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1. 发明公开

KR1020140125205A 인라인 열처리 장치 无效
标题翻译：在线式热处理设备
公开(公告)号：KR1020140125205A
公开(公告)日：2014-10-28
申请号：KR1020130043088
申请日：2013-04-18
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥 , 최정환
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/67173 , H01L21/67706 , H01L21/68742
摘要： 인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 기판의 이송방향 또는 기판의 이송방향과 반대방향으로 운동하는 무빙(Moving)부재에 기판이 탑재 지지되어 이송된다. 그러므로, 기판과 무빙부재 사이 또는 기판이 탑재 지지되는 지지부재와 무빙부재 사이에는 마찰력이 작용하지 않으므로, 마찰에 의한 파티클(Particle)이 발생하지 않는다. 따라서, 파티클에 의하여 기판이 손상되는 것이 방지되므로, 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种在线热处理装置。在根据本发明的在线热处理装置中，通过将基板安装并支撑在与基板输送方向相同的方向或相反方向上移动的移动部件上来输送基板。因此，摩擦力不会在基板和移动构件之间或者在其上安装和支撑基板的支撑构件与移动构件之间并且不产生颗粒。结果，防止了由于颗粒而导致的基板损坏，从而提高了产品的可靠性。

2. 发明授权

KR101739934B1 인라인 열처리 장치 有权
标题翻译：在线热处理系统
公开(公告)号：KR101739934B1
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：KR1020150074807
申请日：2015-05-28
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥
IPC分类号： F27B9/02 , F27B9/36 , F27B9/40
摘要： 인라인열처리장치가개시된다. 본발명에따른인라인열처리장치는, 기판(50)이열처리되는공간을각각제공하는적어도하나의가열로(Furnace; 110a, 120a, 130a, 140a, 150a); 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의내부에설치되어기판(50)을이송시키는기판이송부(350); 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)마다, 기판(50)의이송방향에수직한방향으로일정간격을가지면서, 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)를관통하도록설치되며, 기판(50)을승온시키는복수개의히터(200); 기판이송부(350) 상에탑재되어기판(50)을지지하는지지부재(60); 및지지부재(60)의하측에위치되고, 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의내부에서지지부재(60)의위치를감지하는센서부(310)를포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种内联热处理设备。根据本发明的在线热处理设备包括：至少一个加热炉（110a，120a，130a，140a，150a），每个加热炉提供用于热处理衬底（50）的空间; 基板传送单元350，其安装在加热炉110a，120a，130a，140a和150a中的每一个内部以传送基板50; 加热炉110a，120a，130a，140a和150a中的每一个在垂直于基板50的馈送方向的方向上具有预定的距离，安装多个加热器（200）以穿透基板（50）并加热基板（50）; 安装在所述基板（350）上以支撑所述基板（50）的支撑构件（60）; 以及传感器单元310，其位于支撑构件60的下方并且感测每个加热炉110a，120a，130a，140a，150a中的支撑构件60的位置它应。

3. 发明授权

KR101713196B1 인라인 열처리 장치 有权
标题翻译：在线式热处理设备
公开(公告)号：KR101713196B1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020150092943
申请日：2015-06-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/677
摘要： 인라인열처리장치가개시된다. 본발명에따른인라인열처리장치는, 상부라인(TL)에연속적으로배치되며, 기판(50)이열처리되는공간을각각제공하는복수개의가열로(Furnace; 120a-140a); 하부라인(BL)에연속적으로배치되며, 기판(50)이상부라인(TL)과반대방향으로이송되면서냉각되는공간을제공하는복수개의냉각부(510-540); 상부라인(TL) 및하부라인(BL)의일단부에배치되는제1 승강부(110); 상부라인(TL) 및하부라인(BL)의타단부에배치되는제2 승강부(150); 각각의가열로(120a-140a) 및각각의냉각부(510-540)의내부에설치되어기판(50)을이송시키는기판이송부(350); 및기판(50)의이송방향에수직한방향으로일정간격을가지면서, 각각의가열로(120a-140a)를관통하도록설치되며, 기판(50)을승온시키는복수개의히터(200)를포함하며, 제2 승강부(150)에는기판(50)을임시보관하는버퍼부(151)가형성된것을특징으로한다.

4. 发明授权

KR101452332B1 기판처리장치 有权
标题翻译：用于处理基层的装置
公开(公告)号：KR101452332B1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：KR1020130060344
申请日：2013-05-28
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 최정환 , 임현옥 , 허관선
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/04
CPC分类号： Y02E10/50 , H01L31/04 , H01L31/18
摘要： An apparatus for processing a substrate is disclosed. According to the present invention, all parts of a heater are disposed inside a main body. Therefore, the present invention prevents gas in a chamber from leaking to the outside of the main body by the heater even though the heater is damaged. When the maintenance of the heater is required, it is simple to separate a support plate detachably coupled to a support bar and then to repair the heater, thereby providing a useful effect of maintenance.
摘要翻译：公开了一种用于处理衬底的设备。根据本发明，加热器的所有部件都设置在主体的内部。因此，本发明通过加热器即使加热器损坏也能够防止室内的气体泄漏到主体的外部。当需要加热器的维护时，将可拆卸地联接到支撑杆上的支撑板分离，然后修复加热器是简单的，从而提供有用的维护效果。

5. 发明公开

KR1020140044424A 열처리 장치 有权
标题翻译：热处理设备
公开(公告)号：KR1020140044424A
公开(公告)日：2014-04-15
申请号：KR1020120110057
申请日：2012-10-04
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥 , 조대기
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521 , H01L31/042 , H01L31/18
摘要： A heat treatment apparatus is disclosed. The heat treatment apparatus according to the present invention includes a main body which has a chamber and a unit of detecting the leakage of a gas between the main body and a door. If the leakage of a gas is detected, the heat treatment apparatus is stopped and repaired. Therefore, safety accidents due to the leakage of a gas can be prevented.
摘要翻译：公开了一种热处理装置。根据本发明的热处理装置包括：主体，其具有室和检测主体和门之间的气体泄漏的单元。如果检测到气体的泄漏，则热处理装置被停止和修理。因此，可以防止由于气体泄漏引起的安全事故。

6. 发明公开

KR1020160139613A 인라인 열처리 장치 有权
标题翻译：在线式热处理设备
公开(公告)号：KR1020160139613A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：KR1020150074807
申请日：2015-05-28
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥
IPC分类号： F27B9/02 , F27B9/36 , F27B9/40
摘要： 인라인열처리장치가개시된다. 본발명에따른인라인열처리장치는, 기판(50)이열처리되는공간을각각제공하는적어도하나의가열로(Furnace; 110a, 120a, 130a, 140a, 150a); 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의내부에설치되어기판(50)을이송시키는기판이송부(350); 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)마다, 기판(50)의이송방향에수직한방향으로일정간격을가지면서, 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)를관통하도록설치되며, 기판(50)을승온시키는복수개의히터(200); 기판이송부(350) 상에탑재되어기판(50)을지지하는지지부재(60); 및지지부재(60)의하측에위치되고, 각각의가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의내부에서지지부재(60)의위치를감지하는센서부(310)를포함하는것을특징으로한다.

7. 发明授权

KR101593536B1 배치식 기판처리 장치 有权
标题翻译：用于处理基板的批量类型设备
公开(公告)号：KR101593536B1
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020150053195
申请日：2015-04-15
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 임현옥 , 김남경 , 염현진 , 박경완
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/56 , H01L21/677 , H01L21/673
摘要： 배치식기판처리장치(10)가개시된다. 본발명에따른배치식기판처리장치(10)는, 복수개의기판(50)이처리되는배치식기판처리장치(10)로서, 복수개의기판(50)이로딩/언로딩되는복수개의슬롯(s)을포함하고, 기판처리공간을제공하는챔버(105)를포함하는본체(100); 및본체(100)의전면에배치되어적어도하나의슬롯(s)을개폐하는도어유닛(110, 120)을포함하는것을특징으로한다.

8. 发明公开

KR1020140081981A 열처리 장치 有权
标题翻译：热处理设备
公开(公告)号：KR1020140081981A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：KR1020120150535
申请日：2012-12-21
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521 , H01L31/042 , H01L31/18
摘要： Disclosed is a heat treatment apparatus. A heat treatment apparatus according to the present invention prevents the adsorption of process gas to the inside of the main body of a chamber when the temperature of the main body falls to the level of the preset temperature or less due to the heating or cooling of an outside of the main body, and prevents the corrosion of the main body due to gas at high temperatures.
摘要翻译：公开了一种热处理装置。根据本发明的热处理装置，当主体的温度由于加热或冷却而降低到预设温度或更低的水平时，防止工艺气体吸附到室主体的内部在主体外部，并且防止由于高温下的气体导致的主体腐蚀。

9. 发明授权

KR101396603B1 기판 처리 장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR101396603B1
公开(公告)日：2014-05-20
申请号：KR1020130020435
申请日：2013-02-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이영호 , 허관선 , 임현옥
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/205 , H01L21/324 , H01L21/6719
摘要： An apparatus for processing a substrate is disclosed. An apparatus for processing a substrate according to the present invention includes a main body (110) which has a chamber (110a) which is a space for processing a substrate (50), and an inlet (110b) for entering a substrate (50) connected to the chamber (110a) is formed on one surface; a door (120) which is installed in one surface of the main body (110) and opens/closes the inlet (110b); and a heater (122) which is installed on the outer surface of the door (120) and prevents the thermal deformation of the door.
摘要翻译：公开了一种用于处理衬底的设备。本发明的基板处理装置包括具有作为基板（50）的处理空间的室（110a）的主体（110）和进入基板（50）的入口（110b）连接到所述腔室（110a）的一个表面上; 门（120），其安装在主体（110）的一个表面中并打开/关闭入口（110b）; 以及安装在门（120）的外表面上并防止门的热变形的加热器（122）。

10. 发明公开

KR1020170010344A 인라인 열처리 장치 有权
标题翻译：在线热处理系统
公开(公告)号：KR1020170010344A
公开(公告)日：2017-01-31
申请号：KR1020150092943
申请日：2015-06-30
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 임현옥
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/677
摘要： 인라인열처리장치가개시된다. 본발명에따른인라인열처리장치는, 상부라인(TL)에연속적으로배치되며, 기판(50)이열처리되는공간을각각제공하는복수개의가열로(Furnace; 120a-140a); 하부라인(BL)에연속적으로배치되며, 기판(50)이상부라인(TL)과반대방향으로이송되면서냉각되는공간을제공하는복수개의냉각부(510-540); 상부라인(TL) 및하부라인(BL)의일단부에배치되는제1 승강부(110); 상부라인(TL) 및하부라인(BL)의타단부에배치되는제2 승강부(150); 각각의가열로(120a-140a) 및각각의냉각부(510-540)의내부에설치되어기판(50)을이송시키는기판이송부(350); 및기판(50)의이송방향에수직한방향으로일정간격을가지면서, 각각의가열로(120a-140a)를관통하도록설치되며, 기판(50)을승온시키는복수개의히터(200)를포함하며, 제2 승강부(150)에는기판(50)을임시보관하는버퍼부(151)가형성된것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种内联热处理设备。根据本发明的在线热处理设备包括多个连续布置在上线TL上并且均提供用于热处理衬底50的空间的炉120a-140a; 多个冷却单元510-540连续地设置在下线BL上并且提供待沿着与基板50相反的方向传送的被冷却空间; 设置在上线TL和下线BL的一端的第一升降部110; 设置在上线TL和下线BL的末端处的第二提升部分150; 基板传送单元350，其安装在每个加热炉120a-140a和相应的冷却单元510-540内以传送基板50; 并且多个加热器（200）被安装成在垂直于基板（50）的馈送方向的方向上以规则间隔穿过加热炉（120a-140a）并加热基板（50）并且用于暂时存储基板50的缓冲单元151形成在第二提升单元150上。

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