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1. 发明申请

WO2006131242A1 MULTIPLE-USE PROJECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：多用途投影系统
公开(公告)号：WO2006131242A1
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/EP2006/005168
申请日：2006-05-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KAISER, Winfried , ULRICH, Wilhelm , FELDMANN, Heiko , DODOC, Aurelian
发明人： KAISER, Winfried , ULRICH, Wilhelm , FELDMANN, Heiko , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70066 , G03F7/7025
摘要： In the case of a projection exposure method for exposing substrates, arranged in the region of an image plane of a projection objective, with at least one image of a pattern, arranged in the region of an object plane of the projection objective, of a mask, a first exposure configuration is optionally set for exposing a substrate given a first image-side numerical aperture NA1 in a first image field with a first image field size IFS1, or a second exposure configuration is optionally set for exposing substrates given a second image-side numerical aperture NA2, differing from the first image-side numerical aperture NA1, in a second image field with a second image field size IFS2 differing from the first image field size.
摘要翻译：在曝光基板的投影曝光方法的情况下，其布置在投影物镜的像面的区域中，具有布置在投影物镜的物平面的区域中的图案的至少一个图像的掩模可选地，第一曝光配置被设置用于在具有第一图像场尺寸IFS1的第一图像场中暴露给定第一图像侧数值孔径NA1的基板，或者可选地设置第二曝光配置以曝光给定第二图像 - 在与第一图像场尺寸不同的第二图像场尺寸IFS2的第二图像场中，与第一图像侧数值孔径NA1不同的边侧数值孔径NA2。

2. 发明申请

WO2007131161A3 SYMMETRICAL OBJECTIVE HAVING FOUR LENS GROUPS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2007131161A3
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：PCT/US2007/068227
申请日：2007-05-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , DODOC, Aurelian , FELDMANN,, Heiko , ZELLNER, Johannes , ULRICH, Wilhelm , WALTER, Holger , LOERING, Ulrich , KRAEHMER, Daniel , FUERTER, Gerhard
发明人： SHAFER, David , DODOC, Aurelian , FELDMANN,, Heiko , ZELLNER, Johannes , ULRICH, Wilhelm , WALTER, Holger , LOERING, Ulrich , KRAEHMER, Daniel , FUERTER, Gerhard
IPC分类号： G02B13/14 , G02B13/26 , G03F7/20
摘要： The invention features a system for microlithography that includes a mercury light source configured to emit radiation at multiple mercury emission lines, a projection objective positioned to receive radiation emitted by the mercury light source, and a stage configured to position a wafer relative to the projection objective. During operation, the projection objective directs radiation from the light source to the wafer, where the radiation at the wafer includes energy from more than one of the emission lines. Optical lens systems for use in said projection objective comprise four lens groups, each having two lenses comprising silica, the first and second lens groups on one hand and the third and fourth lens groups on the other hand are positioned symmetrically with respect to a plane perpendicular to the optical axis of said lens system.

3. 发明申请

WO2007003563A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINER MEHRZAHL VON PROJEKTIONSOBJEKTIVEN 审中-公开
标题翻译：与投射物镜的NUMBER投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2007003563A1
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/EP2006/063663
申请日：2006-06-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , FELDMANN, Heiko
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , FELDMANN, Heiko
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70791
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Mehrzahl von Projektionsobjektiven (10) , von denen jedes ein Objektfeld (50) in ein Bildfeld (60) abbildet. Die Bildfelder (60) sind in einem Substratbereich (40) in einer Substratebene angeordnet, wobei der Substratbereich (40) in einer vorbestimmten Scanrichtung (5) relativ zu der Mehrzahl von Projektionsobjektiven bewegbar ist, wobei wenigstens eines dieser Projektionsobjektive einen Teilabschnitt seiner optischen Achse aufweist, welcher nicht senkrecht zu der Substratebene verläuft und wobei die Projektion dieses Teilabschnitts in die Substratebene nicht parallel zur Scanrichtung (5) verläuft .
摘要翻译：本发明涉及的投射曝光设备（1），具有多个投影透镜（10），其中的每一个都是一个对象字段（50）映射到像场（60）。画面（60）被布置在基板平面的衬底区（40），其中，在预定的扫描方向（5）的衬底区（40）是相对于所述多个投影透镜可动，具有其光轴的一部分这些投影透镜，其中至少一个这是不垂直于基片平面和该部分段的突出部不平行于基板平面的扫描方向（5）。

4. 发明申请

WO2006114294A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2006114294A3
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：PCT/EP2006/003864
申请日：2006-04-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SOHMER, Alexander , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , ULRICH, Wilhelm , FÜRTER, Gerhard , EGGER, Rafael , MÖGELE, Artur , RAUM, Michael
发明人： SOHMER, Alexander , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , ULRICH, Wilhelm , FÜRTER, Gerhard , EGGER, Rafael , MÖGELE, Artur , RAUM, Michael
IPC分类号： G02B19/00 , G02B13/14 , G03F7/20
摘要： An illumination system (12) of a microlithographic exposure apparatus (10) comprises a condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606) for transforming a pupil plane (54) into a field plane (62) . The condenser has a lens group (L14, L15, L16, L17; L24, L25, L26, L27, L28; L34, L35, L36, L37; L44, L45, L46; L53, L54, L55) that contains a plurality of consecutive lenses. These lenses are arranged such that a light bundle (70) focused by the condenser (601; 602; 603; 604; 605) on an on-axis field point (72) converges within each lens of the lens group. At least one lens (L15, L16, L17; L25, L26; L34, L44, L45; L54) of the lens group has a concave surface. The illumination system may further comprise a field stop objective (66; 666, 666') that at least partly corrects a residual pupil aberration of the condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606).

5. 发明申请

WO2007031544A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微波曝光系统的光学系统
公开(公告)号：WO2007031544A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/066332
申请日：2006-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
发明人： TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B27/286 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： An optical system, in particular an illumination system or a projection lens of a microlithographic exposure system, according to one aspect of the present invention has an optical system axis (OA) and at least one element group (200) consisting of three birefringent elements (211 ,212,213) each of which being made of optically uniaxial material and having an aspheric surface, wherein a first birefringent element (211 ) of said group has a first orientation of its optical crystal axis, a second birefringent element (212) of said group has a second orientation of its optical crystal axis, wherein said second orientation can be described as emerging from a rotation of said first orientation, said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof, and a third birefringent element (213) of said group has a third orientation of its optical crystal axis, wherein said third orientation can be described as emerging from a rotation of said second orientation said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof.
摘要翻译：根据本发明的一个方面的光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴（OA）和由三个双折射元件（200）组成的至少一个元件组（200） 211,212,213），其由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第一双折射元件（211）具有其光学晶轴的第一取向，所述组的第二双折射元件（212）具有其光学晶轴的第二取向，其中所述第二取向可以被描述为从所述第一取向的旋转出来，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍，并且所述组的第三双折射元件（213）具有其光学晶轴的第三取向，其中所述第三取向可以被描述为从所述第二方向的旋转，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍。

6. 发明申请

WO2006128613A1 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：微观投影目标
公开(公告)号：WO2006128613A1
公开(公告)日：2006-12-07
申请号：PCT/EP2006/004876
申请日：2006-05-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KALLER, Julian , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , KAMENOV, Vladimir , EPPLE, Alexander
发明人： KALLER, Julian , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , KAMENOV, Vladimir , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G03F7/702 , G03F7/70283 , G03F7/70941
摘要： Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.
摘要翻译：关于在这样的投影物镜中抑制假光，描述用于成像到平面中的布置在物体平面中的图案的微光刻投影物镜。

7. 发明申请

WO2005111689A2 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH INTERMEDIATE IMAGES 审中-公开
标题翻译：具有中间图像的目标投影
公开(公告)号：WO2005111689A2
公开(公告)日：2005-11-24
申请号：PCT/EP2005/005250
申请日：2005-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/06 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G03F7/7015 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A catadioptric projection objective for imaging of a pattern, which is arranged on the object plane of the projection objective, on the image plane of the projection objective has a first objective part for imaging of an object field to form a first real intermediate image, a second objective part for production of a second real intermediate image using the radiation coming from the first objective part; and a third objective part for imaging of the second real intermediate image on the image plane. The second objective part is a catadioptric objective part with a concave mirror. A first folding mirror for deflection of the radiation coming from the object plane in the direction of the concave mirror and a second folding mirror for deflection of the radiation coming from the concave mirror in the direction of the image plane are provided. A field lens with a positive refractive power is arranged between the first intermediate image and/or the first folding mirror and the concave mirror, in an area close to the field of the first intermediate image.
摘要翻译：用于对投影物镜的物平面上配置的图案进行成像的反折射投射物镜具有用于对物场进行成像以形成第一实际中间图像的第一物镜部分，使用来自第一目标部分的辐射来生成第二实际中间图像的第二目标部分; 以及用于在图像平面上成像第二实际中间图像的第三目标部分。第二个目标部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供了用于使来自物体平面的辐射在凹面镜的方向上偏转的第一折叠镜和用于在像面方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠镜。在第一中间图像和/或第一折叠镜和凹面镜之间，在靠近第一中间图像的场的区域内布置具有正屈光力的场透镜。

8. 发明申请

WO2005096098A2 PROJECTION OBJECTIVE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND REFLECTIVE RETICLE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标，投影曝光装置和反射镜
公开(公告)号：WO2005096098A2
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：PCT/EP2005/002898
申请日：2005-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70225 , G03F7/70283
摘要： A projection objective for microlithography serves for imaging a pattern of a mask arranged in its object surface into an image field arranged in its image surface with a demagnifying imaging scale. It has a multiplicity of optical elements arranged along the optical axis of the projection objective, the optical elements being designed and arranged in such a way that the projection objective has an imageside numerical aperture NA > 0.85 and a demagnifying imaging scale where |b|
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜用于将布置在其物体表面中的掩模的图案成像成具有缩小的成像刻度的布置在其图像表面中的图像场。它具有沿着投影物镜的光轴布置的多个光学元件，光学元件被设计和布置成使得投影物镜具有图像数值孔径NA> 0.85和缩小成像刻度，其中|| b | | <0.05，并且具有适合于大于1mm的微光刻的最小图像场直径的平面图像场。

9. 发明申请

WO2005050321A1 REFRAKTIVES PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE IMMERSIONS-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：浸泡版画折射投影物镜
公开(公告)号：WO2005050321A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/EP2003/011677
申请日：2003-10-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143 , G03F7/70341
摘要： Ein für die Immersions-Mikrolithographie geeignetes, rein refraktives Projektionsobjektiv ist als Ein-Taillen-System mit fünf Linsengruppen ausgelegt, bei dem eine erste Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine zweite Linsengruppe mit positiver Brechkraft, eine dritte Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine vierte Linsengruppe mit positiver Brechkraft und eine fünfte Linsengruppe mit positiver Brechkraft vorgesehen sind. Die vierte Linsengruppe hat eine Eintrittsfläche (E), die in der Nähe eines Wendepunktes einer Randstrahlhöhe zwischen der dritten Linsengruppe (LG3) und der vierten Linsengruppe (LG4) liegt. Zwischen der Eintrittsfläche und der Systemblende (5) ist keine Negativlinse mit substantieller Brechkraft angeordnet ist. Ausführungsformen erfindungsgemässer Projektionsobjektive erreichen eine sehr hohe numerische Apertur NA > 1 bei grossem Bildfeld und zeichnen sich durch eine kompakte Baugrösse aus. Bei Verwendung von Immersionsfluiden zwischen Projektionsobjektiv und Substrat sind bei Arbeitswellenlängen unterhalb 200nm Strukturbreiten deutlich unter 100nm auflösbar.
摘要翻译：一种合适的用于浸没微光刻，纯折射投影物镜被设计成具有五个透镜组，一个腰包系统，其中，具有负折射力的第一透镜组，具有正屈光力的第二透镜组，具有负折射光焦度的第三透镜组，第四透镜组用提供正折光力和具有正折光力的第五透镜组。第四透镜组是一个入射表面（E），在第三透镜组（LG3）和第四透镜组（LG4）之间的边缘光线高度的拐点的附近。进入表面和所述隔膜的系统（5）之间是没有负透镜布置在具有相当大的光焦度。根据本发明的投影透镜的实施例实现在大的视场非常高的数值孔径NA> 1，并通过一个紧凑的尺寸的特征。当使用投影透镜和基底之间浸没流体是在低于200纳米的特征尺寸以及小于100nm波长工作的可溶性。

10. 发明申请

WO2009152959A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY COMPRISING A DEVICE FOR THE THERMAL MANIPULATION OF AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：包含用于光学元件的热处理的器件的半导体光刻机的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009152959A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2009/004006
申请日：2009-06-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
发明人： HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70266
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus (16) for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element (1,100), wherein the optical element (1,100) has a front side (2) for the reflection of electromagnetic radiation and a rear side (3,103), and wherein thermal actuators (4) for influencing the optical properties of the optical element (1,100) are present, which act on the optical element (1,100) from the rear side (3,103) thereof.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置（16），包括用于光学元件（1,100）的热操纵的装置，其中光学元件（1,100）具有用于反射电磁辐射的前侧（2）后侧（3,103），并且其中存在用于影响光学元件（1,100）的光学特性的热致动器（4），其从其后侧（3,103）作用在光学元件（1,100）上。

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