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1. 发明申请

WO2006136353A1 A DOUBLE-FACETTED ILLUMINATION SYSTEM WITH ATTENUATOR ELEMENTS ON THE PUPIL FACET MIRROR 审中-公开
标题翻译：带有衰减器元件的双面照明系统在PUPIL FACET MIRROR
公开(公告)号：WO2006136353A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/EP2006/005857
申请日：2006-06-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , SCHUBERT, Erich
发明人： SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , SCHUBERT, Erich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
摘要： The invention relates to an illumination system with a light source (101) emitting radiation with a wavelength ≤ 193 nm, especially radiation in the EUV wavelength range. The invention comprises a first facetted optical element (102) in a first plane (150) with at least a first and second field raster element (309) which receive the light of the light source (101 ) and divide the same into a first and second bundle (21) of light; a optical component comprising at least a second facetted optical element (104) in a second plane (152) with a first and second pupil raster element (415), with the first light bundle impinging upon the first pupil raster element and the second light bundle impinging upon the second pupil raster element, with an attenuator (1100) being arranged in or close to the second plane (152) or a plane conjugated to the second plane at least in the first light bundle extending from the first field raster element to the first pupil raster element, wherein the optical component images the first and second field raster element into a field plane.
摘要翻译：本发明涉及具有发射波长为193nm的辐射的光源（101）的照明系统，特别是EUV波长范围内的辐射。本发明包括在第一平面（150）中的至少第一和第二场光栅元件（309）的第一刻面光学元件（102），其接收光源（101）的光并将其分成第一和第第二束（21）光; 在第二平面（152）中至少包括具有第一和第二光瞳光栅元件（415）的第二刻面光学元件（104）的光学部件，其中第一光束撞击第一光瞳光栅元件和第二光束撞击在第二光瞳光栅元件上，其中衰减器（1100）布置在第二平面（152）中或靠近第二平面（152）或至少在从第一场光栅元件延伸到第二光栅元件的第一光束中与第二平面共轭的平面第一光瞳光栅元件，其中所述光学部件将所述第一和第二场光栅元素成像为场平面。

2. 发明申请

WO2009040120A2 OPTISCHE EINRICHTUNG MIT EINSTELLBARER KRAFTWIRKUNG AUF EIN OPTISCHES MODUL 审中-公开
标题翻译：光学模块上具有可调效应的光学设备
公开(公告)号：WO2009040120A2
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/EP2008/008176
申请日：2008-09-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUBERT, Erich , HEISLER, Andreas , HARTJES, Joachim
发明人： SCHUBERT, Erich , HEISLER, Andreas , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/00 , G03F7/70266 , G03F7/70825
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, einer Stützstruktur und einer Krafterzeugungseinrichtung. Die Krafterzeugungseinrichtung ist mit dem optischen Modul und der Stützstruktur verbunden und dazu ausgebildet, auf das optische Modul eine Kraft auszuüben. Die Krafterzeugungseinrichtung weist ein fluidisches Krafterzeugungselement mit einer Arbeitskammer auf, die mit einem einen Arbeitsdruck aufweisenden Arbeitsfluid beaufschlagbar ist. Das Krafterzeugungselement ist als Muskelelement ausgebildet, das bei einem ersten Arbeitsdruck eine erste Zugkraft ausübt und bei einem gegenüber dem ersten Arbeitsdruck erhöhten zweiten Arbeitsdruck eine gegenüber der ersten Zugkraft erhöhte zweite Zugkraft ausübt.
摘要翻译：光学装置技术领域本发明涉及一种光学装置，特别是用于微光刻的光学装置，其包括光学模块，支撑结构和力产生装置。力产生装置连接到光学模块和支撑结构，并设计成在光学模块上施加力。该力产生装置具有带有工作室的流体力产生元件，该工作室可以通过具有工作压力的工作流体来作用。所述力产生元件被构造为肌肉元件，在第一操作压力的第一拉伸力导航用途; BT并且在相对在所述第一工作压力ERH＆OUML; HTEN第二工作压力在第一拉伸力ERH＆OUML的计数器; HTE第二拉力导航用BT

3. 发明申请

WO2009080231A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于在微波曝光装置中照射掩模的照明系统
公开(公告)号：WO2009080231A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010622
申请日：2008-12-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUBERT, Erich , KOHL, Alexander , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
发明人： SCHUBERT, Erich , KOHL, Alexander , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70433
摘要： An illumination system (28) of a micro-lithographic projection exposure apparatus (12) is provided, which is configured to illuminate a mask (16) positioned in a mask plane. The system comprises a pupil shaping optical subsystem (58, 64) and illuminator optics (32, 38) that illuminate a beam deflecting component (46). For determining a property of the beam deflecting component, an intensity distribution in a system pupil surface (70) of the illumination system is determined. Then the property of the beam deflecting component is determined such that the intensity distribution produced by the pupil shaping subsystem in the system pupil surface approximates the intensity distribution determined before. At least one of the following aberrations are taken into account in this determination: (i) an aberration produced by the illuminator optics (32, 38); (ii) an aberration produced by the pupil shaping optical subsystem (58, 64); (iii) an aberration produced by an optical element (78) arranged between the system pupil surface and the mask plane.
摘要翻译：提供微光刻投影曝光装置（12）的照明系统（28），其被配置为照亮位于掩模平面中的掩模（16）。该系统包括光束成形光学子系统（58,64）和照射光束偏转部件（46）的照明器光学器件（32,38）。为了确定光束偏转分量的特性，确定照明系统的系统光瞳表面（70）中的强度分布。然后确定光束偏转分量的特性，使得瞳孔成形子系统在系统光瞳表面中产生的强度分布近似于之前确定的强度分布。在该确定中考虑以下像差中的至少一个：（i）由照明器光学器件（32,38）产生的像差; （ii）由光瞳成形光学子系统（58,64）产生的像差; （iii）由布置在系统光瞳表面和掩模平面之间的光学元件（78）产生的像差。

4. 发明公开

EP2238513A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 有权
标题翻译：照明方法
公开(公告)号：EP2238513A1
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：EP08865442.1
申请日：2008-12-13
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： SCHUBERT, Erich , KOHL, Alexander , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70433
摘要： A diffractive optical element (156) is configured to be inserted into a light beam path of an illumination system (112) of a microlithographic projection exposure apparatus (10) such that it produces a desired intensity distribution in a system pupil surface (154) of the illumination system, wherein a Fourier transform of an angular distribution produced by the diffractive optical element (156) differs from the desired intensity distribution.

5. 发明公开

EP1894063A1 A DOUBLE-FACETTED ILLUMINATION SYSTEM WITH ATTENUATOR ELEMENTS ON THE PUPIL FACET MIRROR 审中-公开
标题翻译：与弱化的部件瞳琢面反射镜双FACETED照明系统
公开(公告)号：EP1894063A1
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：EP06762082.3
申请日：2006-06-19
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： SINGER, Wolfgang , HAINZ, Joachim , SCHUBERT, Erich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
摘要： The invention relates to an illumination system with a light source (101) emitting radiation with a wavelength ≤ 193 nm, especially radiation in the EUV wavelength range. The invention comprises a first facetted optical element (102) in a first plane (150) with at least a first and second field raster element (309) which receive the light of the light source (101 ) and divide the same into a first and second bundle (21) of light; a optical component comprising at least a second facetted optical element (104) in a second plane (152) with a first and second pupil raster element (415), with the first light bundle impinging upon the first pupil raster element and the second light bundle impinging upon the second pupil raster element, with an attenuator (1100) being arranged in or close to the second plane (152) or a plane conjugated to the second plane at least in the first light bundle extending from the first field raster element to the first pupil raster element, wherein the optical component images the first and second field raster element into a field plane.

6. 发明申请

WO2009012858A1 MIKROSCHALTER 审中-公开
标题翻译：微
公开(公告)号：WO2009012858A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/005160
申请日：2008-06-25
申请人： SCHALTBAU GMBH , MAYER, Wolfgang , SCHUBERT, Erich , WIRZ, Paul
发明人： MAYER, Wolfgang , SCHUBERT, Erich , WIRZ, Paul
IPC分类号： H01H1/20 , H01H1/18
CPC分类号： H01H1/2083 , H01H1/18
摘要： Die Erfindung betrifft einen Mikroschalter mit mindestens zwei Kontaktstellen mit je einem beweglichen Kontakt und einem Festkontakt, wobei die beweglichen Kontakte auf einer Kontaktbrücke angeordnet sind, die Kontaktbrücke mittels eines Stößels bewegbar und von einer ersten Schaltstellung, in der Kontaktstellen geöffnet sind, in eine zweite Schaltstellung, in der Kontaktstellen geschlossen sind, überführbar ist. Bei Gebrauch des Mikroschalters kann sich Schmutz an den Kontakten ablagern, der störend auf den Mikroschalter einwirkt und im schlimmsten Fall dazu führt, dass in der Schließstellung der Kontaktstellen kein Stromfluss mehr stattfindet. Es soll deshalb ein Mikroschalter mit sicheren Selbstreinigung bereitgestellt werden. Hierzu ist vorgesehen, dass die Kontaktbrücke so gelagert ist, dass die Kontaktbrücke beim Schließen und öffnen der Kontakte eine Drehbewegung um eine parallel zu ihrer Längserstreckung verlaufende Drehachse durchführt, wodurch zwischen den einander gegenüberliegenden Kontakten jeder Kontaktstelle eine zwangsgeführte Reibbewegung quer zur Längserstreckung der Kontaktbrücke stattfindet.
摘要翻译：本发明涉及一种具有各自至少两个接触点与一个可动触点和固定触点，其中，所述可动触点被布置在接触桥，柱塞可移动和第一开关位置的接触桥装置，是在接触点打开，在第二切换位置的微动开关，在接触点处被闭合可被转移。在使用时，微污物上的联系人，这与微干扰，在最坏的情况下，在接触点没有电流流发生的关闭位置导致建立。因此，应当提供安全自洁微动开关。为了这个目的，它提供的是，接触桥被安装为使得所述接触桥通过围绕平行于旋转的其纵向延伸轴线延伸的轴线的旋转运动进行接点的闭合和打开，由此，每一个接触点的带正从动摩擦运动横向采用了相反的触点到接触桥的纵向延伸之间。

7. 发明申请

WO2005028659A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES D-PANTOTHENSÄURE UND/ODER DEREN SALZE ENTHALTENDES TIERFUTTERSUPPLEMENT 审中-公开
标题翻译：用于生产D-泛酸和/或它的盐含有动物饲料添加物
公开(公告)号：WO2005028659A2
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：PCT/EP2004/052308
申请日：2004-09-16
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT , BECK, Christine , BITTERLICH, Stefan , HARZ, Hans-Peter , KLEIN, Daniela , LOHSCHEIDT, Markus , SCHOLTEN, Edzard , SCHUBERT, Erich
发明人： BECK, Christine , BITTERLICH, Stefan , HARZ, Hans-Peter , KLEIN, Daniela , LOHSCHEIDT, Markus , SCHOLTEN, Edzard , SCHUBERT, Erich
IPC分类号： C12P13/02
CPC分类号： C12P13/02 , A23K20/174
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zur Herstellung eines D-Pantothensäure und/oder deren Salze enthaltendes Tierfuttersupplement sowie dessen Verwendung.
摘要翻译：本发明涉及一种改进的用于生产D-泛酸和/或其盐，含有动物饲料补充剂和它的使用。

8. 发明申请

WO2003070499A1 SEALING OR GUIDING ASSEMBLIES AND METHODS OF MAKING THEM 审中-公开
标题翻译：密封或指导装配及其制造方法
公开(公告)号：WO2003070499A1
公开(公告)日：2003-08-28
申请号：PCT/IB2003/000507
申请日：2003-02-12
申请人： GENCORP PROPERTY INC. , BOCCUTO, Domenico , SCHUBERT, Erich
发明人： BOCCUTO, Domenico , SCHUBERT, Erich
IPC分类号： B60J10/00
CPC分类号： B60J10/21
摘要： A sealing or guiding assembly (91) is disclosed for sealing or guiding a corner of a closure member for an opening (10) and for attachment to a frame (8) for the opening (10). The sealing or guiding assembly (91) comprises strips of flexible material extendingtowards and meeting at the apex (18) of the corner and shaped to receive the closure member at the corner and adapted to be supported by a corner support (80) which in use forms part of the frame (8), and a separate flap (120) of flexible material interlocked to the strips of flexible material in the region of the corner and bridging across the corner between the strips 91, 302, 304. The flap (120) may additionally be moulded to strips.
摘要翻译：公开了一种用于密封或引导用于开口（10）的封闭构件的角部并用于附接到用于开口（10）的框架（8）的密封或引导组件（91）。密封或引导组件（91）包括向上延伸并在角部的顶点（18）处相交并且成形为在拐角处接收封闭构件并且适于由在使用中的角部支撑件（80）支撑的柔性材料条形成框架（8）的一部分，以及在角部区域中互锁到柔性材料条的柔性材料的单独的折板（120），并跨过条91,302,304之间的角部桥接。）可另外模制成条带。

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