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1. 发明申请

WO2002065482A3 KOLLEKTOR MIT UNGENUTZTEM BEREICH FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE ≤ 193 nm 审中-公开
公开(公告)号：WO2002065482A3
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/EP2002/000608
申请日：2002-01-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen zur Aufnahme des Lichtes einer Lichtquelle über eine objektseitige Apertur und zur Ausleuchtung eines Bereiches in einer bildseitigen Ebene mit einer Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind, und jeder Spiegelschale ein Ringaperturelement der objektseitigen Apertur zugeordnet ist, wobei der ersten optischen Fläche ein Anfangs- und ein Endpunkt in einer Meridonalebene zugeordnet ist, wobei die Merdionalebene eine Ebene ist, welche die Rotationsachse umfasst und der Anfangspunkt der ersten optischen Fläche in der Meridionalebene einen äusseren Randstrahl und der Endpunkt der ersten optischen Fläche in der Meridonalebene einen inneren Randstrahl definiert und innerer und äusserer Randstrahl rotiert um die Rotationsachse ein Lichtbüschel begrenzen, das mindestens an der ersten optischen Fläche der Spiegelschale reflektiert wird und den Kollktor von der objektseitigen Apertur zur auszuleuchtenden Ebene durchläuft, wobei das Lichtbüschel einen genutzten Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen definiert. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Flächenparameter und die Position der Spiegelschalen derart gewählt werden, dass mindestens ein ungenutzter Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen ausgebildet wird.

2. 发明申请

WO2003014833A2 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
标题翻译：具有固定装置的收集器用于固定镜罩
公开(公告)号：WO2003014833A2
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B7/182 , G02B17/006 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/70825 , G21K1/06 , G21K5/04
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于投射曝光设备的集光器，其以沿着扫描方向以≤193nm，优选地≤126nm的波长的扫描模式操作，特别优选地EUV波长是，其中，所述收集器从在物体侧的光源和一个区域，其中由本地跨越坐标系统的图像侧平面占用光，局部的y方向的坐标系平行于该扫描方向和垂直于扫描方向的X方向，照亮，其特征在于所述收集器包括：多个旋转对称的镜壳，每个镜壳包括至少第一镜部分，所述第一镜部分包括第一光学表面，其中所述镜壳围绕共同的旋转轴线彼此布置; 用于固定多个旋转对称镜壳的紧固装置，并且紧固装置具有在旋转对称镜壳的径向方向上延伸的辐条。本发明的特征在于，辐条被布置成当投影到要被照明的像侧平面中时，它们朝向图像侧平面中的局部坐标系的y方向倾斜

3. 发明申请

WO2003014833A3 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003014833A3
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.

4. 发明申请

WO2004034146A2 BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VORRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER LICHTINTENSITÄT 审中-公开
标题翻译：与设备用于设置光强照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A2
公开(公告)日：2004-04-22
申请号：PCT/EP2003/009370
申请日：2003-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
发明人： SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie mit Wellenlängen ≤ 157 nm, insbesondere für die EUV-Lithographie zur Ausleuchtung einer Objektebene umfassend eine Strahlungsquelle, die ein Bündel von Lichtstrahlen zur Verfügung stellt, wobei das Bündel von Lichtstrahlen das Beleuchtungssystem in einem Strahlengang in einer Richtung von der Strahlungsquelle zur Objektebene durchläuft und eine Lichtintensität aufweist; einer ersten optischen Komponente, die mindestens ein erstes optisches Element mit einer Vielzahl von Rasterelementen umfasst, wobei das erste optische Element im Strahlengang zwischen der Strahlungsquelle und der Objektebene angeordnet ist; dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorrichtung zur Einstellung der Lichtintensität für Wellenlängen ≤ 157 nm vorgesehen ist, die im Strahlengang von der Strahlungsquelle zur Objektebene zwischen der Strahlungsquelle und dem ersten optischen Element angeordnet ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统穿过辐射源到物体面并具有光强度的方向; 一个第一光学部件，其至少包括具有多个格子体，其中，所述第一光学元件被布置在所述辐射源和所述物平面之间的光路中的第一光学元件; 其特征在于，一个装置用于调整波长的光强度<157纳米设置=设置在从辐射源到辐射源和所述第一光学元件之间的物体面的光束路径。

5. 发明申请

WO2003098349A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2003098349A3
公开(公告)日：2003-11-27
申请号：PCT/EP2003/004971
申请日：2003-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≤ 193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements (5). The plurality of raster elements is imaged into an image plane (9) of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.

6. 发明申请

WO2003098349A2 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于微晶
公开(公告)号：WO2003098349A2
公开(公告)日：2003-11-27
申请号：PCT/EP2003/004971
申请日：2003-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B3/0043 , B82Y10/00 , G02B3/0062 , G02B17/0657 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G21K1/06 , G21K1/062
摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≤ 193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements. The plurality of raster elements is imaged into an image plane of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.
摘要翻译：提供了一种用于沿着扫描方向进行扫描器微光刻的照明系统，其中发射波长<= 193nm的光源。照明系统包括多个光栅元件。将多个光栅元件成像为照明系统的图像平面，以产生部分地叠加在图像平面中的场上的多个图像。该场在扫描方向上定义非矩形强度分布。

7. 发明申请

WO2004021085A1 OPTISCHES TEILSYSTEM INSBESONDERE FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM IN MINDESTENS ZWEI STELLUNGEN VERBRINGBAREN OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学子系统尤其是具有至少一个在至少两个位置VERBRINGBAREN光学部件的投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2004021085A1
公开(公告)日：2004-03-11
申请号：PCT/EP2003/005387
申请日：2003-05-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WEISS, Markus
发明人： SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WEISS, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0006 , G02B17/0657 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70825 , G03F7/70925 , G03F7/70975
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Teilsystem, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Strahlbüschel (4), das das optische Teilsystem durchläuft mindestens einem optischen Element, auf das die Strahlen des Strahlbüschels (4) in einem ersten Nutzbereich (12, 108.1, 152, 208.1, 308.1) auftreffen, Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element mindestens einen weiteren Nutzbereich (14, 108.2, 154, 208.1, 308.1) aufweist und Einrichtungen zum Verbringen des optischen Elementes in mindestens zwei Stellungen, eine erste Stellung und eine (weitere) Stellung(en) wobei das Strahbüschel in der ersten Stellung im ersten Nutzbereich (12, 152, 108.1, 208.1, 308.1) und in der zweiten (weiteren) Stellung in einem zweiten (weiteren) Nutzbereich (14, 154, 108.2, 208.2, 308.2) auf die Oberfläche des optischen Elementes auftrifft.
摘要翻译：本发明涉及的光学子系统，尤其是用于投射曝光系统的用于微光刻与光束（4），其通过光学子系统经过至少一个光学元件在其上的光束（4）在第一使用区域（光线12，108.1，152 ，208.1，308.1）入射，本发明的特征在于，所述光学元件具有至少一个额外的有效载荷（14，108.2，154，208.1，308.1）的装置，以及用于使该光学元件在至少两个位置，一个第一位置和一个（其他）的位置（一个或多个），其中所述Strahbüschel在第一有效载荷中的第一位置（12，152，108.1，208.1，308.1）和（在第二（外）位置移动到第二（另一）有效载荷14，154，108.2， 208.2，308.2）撞击在光学元件的表面上。

8. 发明申请

WO2006136353A1 A DOUBLE-FACETTED ILLUMINATION SYSTEM WITH ATTENUATOR ELEMENTS ON THE PUPIL FACET MIRROR 审中-公开
标题翻译：带有衰减器元件的双面照明系统在PUPIL FACET MIRROR
公开(公告)号：WO2006136353A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/EP2006/005857
申请日：2006-06-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , SCHUBERT, Erich
发明人： SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , SCHUBERT, Erich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
摘要： The invention relates to an illumination system with a light source (101) emitting radiation with a wavelength ≤ 193 nm, especially radiation in the EUV wavelength range. The invention comprises a first facetted optical element (102) in a first plane (150) with at least a first and second field raster element (309) which receive the light of the light source (101 ) and divide the same into a first and second bundle (21) of light; a optical component comprising at least a second facetted optical element (104) in a second plane (152) with a first and second pupil raster element (415), with the first light bundle impinging upon the first pupil raster element and the second light bundle impinging upon the second pupil raster element, with an attenuator (1100) being arranged in or close to the second plane (152) or a plane conjugated to the second plane at least in the first light bundle extending from the first field raster element to the first pupil raster element, wherein the optical component images the first and second field raster element into a field plane.
摘要翻译：本发明涉及具有发射波长为193nm的辐射的光源（101）的照明系统，特别是EUV波长范围内的辐射。本发明包括在第一平面（150）中的至少第一和第二场光栅元件（309）的第一刻面光学元件（102），其接收光源（101）的光并将其分成第一和第第二束（21）光; 在第二平面（152）中至少包括具有第一和第二光瞳光栅元件（415）的第二刻面光学元件（104）的光学部件，其中第一光束撞击第一光瞳光栅元件和第二光束撞击在第二光瞳光栅元件上，其中衰减器（1100）布置在第二平面（152）中或靠近第二平面（152）或至少在从第一场光栅元件延伸到第二光栅元件的第一光束中与第二平面共轭的平面第一光瞳光栅元件，其中所述光学部件将所述第一和第二场光栅元素成像为场平面。

9. 发明申请

WO2007045434A2 KOLLEKTOR FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE ≤ 193 NM 审中-公开
标题翻译：收集器，用于具有波长= 193nm的照明系统
公开(公告)号：WO2007045434A2
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/EP2006/010004
申请日：2006-10-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAINZ, Joachim , ENDRES, Martin , SINGER, Wolfgang , KLEEMANN, Bernd , BADER, Dieter
发明人： HAINZ, Joachim , ENDRES, Martin , SINGER, Wolfgang , KLEEMANN, Bernd , BADER, Dieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Strahlung umfassend: eine erste Spiegelschale (1212.1 ) und eine zweite Spiegelschale (1212.2), wobei die erste Spiegelschale (1212.1) innerhalb der zweiten Spiegelschale (1212.2) angeordnet ist, und die erste Spiegelschale (1212.1) und/oder die zweite Spiegelschale (1212.2) einen rotationssymmetrischen und einen nicht rotationssymmetrischen Anteil aufweisen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与波长= 193纳米的照明系统，优选= 126纳米，特别优选为EUV辐射包括一个集电极：第一反射镜壳（1212.1）和第二反射镜壳（1212.2），其中，所述第一反射镜壳（1212.1）所述第二内镜壳（1212.2）布置，并且第一反射镜壳（1212.1）和/或第二反射镜壳（1212.2）具有旋转对称的和一个非旋转对称部。

10. 发明申请

WO2007003359A1 KOLLEKTOREINHEIT FÜR EIN BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT WELLENLÄNGEN ≤ 193 NM 审中-公开
标题翻译： COLLECTOR单元，用于与波长= 193纳米照明系统
公开(公告)号：WO2007003359A1
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/EP2006/006356
申请日：2006-06-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang
发明人： DINGER, Udo , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： Die Erfindung betrifft eine Kollektoreinheit für ein Beleuchtungssystem mit Wellenlängen ≤ 193 nm, insbesondere im EUV Bereich, auf welche Strahlen eines Strahlbüschels auftreffen. Die Kollektoreinheit ist gekennzeichnet durch eine Porenstruktur (4), welche aus auf einer Unterseite reflektierenden, übereinander stapelbaren Schalen (1) mit einer vorgegebenen Krümmung gebildet ist. Die Schalen weisen auf einer Oberseite Stege (3) auf.
摘要翻译：本发明涉及一种收集器单元，用于在EUV范围内，在其上光束束的射线撞击与波长的照明系统= 193纳米，特别是。集流单元的特征在于，其上的下反射叠加可堆叠外壳（1）由预定曲率形成的孔结构（4）。壳具有在上侧纤维网（3）。

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