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1. 发明申请

WO2004097499A1 BELEUCHTUNGS- UND ABBILDUNGSSYSTEM MIT DIFFRAKTIVEM STRAHLTEILER 审中-公开
标题翻译：照明及图象系统与衍射分光镜
公开(公告)号：WO2004097499A1
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：PCT/EP2004/004160
申请日：2004-04-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , BRUNNER, Robert , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , ROSENKRANZ, Norbert , SCHERÜBL, Thomas
发明人： BRUNNER, Robert , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , ROSENKRANZ, Norbert , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G02B27/10
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B17/00 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B21/12 , G02B21/16 , G02B27/1086 , G02B27/14
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Abbildungssystem bei dem ein diffraktiv optisches Element sowohl vom Beleuchtungs- als auch vom Abbildungsstrahlengang verwendet wird. Ob dieses diffraktive Element in Reflektion oder Transmission arbeitet ist abhängig von den Vorgaben des Systemdesigns. Bei dem erfindungsgemässen diffraktiven Strahlteiler für Abbildungssysteme wird mindestens eines der im Strahlengang vorhandenen abbildenden optischen Elemente sowohl für den Beleuchtungsstrahlengang als auch für den Abbildungsstrahlengang verwendet wird. Dieses Element ist ein diffraktiv optisches Element (DOE) und verlangt durch Verwendung verschiedener Beugungsordnungen keine räumliche Trennung von Abbildungs- und Beleuchtungsstrahlengang im Objektraum. Durch die Verwendung von diffraktiven optischen Elementen kann die Anzahl der reflektiven optischen Elemente reduziert werden. Dadurch ergibt sich erstens eine Systemkostenreduzierung und zweitens wird die Lebensdauer der optischen Bauelemente durch Verwendung einer EUV-Quelle mit geringerer Leistung heraufgesetzt.
摘要翻译：本发明涉及一种成像系统，其中衍射光学元件用于由照明和成像光束路径两者。是否此衍射元件中的反射或透射操作是依赖于系统设计的规格。在本发明中，用于成像系统的存在于两者的照明光束路径以及用于成像光束路径中的成像光学元件的光路中的至少一个的衍射分光镜。此元素是一个衍射光学元件（DOE），并且通过使用不同的衍射级在对象空间中的成像和照明光束路径的无空间分离的要求。通过使用衍射光学元件的，可以减少反射光学元件的数量。这导致，首先，系统的成本降低，其次，在光学部件的使用寿命提高通过使用EUV源与较少的功率。

2. 发明申请

WO2004095136A2 ANORDNUNG ZUR INSPEKTION VON OBJEKTEN, INSBESONDERE VON MASKEN IN DER MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：安排检查的对象，尤其是在MASK微光刻
公开(公告)号：WO2004095136A2
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：PCT/EP2004/004161
申请日：2004-04-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
发明人： DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： Anordnung zur Inspektion von Objekten, insbesondere von Masken in der Mikrolithographie, die sich in einer Vakuumkammer befinden, wobei ein Wandler zur Umwandlung der vom Objekt kommenden Beleuchtungsstrahlung in eine Strahlung grösserer Wellenlänge vorgesehen ist sowie ein Sensor zur Bildaufzeichnung vorgesehen ist, wobei sich der Sensor ausserhalb der Vakuumkammer befindet und als optische Schnittstelle von der Vakuumkammer zum Sensor der Wandler oder zumindest ein Teil eines Abbildungobjektives als Fenster in der Vakuumkammer angeordnet ist.
摘要翻译：为对象的检查的装置，特别是在微光刻掩模，其位于在真空室中，其中在较大的波长的辐射提供了一种用于从对象的照明辐射转换来转换器和传感器被提供用于图像记录的，其中所述传感器外真空室被定位和被布置为从真空室至换能器的传感器的光学接口，或至少一个成像透镜如在真空室中的窗的一部分。

3. 发明申请

WO2009007128A1 METHOD AND APPARATUS FOR ANALYZING A GROUP OF PHOTOLITHOGRAPHIC MASKS 审中-公开
标题翻译：用于分析一组光刻掩模的方法和装置
公开(公告)号：WO2009007128A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005678
申请日：2008-07-11
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KIENZLE, Oliver , RICHTER, Rigo , ROSENKRANZ, Norbert , KOBIYAMA, Yuji , SCHERÜBL, Thomas
发明人： KIENZLE, Oliver , RICHTER, Rigo , ROSENKRANZ, Norbert , KOBIYAMA, Yuji , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G03F1/00 , G03F1/14 , G03F7/20 , G01N21/95 , G03F7/00
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/30
摘要： The invention relates to a method for analyzing a group of at least two masks for photolithography, wherein each of the masks comprises a substructure of a total structure, which is to be introduced in a layer of the wafer in the lithographic process, and the total structure is introduced in the layer of the wafer by introducing the substructures in sequence. In this method, a first aerial image of a first one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. Then, a second aerial image of a second one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. A combination image is generated from the data of the first and second aerial images, which combination image is represented and/or evaluated.
摘要翻译：本发明涉及一种用于分析一组用于光刻的至少两个掩模的方法，其中每个掩模包括总结构的子结构，其将在光刻工艺中被引入晶片的层中，并且总共通过依次引入子结构，在晶片层中引入结构。在该方法中，将至少两个掩模中的第一个的第一空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。然后，将至少两个掩模中的第二个的第二个空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。从第一和第二空间图像的数据生成组合图像，该组合图像被表示和/或评估。

4. 发明申请

WO2011029535A2 MASK INSPECTION MICROSCOPE WITH VARIABLE ILLUMINATION SETTING 审中-公开
标题翻译：具有可变照明设置的屏蔽检测显微镜
公开(公告)号：WO2011029535A2
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：PCT/EP2010/005293
申请日：2010-08-28
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , STROESSNER, Ulrich , SEITZ, Holger , ROSENKRANZ, Norbert , LAENGLE, Mario
发明人： STROESSNER, Ulrich , SEITZ, Holger , ROSENKRANZ, Norbert , LAENGLE, Mario
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G02B21/086 , G02B5/005 , G03F1/84
摘要： During mask inspection it is necessary to identify defects which also occur during wafer exposure. Therefore, the aerial images generated in the resist and on the detector have to be as far as possible identical. In order to achieve an equivalent image generation, during mask inspection the illumination and, on the object side, the numerical aperture are adapted to the scanner used.The invention relates to a mask inspection microscope for variably setting the illumination. It serves for generating an image of the structure (150) of a reticle (145) arranged in an object plane in a field plane of the mask inspection microscope. It comprises a light source (5) that emits projection light, at least one illumination beam path (3, 87, 88), and a diaphragm for generating a resultant intensity distribution of the projection light in a pupil plane (135) of the illumination beam path (3, 87, 88) that is optically conjugate with respect to the object plane. According to the invention, the diaphragm is embodied in such a way that the resultant intensity distribution of the projection light has at least one further intensity value between a minimum and a maximum intensity value.
摘要翻译：在面罩检查期间，有必要识别在晶片曝光期间也会发生的缺陷。因此，在抗蚀剂和检测器上产生的空中图像必须尽可能相同。为了实现等效图像生成，在掩模检查期间，照明和物体侧的数值孔径适用于所使用的扫描仪。本发明涉及一种用于可变地设置照明的掩模检查显微镜。其用于生成布置在掩模检查显微镜的场平面中的物平面中的掩模版（145）的结构（150）的图像。它包括发射投影光的光源（5），至少一个照明光束路径（3,87,88）和用于产生投影光在照明光瞳面（135）中的合成强度分布的光阑光束路径（3,87,88），其相对于物平面光学共轭。根据本发明，隔膜的实施方式是使投影光的合成强度分布在最小和最大强度值之间具有至少一个另外的强度值。

5. 发明申请

WO2009046816A1 AUFNAHMEVORRICHTUNG ZUR AUFNAHME EINES OBJEKTES 审中-公开
标题翻译：摇篮保持物体
公开(公告)号：WO2009046816A1
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：PCT/EP2008/007689
申请日：2008-09-16
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ROSENKRANZ, Norbert , BECHSTEIN, Karl-Heinz
发明人： ROSENKRANZ, Norbert , BECHSTEIN, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/707
摘要： Die Erfindung betrifft eine Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme eines Objektes, bevorzugt einer Photolithographiemaske (1), wobei die Aufnahmevorrichtung mindestens eine Auflagefläche (8) aufweist, auf der das Objekt aufliegt und wobei das Objekt mindestens eine durch eine oder mehrere Kanten (4) begrenzte, optisch wirksame Fläche (2) aufweist, die in der Aufnahmevorrichtung im wesentlichen nach unten weist. Bei einer solchen Aufnahmevorrichtung schließt die mindestens eine Auflagefläche (8) mit der optisch wirksamen Fläche (2) einen von Null verschiedenen Winkel (α) derart ein, daß das Objekt nur an den Kanten (4) der optisch wirksamen Fläche (2) auf den mindestens einen Auflagefläche (8) aufliegt.
摘要翻译：本发明涉及一种接收装置，用于接收一个对象，优选光刻掩模（1），其中，所述接收装置具有至少一个支撑面（8），其上放置所述对象，并且其中所述对象被至少一个通过一个或多个边缘（4），光学限制有效面积（2），其在接收装置基本上包括向下。在这样的记录装置中，所述至少一个支承表面（8）与所述光学有效表面关闭（2）一个非零角度的（a）这样的，只有在光学有效表面（2）的上边缘（4）的对象至少一个支撑表面（8）放置。

6. 发明授权

EP1616222B1 ANORDNUNG ZUR INSPEKTION VON MASKEN IN DER MIKROLITHOGRAPHIE 有权转让
标题翻译：安排口罩在微光刻检查
公开(公告)号：EP1616222B1
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：EP04728345.2
申请日：2004-04-20
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： The invention relates to an arrangement for inspecting objects, especially masks in microlithography. Said masks are disposed in a vacuum chamber. A converter converts illuminating radiation emitted from the object into radiation of a higher wave length. A sensor is also provided for recording images. The sensor is disposed outside the vacuum chamber and is arranged as an optical interface between the vacuum chamber to the sensor of the converter or at least one part of an image lens is arranged as a window in the vacuum chamber.

7. 发明公开

EP1618429A1 BELEUCHTUNGS- UND ABBILDUNGSSYSTEM MIT DIFFRAKTIVEM STRAHLTEILER 审中-公开
标题翻译：照明及图象系统与衍射分光镜
公开(公告)号：EP1618429A1
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：EP04728340.3
申请日：2004-04-20
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： BRUNNER, Robert , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , GREIF-WÜSTENBECKER, Jörn , ROSENKRANZ, Norbert , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G02B27/10 , G02B21/16 , G03F7/20 , G02B21/12 , G02B17/00
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B17/00 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B21/12 , G02B21/16 , G02B27/1086 , G02B27/14
摘要： The invention relates to an imaging system in which a diffractive optical element is used by both the illumination beam path and the imaging beam path. Said diffractive element operates in the reflection mode or transmission mode according to the specifications of the system design. At least one of the imaging optical elements provided in the beam path of the inventive diffractive beam splitter for imaging systems is used for both the illumination beam path and the imaging beam path. Said element represents a diffractive optical element (DOE) and requires no spatial separation between the imaging beam path and the illumination beam path in the object space by using different diffraction arrays. The number of reflective optical elements can be decreased by using diffractive optical elements, resulting in the cost of the system being reduced and the service life of the optical components being increased by using a low-power EUV source.

8. 发明公开

EP1616222A2 ANORDNUNG ZUR INSPEKTION VON OBJEKTEN, INSBESONDERE VON MASKEN IN DER MIKROLITHOGRAPHIE 有权转让
标题翻译：安排口罩在微光刻检查
公开(公告)号：EP1616222A2
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：EP04728345.2
申请日：2004-04-20
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： The invention relates to an arrangement for inspecting objects, especially masks in microlithography. Said masks are disposed in a vacuum chamber. A converter converts illuminating radiation emitted from the object into radiation of a higher wave length. A sensor is also provided for recording images. The sensor is disposed outside the vacuum chamber and is arranged as an optical interface between the vacuum chamber to the sensor of the converter or at least one part of an image lens is arranged as a window in the vacuum chamber.

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