene angeordnet ist; und wobei das Projektionsobjektiv derart ausgelegt ist, dass im Immersionsbetrieb die Immersionsflüssigkeit in zur Bildebene abgewandter Richtung wenigstens bereichsweise konvex gekrümmt ist. Es wird auch vorgesehen, dass das bildebenenseitig letzte optische Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs unter der Bildebene derart angeordnet ist, dass die Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601) zumindest teilweise in einem im wesentlichen wannenförmigen Bereich auf dem bildebenenseitig letzten optischen Element angeordnet wird. Auch kann ein Rotator zum Drehen eines die lichtempfindliche Schicht (401) aufweisenden Substrats zwischen einer Transportorientierung, in der die lichtempfindliche Schicht auf einer entgegengesetzt zur Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, und einer Belichtungsorientierung, in welcher die lichtempfindliche Schicht (401) auf einer in Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, vorgesehen sein.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中所述投射物镜的像面侧最后光学元件被布置在图像平面下方的重力方向; 并且其中，所述投射物镜被设计成使得在浸液操作中，浸没液体在背离图像面方向至少部分地凸形弯曲远离。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后的光学元件被布置。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）布置，可以提供下面的基底表面。

6. 发明申请

WO2006133801A1 PROJECTION OBJECTIVE HAVING A HIGH APERTURE AND A PLANAR END SURFACE 审中-公开
标题翻译：具有高孔径和平面端面的投影目标
公开(公告)号：WO2006133801A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/EP2006/005079
申请日：2006-05-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70958
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object plane (OP) of the projection objective onto an image plane (IP) of the projection objective suitable for microlithography projection exposure machines has a plurality of optical elements transparent for radiation at an operating wavelength of the projection objective. At least one optical element (LOEl, L0E2) is a high-index optical element made from a high-index material with a refractive index n >= 1.6 at the operating wavelength.
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面（OP）中的图案成像到适用于微光刻投影曝光机的投影物镜的像平面（IP）上的投影物镜具有多个透光的光学元件，投影目标。至少一个光学元件（LOE1，L0E2）是在工作波长处由折射率n> = 1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。

7. 发明申请

WO2005059617A2 PROJECTION OBJECTIVE HAVING A HIGH APERTURE AND A PLANAR END SURFACE 审中-公开
标题翻译：具有高孔径和平面端面的投影目标
公开(公告)号：WO2005059617A2
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/014062
申请日：2004-12-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G02B13/00
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0828 , G03F7/70225 , G03F7/70341 , G03F7/7035 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective suitable for microlithography projection exposure machines has a plurality of optical elements transparent for radiation at an operating wavelength of the projection objective. At least one optical element is a high-index optical element made from a high-index material with a refractive index n ≥ 1.6 at the operating wavelength.
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的适合于微光刻投影曝光机的投影物镜的平面上的投影物镜具有在投影物镜的工作波长处对于辐射而透明的多个光学元件。至少一个光学元件是在工作波长处由折射率n> = 1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。

8. 发明申请

WO2005059654A1 OBJECTIVE AS A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE WITH AT LEAST ONE LIQUID LENS 审中-公开
标题翻译：目标为具有至少一个液晶镜头的微观图像投影
公开(公告)号：WO2005059654A1
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/014219
申请日：2004-12-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , BEDER, Susanne , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SHAFER, David , BEDER, Susanne , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B3/12 , G02B17/0812 , G02B17/0856 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an objective designed as a microlithography projection objective for an operating wavelength. The objective has a greatest adjustable image-side numerical aperture NA, at least one first lens made from a solid transparent body, in particular glass or crystal, with a refractive index n L and at least one liquid lens (F) made from a transparent liquid, with a refractive index NF. At the operating wavelength the first lens has the greatest refractive index n L of all solid lenses of the objective, the refractive index n F of the at least one liquid lens (F) is bigger than the refractive index n L of the first lens and the value of the numerical aperture NA is bigger than 1.
摘要翻译：本发明涉及被设计为用于工作波长的微光刻投射物镜的物镜。目标具有最大的可调节图像侧数值孔径NA，至少一个由固体透明体，特别是玻璃或晶体制成的具有折射率nL的至少一个第一透镜和由透明液体制成的至少一个液体透镜（F），具有折射率NF。在工作波长处，第一透镜的物镜的所有实心透镜的折射率nL最大，至少一个液体透镜（F）的折射率nF大于第一透镜的折射率nL，数值孔径NA大于1。

9. 发明申请

WO2007144193A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007144193A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/EP2007/005297
申请日：2007-06-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20 , G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0025 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3') which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。该光学特性的变化导致物镜的像差。在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

10. 发明申请

WO2005114101A1 METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：WO2005114101A1
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：PCT/EP2004/005194
申请日：2004-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
发明人： ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441
摘要： A method of manufacturing an optical element (5) includes testing the optical element (5) by using an interferometer optics (1) generating a beam (13) of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element (5). The interferometer optics (1) comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element (5). Further, a method of calibrating the interferometer optics (1) includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam (13) of measuring light generated by the interferometer optics (1) and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics (1).
摘要翻译：制造光学元件（5）的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件（5）的子孔径的光的光束（13）的干涉仪光学元件（1）来测试光学元件（5）。干涉仪光学器件（1）包括全息图。将子孔径测量的结果缝合在一起以获得关于光学元件（5）的整个表面的测量结果。此外，校准干涉仪光学器件（1）的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖光束（13）的全横截面的子孔径的测量由干涉仪光学器件产生的光的全息图（ 1）并且将子孔径测量结合在一起以获得指示干涉仪光学器件（1）的全部横截面的结果。

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