专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2013036018A3 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2013036018A3
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/KR2012/007080
申请日：2012-09-04
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 허관선 , 설준호
发明人： 허관선 , 설준호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/203 , H01L21/324
摘要： 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 처리된 기판을 강제로 냉각시키는 냉각수단이 챔버를 형성하는 본체의 외면에 지지 설치된다. 따라서, 본체에 냉각수단을 용이하게 설치할 수 있고, 유지 보수가 용이한 효과가 있다.

2. 发明公开

KR1020140128062A 기판처리장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020140128062A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：KR1020130046742
申请日：2013-04-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 강호영 , 박경완 , 조병호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67115 , H01L21/67706 , H01L21/6875
摘要： 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 본체의 좌측면, 우측면 또는 후면에서 히터를 본체의 내부로 삽입하고, 본체의 외측으로 노출되는 히터의 타단부측에 형성된 단자판을 본체에 결합하고, 단자판에 외부의 전원측을 접속하거나, 커버를 분리한 상태에서 단자판이 케이스의 외측으로 노출되도록 히터를 케이스의 내부에 설치한 다음, 단자판에 외부의 전원측을 접속하면 되므로, 히터의 설치 및 유지 보수가 간편한 효과가 있다. 그리고, 히터에서 방출된 복사열은 반사판에 의하여 반사된다. 따라서, 히터에서 방출된 복사열과 반사판에서 반사된 복사열에 의하여 기판이 가열되므로, 적은 에너지를 이용하여 기판을 고온으로 가열할 수 있는 효과가 있다.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置。根据本发明的基板处理装置简化了加热器的安装和维护，因为加热器插入到主体的左表面，右表面或后表面上的主体中，在另一端形成的端子板暴露在主体外部的加热器联接到主体，当外部电源连接到端子板或者盖子是壳体时，加热器安装在壳体内以将端子板暴露于外部，分离，然后将外部电源连接到端子板。并且，从加热器发射的辐射热被反射板反射。因此，本发明能够使用少量的能量来加热基板，因为基板被加热器发出的辐射热和从反射板反射的辐射热加热。

3. 发明公开

KR1020130130288A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020130130288A
公开(公告)日：2013-12-02
申请号：KR1020120053969
申请日：2012-05-22
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 이은호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/205 , H01L21/324 , H01L21/6719
摘要： An apparatus for processing substrate is disclosed. According to the present invention, the apparatus for processing substrate has a second heater that is installed in a chamber outside an entrance and parallel to the up and down directions of a main body. Because the height of the up and down directions of the main body is relatively low, the length of the second heater is short. Therefore, the second heater is easily installed and maintenance is facilitated.
摘要翻译：公开了一种用于处理衬底的设备。根据本发明，用于处理衬底的装置具有安装在入口外侧的平行于主体的上下方向的室内的第二加热器。由于主体的上下方向的高度相对较低，所以第二加热器的长度短。因此，第二加热器易于安装并且维护方便。

4. 发明公开

KR1020140128278A 기판처리장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020140128278A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：KR1020140093381
申请日：2014-07-23
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 강호영 , 박경완 , 조병호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67115 , H01L21/6719 , H01L21/6875
摘要： 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 본체의 좌측면, 우측면 또는 후면에서 히터를 본체의 내부로 삽입하고, 본체의 외측으로 노출되는 히터의 타단부측에 형성된 단자판을 본체에 결합하고, 단자판에 외부의 전원측을 접속하거나, 커버를 분리한 상태에서 단자판이 케이스의 외측으로 노출되도록 히터를 케이스의 내부에 설치한 다음, 단자판에 외부의 전원측을 접속하면 되므로, 히터의 설치 및 유지 보수가 간편한 효과가 있다. 그리고, 히터에서 방출된 복사열은 반사판에 의하여 반사된다. 따라서, 히터에서 방출된 복사열과 반사판에서 반사된 복사열에 의하여 기판이 가열되므로, 적은 에너지를 이용하여 기판을 고온으로 가열할 수 있는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。在本发明的基板处理装置中，将加热器插入到主体的左，右和后侧的主体中。形成在暴露于主体外部的加热器另一端的端子板与主体组合。端子板连接到外部电源部件，或者端子板安装在壳体中，以在盖子分离时将壳体外部的加热器暴露出来。此后，外部电源部分连接到终端，从而简化了加热器的安装和维护。并且，从加热器发射的辐射热被反射板反射。因此，由于由热量发射的辐射热和反射板反射的辐射热加热基板，所以可以通过使用低能量来高温地加热基板。

5. 发明公开

KR1020140128125A 기판처리장치 无效
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020140128125A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：KR1020130046902
申请日：2013-04-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 강호영 , 조병호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67706 , H01L21/67115 , H01L21/6875
摘要： 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 프레임에 설치된 기판처리유닛을 슬라이딩시켜 프레임에 삽입하거나 프레임으로부터 분리한다. 즉, 기판처리유닛을 프레임에 용이하게 삽입할 수 있고, 프레임으로부터 분리할 수 있으므로, 유지 보수가 편리한 효과가 있다. 그리고, 기판처리유닛의 본체의 좌측면, 우측면 또는 후면에서 히터를 본체의 내부로 삽입하고, 본체의 외측으로 노출되는 히터의 타단부측에 형성된 단자판을 본체에 결합하고, 단자판에 외부의 전원측을 접속하거나, 커버를 분리한 상태에서 단자판이 케이스의 외측으로 노출되도록 히터를 케이스의 내부에 설치한 다음, 단자판에 외부의 전원측을 접속하면 되므로, 히터의 설치 및 유지 보수가 간편한 효과가 있다. 그리고, 히터에서 방출된 복사열은 반사판에 의하여 반사된다. 따라서, 히터에서 방출된 복사열과 반사판에서 반사된 복사열에 의하여 기판이 가열되므로, 적은 에너지를 이용하여 기판을 고온으로 가열할 수 있는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。在本发明的基板处理装置中，将加热器插入到主体的左，右和后侧的主体中。形成在暴露于主体外部的加热器另一端的端子板与主体组合。端子板连接到外部电源部件，或者端子板安装在壳体中，以在盖子分离时将壳体外部的加热器暴露出来。之后，外部电源部分连接到终端，从而简化了安装和维护。并且，从加热器发射的辐射热被反射板反射。因此，由于由热量发射的辐射热和反射板反射的辐射热加热基板，所以可以通过使用低能量来高温地加热基板。

6. 发明授权

KR101452335B1 히터 및 이를 사용한 기판처리장치 有权
标题翻译：使用加热器和基板加工设备
公开(公告)号：KR101452335B1
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：KR1020130067232
申请日：2013-06-12
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이태완 , 조병호 , 강호영 , 박경완 , 설준호
IPC分类号： H05B3/00 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/6835
摘要： Disclosed are a heater and an apparatus for processing a substrate using the same. According to the present invention, a support member, which supports a case and a cover plate, is formed between the case and the cover plate of the heater. Therefore, the support member enhances heat resistance of the heater, thereby preventing deformation of the heater at high temperature.
摘要翻译：公开了一种加热器和用于使用其的基板的处理装置。根据本发明，在壳体和加热器的盖板之间形成有支撑壳体和盖板的支撑构件。因此，支撑构件增强了加热器的耐热性，从而防止了加热器在高温下的变形。

7. 发明授权

KR101383668B1 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치 有权
标题翻译：用于加工基材的密封部件和装置
公开(公告)号：KR101383668B1
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：KR1020120044227
申请日：2012-04-27
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 이은호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
摘要： 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 도어가 실링부재를 압착하면, 도어와 접촉된 실링부재의 부위가 도어의 테두리부측으로 슬라이딩되면서 본체의 전면측으로 압착된다. 그러면, 도어와 실링부재 사이의 접촉면적이 넓어지므로, 도어의 일측 부위가 열에 의하여 변형되어도, 실링부재는 변형된 도어 부위 뿐만아니라, 변형된 도어 부위의 외측 부위와도 접촉하므로, 도어와 실링부재 사이가 완전하게 실링된다. 이로 인해, 이물질이 챔버로 유입되지 못하고, 챔버의 열이 외부로 누설되지 못하므로, 기판이 균일하게 처리된다. 따라서, 기판 처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

8. 发明授权

KR101356209B1 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR101356209B1
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：KR1020120044231
申请日：2012-04-27
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
摘要： 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 외측도어에 설치되어 내측도어를 슬라이딩시키는 복수의 구동부가 외측도어 및 내측도어에 각각 유동가능하게 설치된다. 그러면, 복수의 구동부가 동일하게 동작하지 않음으로 인해, 각각의 구동부에 작용하는 도어로부터의 상이한 하중은, 구동부의 유동에 의하여 상쇄되므로, 구동부가 손상되지 않는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种衬底处理设备。根据本发明的基板处理设备设置有多个驱动部分，所述多个驱动部分安装在外门上并且滑动内门以便能够分别在外门和内门中流动。在这种情况下，由于多个驱动单元不以相同方式操作，所以通过驱动单元的流动来抵消作用于各个驱动单元的来自门的不同负载，使得驱动单元不被损坏。

9. 发明授权

KR101695948B1 기판처리 시스템 有权
公开(公告)号：KR101695948B1
公开(公告)日：2017-01-13
申请号：KR1020150091108
申请日：2015-06-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677
摘要： 본발명은복수의기판처리장치를순차적으로적층한기판처리시스템으로서, 상기기판처리장치는, 기판처리공간을제공하는챔버를포함하는본체; 및상기본체의상하방향으로이동가능하게설치되어상기본체의전면을개폐하는도어;를포함하고, 복수의상기기판처리장치는, 하부층으로부터상부층으로갈수록상기본체의전면방향으로소정거리시프팅(shifting)되면서순차적으로적층된것을특징으로하는, 기판처리시스템을제공한다.

10. 发明公开

KR1020150110206A 열처리 장치 无效
标题翻译：加热装置
公开(公告)号：KR1020150110206A
公开(公告)日：2015-10-02
申请号：KR1020140034303
申请日：2014-03-24
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 허관선 , 설준호
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/67017 , H01L21/68742
摘要： 열처리장치(100)가개시된다. 본발명에따른열처리장치(100)는, 기판(20)의열처리공간인챔버(TC, BC)를포함하는본체(110); 상하운동하며기판(20)을지지하는승강유닛(130: 131, 132, 133); 및본체(110)의내측상부및 내측하부에배치되는히터유닛(120: 121, 122, 123)을포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种热处理装置（100）。根据本发明的热处理装置包括：具有用于基板（20）的热处理的室（TC，BC）的主体（110）; 用于在升降单元升高时支撑基板的升降单元（130：131,132,133）; 以及设置在主体（110）的内部上部和内部下部的加热器单元（120：121,122,123）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式