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1. 发明申请

WO2007045434A2 KOLLEKTOR FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE ≤ 193 NM 审中-公开
标题翻译：收集器，用于具有波长= 193nm的照明系统
公开(公告)号：WO2007045434A2
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/EP2006/010004
申请日：2006-10-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAINZ, Joachim , ENDRES, Martin , SINGER, Wolfgang , KLEEMANN, Bernd , BADER, Dieter
发明人： HAINZ, Joachim , ENDRES, Martin , SINGER, Wolfgang , KLEEMANN, Bernd , BADER, Dieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Strahlung umfassend: eine erste Spiegelschale (1212.1 ) und eine zweite Spiegelschale (1212.2), wobei die erste Spiegelschale (1212.1) innerhalb der zweiten Spiegelschale (1212.2) angeordnet ist, und die erste Spiegelschale (1212.1) und/oder die zweite Spiegelschale (1212.2) einen rotationssymmetrischen und einen nicht rotationssymmetrischen Anteil aufweisen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与波长= 193纳米的照明系统，优选= 126纳米，特别优选为EUV辐射包括一个集电极：第一反射镜壳（1212.1）和第二反射镜壳（1212.2），其中，所述第一反射镜壳（1212.1）所述第二内镜壳（1212.2）布置，并且第一反射镜壳（1212.1）和/或第二反射镜壳（1212.2）具有旋转对称的和一个非旋转对称部。

2. 发明申请

WO2007019886A1 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：光学系统中，透镜或照明UP的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007019886A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/EP2005/055888
申请日：2005-11-10
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70158
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung, wobei das Füllverhältnis der Einzel-Substrukturen in Erstreckungsrichtung zur Periode in Abhängigkeit von der Position senkrecht zur Erstreckungsrichtung so gewählt ist, dass für einen von zwei zueinander orthogonalen Polarisationszuständen der elektromagnetischen Strahlung die Blazewirkung optimiert ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明装置或微光刻投射曝光设备的投射物镜，其具有具有多个火焰结构中的至少一个衍射光学元件来实现火焰的效果，每一个包括多个关心的闪耀效果个体子结构，其根据在延伸方向以预定的周期各自闪耀结构并列设置，在每个所述在封闭的几何表面的形式平面图单自己的子结构，定向平行于延伸方向的尺寸变化垂直于延伸方向，但总是小于所述电磁辐射的波长，且垂直于它们的最大尺寸延伸方向比所述电磁辐射的波长，在延伸方向上P上的各个子结构，其中，所述填充率大于 eriode一个功能由位置垂直于延伸方向，使得对于电磁辐射的两个相互正交的偏振状态中的一个闪耀效果被最优化选择。

3. 发明申请

WO2004025335A1 BINÄR GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：二进制闪耀衍射光学元件
公开(公告)号：WO2004025335A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/009285
申请日：2003-08-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd
发明人： ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/18 , G02B5/1809 , G02B5/1866 , G02B27/0043
摘要： Es wird ein binär geblazetes diffraktives optisches Element beschrieben, das in an und für sich bekannter Weise eine Vielzahl von Beugungsstrukturen (1) umfasst. Diese erstrecken sich im wesentlichen parallel zueinander in einer Breite g, die grösser als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, für die das diffraktive optische Element bestimmt ist. Die Beugungsstrukturen (1) setzen sich aus einer Vielzahl vo EinzelSubstrukturen (2) zusammen, die für die Blazewirkung sorgen und in Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1) eine maximale Abmessung p aufweisen, die zumindest im Mittel über eine Beugungsstruktur hinweg kleiner als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist. In der Draufsicht besitzen die Einzel-Substrukturen (2) die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche. Ihre parallel zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1) gerichtete Abmessung variiert in Richtung senkrecht zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1). Ihre maximale Abmessung in Richtung senkrecht zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (1) ist grösser als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.
摘要翻译：我们将描述包括以已知的方式在本身的多个衍射结构（1）的二进制闪耀衍射光学元件。这些基本上平行于彼此在宽度g，这比的量，衍射光学元件被确定的电磁辐射的有效波长。衍射结构（1）由多个VO个体子结构（2）一起，提供用于火焰效果和在衍射结构的延伸方向（1）的最大尺寸p具有至少在衍射结构上比的有效波长的远小于平均的是电磁辐射。在平面图中，单独的子结构（2）具有封闭几何面积的形状。其平行于所述衍射结构（1）的延伸方向指向尺寸的方向垂直于所述衍射结构（1）的延伸方向变化。垂直于所述衍射结构（1）的延伸的方向上它们的最大尺寸大于所述电磁辐射的有效波长。

4. 发明申请

WO2006021540A3 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006021540A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/054070
申请日：2005-08-18
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/18 , G02B27/00 , G02B27/44
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.

5. 发明公开

EP1938150A2 KOLLEKTOR FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE = 193 NM 有权
标题翻译：收集器，用于照明系统的波长
公开(公告)号：EP1938150A2
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：EP06806336.1
申请日：2006-10-17
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： HAINZ, Joachim , ENDRES, Martin , SINGER, Wolfgang , KLEEMANN, Bernd , BADER, Dieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： The invention relates to a collector for lighting systems with a wavelength of ≤ 193 nm, preferably ≤ 126 nm, particularly preferred EUV radiation, comprising: a first mirror shell (1212.1) and a second mirror shell (1212.2), the first mirror shell (1212.1) being placed inside the second mirror shell (1212.2), and the first mirror shell (1212.1) and/or the second mirror shell (1212.2) have/has a rotationally symmetric and a non-rotationally symmetric portion.

6. 发明公开

EP1393134A2 BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VIELZAHL VON EINZELGITTERN 审中-公开
标题翻译：与单个条各种照明系统
公开(公告)号：EP1393134A2
公开(公告)日：2004-03-03
申请号：EP02743087.5
申请日：2002-05-24
申请人： Carl Zeiss SMT AG , ASML Netherlands B.V.
发明人： WEISS, Markus , KLEEMANN, Bernd , OSTERRIED, Karlfried , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank , HEISLER, Andreas , BANINE, Vadim, Yevgenyevich
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/702 , G21K1/06
摘要： The invention relates to a lighting system for wavelengths of 100 nm having an object plane and a field plane. Said invention is characterized in that the lighting system comprises at least one grid element (1) having a plurality of individual grids (9), and at least one physical diaphragm (7.3) in a diaphragm plane, which is connected downstream of the grid element (1) in the optical path from the object plane to the image plane.

7. 发明申请

WO2009036941A2 BINÄR GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：二元流体不同的光学元件
公开(公告)号：WO2009036941A2
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/EP2008/007661
申请日：2008-09-16
申请人： CARL ZEISS AG , ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1819 , G02B5/1833 , G02B5/189
摘要： Ein binär geblazetes diffraktives optisches Element (10) weist eine Vielzahl von Beugungsstrukturen (16) auf, die sich im Wesentlichen parallel zueinander erstrecken und senkrecht zu ihrer Erstreckungsrichtung eine Breite g aufweisen, die größer als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, für welche das diffraktive optische Element (10) optimiert ist. Die Beugungsstrukturen (16) umfassen jeweils eine Reihe von Einzel-Substrukturen (18), die in der Draufsicht die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung in Richtung senkecht zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (16) variiert und deren senkrecht zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung größer als die effektive Wellenlänge ist. Erfindungsgeimäß tragen die Einzel-Substrukturen (18) formdoppelbrechende Strukturen (26), wodurch die Polarisationsabhängigkeit der Beugungseffizienz des diffraktiven optischen Elements (10) verringert wird.
摘要翻译：
仓BEAR闪耀衍射光学元件（10）具有多个衍射结构（16），其大致平行具有延伸到彼此和g垂直于它们延伸的方向的宽度GR＆ouml;大街它被认为是衍射光学元件（10）被优化的电磁辐射的有效波长。衍射结构（16），每个包括多个在平面图中个别子结构（18）的观看闭合几何FL BEAR的形状有枝，其平行于延伸的衍射结构（16）的方向引导的尺寸senkecht到衍射结构的延伸方向（ 16）并且其垂直于衍射结构（16）的延伸方向的尺寸大于有效波长。 Erfindungsgeim＆AUML;大街上是各个子结构（18）的形式双折射结构（26），由此所述偏振BEAR。降低衍射光学元件的衍射效率的关系（10）

8. 发明申请

WO2004102232A1 GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT SOWIE PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT EINEM SOLCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：与这样的元素闪耀衍射光学元件和投影镜头
公开(公告)号：WO2004102232A1
公开(公告)日：2004-11-25
申请号：PCT/EP2004/004636
申请日：2004-05-03
申请人： CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS , CARL ZEISS , KLEEMANN, Bernd
发明人： KLEEMANN, Bernd
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/1838 , G02B5/1842 , G02B27/4222
摘要： Ein geblazetes diffraktives optisches Element hat einen Träger (14) und mehrere geblazete Beugungsstrukturen (16, 18, 18‘; 216, 218), die im Abstand einer lokal variierenden Gitterkonstante (g n-2 , g n-1 , g n , g n+1 ) auf dem Träger (14) aufgebracht sind. In einem ersten Bereich (B n , B n+l ; B' n-2 , B' n-1 ; B" n ) haben die Beugungsstrukturen (16; 216) ein zumindest annähernd rampenförmiges Profil. In einem zweiten Bereich (B n-2 , B n-1 ; B' n , B' n+l ; B" n-1 ) sind die Beugungsstrukturen (18; 218) durch Aufteilung in vorzugsweise steg- oder pfeilerförmige Unterstrukturen (26; 26‘; 226) binär geblazet. Dadurch lässt sich in dem zweiten Bereich die Beugungseffizienz des diffraktiven optischen Elements (10; 100; 200) erhöhen.
摘要翻译：闪耀衍射光学元件具有载体（14）和多个闪耀衍射结构（16，18，18“; 216，218）在局部变化的光栅常数的距离（GN-2，GN-1，GN，GN + 1）被施加到所述载体（14）。在第一区域（BN，BN + 1; B'n-2，B 'N-1 B' n）是衍射结构（16; 216）具有至少近似斜坡形轮廓（在第二区域BN-2 ,. BN-1，B 'N，B' N + 1 B“N-1），衍射结构（18; 218）（通过将在优选网状或柱状子结构26; 26“;闪耀226）的二进制。从而，衍射光学元件的衍射效率可在第二区域（10; 100; 200）的增加。

9. 发明申请

WO2004102233A1 DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT SOWIE PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT EINEM SOLCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：衍射光学元件有这样和投影透镜元件
公开(公告)号：WO2004102233A1
公开(公告)日：2004-11-25
申请号：PCT/EP2004/004637
申请日：2004-05-03
申请人： CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS , CARL ZEISS , KLEEMANN, Bernd
发明人： KLEEMANN, Bernd
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/1838 , G02B5/1842 , G02B27/4205 , G02B27/4277
摘要： Ein diffraktives optisches Element hat einen Träger (14) und mehrere darauf aufgebrachte Beugungsstrukturen (16; 216), die durch Aufteilung in Unterstrukturen (181, 182, 183, 184) binär geblazet sind, so dass das Aspektverhältnis der Unterstrukturen (181, 182, 183, 184) innerhalb einer einzelnen Beugungsstruktur lokal variiert. Innerhalb einer einzelnen Beugungsstruktur (16; 216) sind eine oder mehrere Unterstrukturen (185, 186, 187) mit grossem Aspektverhältnis durch wenigstens eine Ersatzstruktur (20; 20a; 20b; 120; 220) ersetzt, deren Aspektverhältnis kleiner als das der ersetzten Unterstrukturen (185, 186, 187) ist. Das diffraktive optische Gitter (10; 100; 200) zeichnet sich durch eine hohe Beugungseffizienz aus und hat keine schwer herstellbaren Unterstrukturen mit grossem Aspektverhältnis.
摘要翻译：的衍射光学元件具有载体（14）和多个施加衍射结构（16; 216）（181，182，183，184）由除法被闪耀二进制成子结构，从而使子结构（181，182的纵横比， 183，184不同）本地内的单个衍射结构。（16; 216）的单个光栅结构内的是具有由至少一个替换结构的高宽比的一个或多个子结构（185，186，187）替换其长宽比大于替换子结构的情况下（（20; 220 20A; 20B; 120） 185，186，187）是。衍射光栅（10; 100; 200）的特征在于一个高的衍射效率，并且没有硬产生子结构具有高的纵横比。

10. 发明申请

WO2003065520A1 BANDBREITEN-EINENGUNGSMODUL 审中-公开
标题翻译：带宽管理模块
公开(公告)号：WO2003065520A1
公开(公告)日：2003-08-07
申请号：PCT/EP2003/000781
申请日：2003-01-27
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , KLEEMANN, Bernd , ERXMEYER, Jeffrey , KRAUS, Johannes , HEIDEMANN, Klaus
发明人： KLEEMANN, Bernd , ERXMEYER, Jeffrey , KRAUS, Johannes , HEIDEMANN, Klaus
IPC分类号： H01S3/08
CPC分类号： H01S3/225 , H01S3/08004 , H01S3/1055 , H01S3/2256
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Lichtquelle, insbesondere einen Laser, mit einem Reflektionsgitter (5). Erfindungsgemäss sind Polarisationsmittel (6) vorgesehen, mit denen eine s-Vorzugspolarisation für auf das Reflektionsgitter einfallendes Licht eingestellt wird. Verwendung z.B. zur Bandbreiten-Einengung bei Lasern.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光源的带宽变窄模块，特别是激光用反射光栅5.根据本发明偏振装置6设置有入射光的s优先偏振被设置为反射光栅。例如使用带宽收窄激光器。

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