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1. 发明公开

KR1020090015771A 고체-액체 분리 여과장치 및 여과방법 无效
标题翻译：过滤装置及固液分离方法
公开(公告)号：KR1020090015771A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020070090295
申请日：2007-09-06
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 허현
IPC分类号： B01D17/038
摘要： A filtering device for solid-liquid separation is provided to operate the filtering device continuously by removing collected materials during the operation, enable the filtering device to be operated in real-time in a state that the filtering device is connected to cleaning equipment, and allow the filtering device to be usefully used particularly in cleaning and delaminating processes by controlling centrifugal acceleration, retention time, etc., thereby easily performing solid-liquid separation to a desired particle size range, and a filtering method for solid-liquid separation using the filtering device is provided. A filtering device for solid-liquid separation using centrifugal separation comprises a rotary vessel(10), a rotary unit(20), a recovery vessel(30), and a feeder(40). The rotary vessel has its top part opened. The rotary vessel has a supply port(12) formed in an upper part thereof such that a filtering object is supplied through the supply port. The rotary vessel has a discharge port(14) formed in a bottom part thereof to discharge filtering residues through the discharge port. The rotary vessel is formed in such a cylindrical shape that a lower part of the rotary vessel becomes narrow from an upper side to a lower side. The rotary vessel is rotatably installed. The rotary unit rotates the rotary vessel. The recovery vessel surrounds an outer part of the rotary vessel in a state that the recovery vessel is spaced from the rotary vessel. The feeder sprays the filtering object onto an inner peripheral surface of the rotary vessel in a state that the filtering object is compressed.
摘要翻译：提供了一种用于固液分离的过滤装置，通过在操作过程中去除收集的材料来连续地操作过滤装置，使得过滤装置能够在过滤装置连接到清洁设备的状态下实时地操作，并允许该过滤装置特别用于通过控制离心加速度，保留时间等而特别用于清洁和分层过程，从而容易地进行固液分离至所需粒度范围，以及使用过滤的固液分离过滤方法提供设备。用于使用离心分离的固液分离的过滤装置包括旋转容器（10），旋转单元（20），回收容器（30）和进料器（40）。旋转容器的顶部打开。旋转容器具有形成在其上部的供给口（12），从而通过供给口供给过滤物。旋转容器具有形成在其底部的排出口（14），以通过排出口排出过滤残留物。旋转容器形成为使得旋转容器的下部从上侧向下侧变窄的圆筒状。旋转容器可旋转地安装。旋转单元旋转旋转容器。回收容器在回收容器与旋转容器间隔开的状态下围绕旋转容器的外部部分。供料器在过滤物体被压缩的状态下将过滤物体喷射到旋转容器的内周面上。

2. 发明公开

KR1020080085274A 포토레지스트 제거용 박리액 조성물 无效
标题翻译：剥离剂组合物去除光电离子
公开(公告)号：KR1020080085274A
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：KR1020070026497
申请日：2007-03-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 정종현 , 윤석일 , 허현 , 김병욱 , 박홍식 , 홍선영 , 이지선 , 정종현 , 신원석 , 김봉균 , 이병진
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/2068 , C11D11/0047 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/426
摘要： A stripper composition is provided to remove positive photoresist and negative photoresist at the same time, and to have excellent strippability. A stripper composition for removing a photoresist includes 10-30wt% of monoethanolamine, 10-40wt% of diethyleneglycolmonomethylether, and 40-80wt% of dimethylsulfoxide. A method for manufacturing a liquid crystal display device includes a step of etching a resist pattern formed on a substrate, and stripping and removing the resist pattern layer from the substrate. The process of stripping and removing the resist pattern layer removes both positive type and negative type resist patterns using the stripper composition.
摘要翻译：提供汽提器组合物以同时去除正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂，并且具有优异的剥离性。用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物包括10-30重量％的单乙醇胺，10-40重量％的二甘醇单甲醚和40-80重量％的二甲基亚砜。一种制造液晶显示装置的方法包括：蚀刻形成在基板上的抗蚀剂图案，并从基板剥离和去除抗蚀剂图案层的步骤。剥离和去除抗蚀剂图案层的过程使用剥离剂组合物去除正型和负型抗蚀剂图案。

3. 发明公开

KR1020090059749A 플라스마를 이용한 금속 나노 분말의 합성장치 및 방법 无效
标题翻译：使用等离子体制备金属纳米粉末的装置和方法
公开(公告)号：KR1020090059749A
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：KR1020070126778
申请日：2007-12-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 허현
IPC分类号： B82B3/00 , C01G5/00
CPC分类号： B22F9/22 , B01J19/088 , B22F2201/013 , B22F2202/13 , B22F2301/255 , B22F2304/054 , B82Y30/00 , B82Y40/00
摘要： A method for synthesizing metallic nanopowder is provided to improve productivity with a relatively simple device. A device for synthesizing metallic nanopowder comprises: a plasma generator equipped with a powder supply unit, an electromagnetic wave generating unit, a waveguide and a discharge tube; a gas/powder supply unit; and a reactor in which powder supplied from the gas/powder supply unit changes to a gas phase and becomes metallic nanopowder after a reduction or oxidation reaction. The gas/powder supply unit feeds: either metal oxide powder and reducing gas, which are heated up to 25-300°C; or reduced metal powder and oxidizing gas. The reactor is connected to the lower part of the discharge tube.
摘要翻译：提供了一种合成金属纳米粉末的方法，以通过相对简单的装置提高生产率。一种用于合成金属纳米粉末的装置，包括：配备有粉末供应单元，电磁波发生单元，波导和放电管的等离子体发生器; 气/粉供应单元; 以及从气体/粉末供给单元供给的粉末变成气相并在还原或氧化反应后成为金属纳米粉末的反应器。气/粉供应单元进料：金属氧化物粉末和还原气体，其加热至25-300℃; 或还原金属粉末和氧化气体。反应器连接到放电管的下部。

4. 发明授权

KR101403515B1 포토레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：去除光致抗蚀剂的组合物
公开(公告)号：KR101403515B1
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020070058536
申请日：2007-06-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성배 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 박희진 , 신성건 , 정세환 , 허현 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/32
摘要： 본 발명은 전자회로 또는 표시소자를 패턴(pattern)하는 레지스트(resist) 제거용 조성물 중 배선금속의 부식을 억제할 수 있는 레지스트 제거용 조성물에 관한 것으로, 보다 바람직하게는 a) 디아민 화합물(diamine compound) 1 내지 20 중량%, 및 b) 글리콜 에테르 화합물(glycol ether compound) 잔부를 포함하는 레지스트 제거용 조성물을 제공한다. 상기 조성물은 극성용매를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 레지스트 제거용 조성물은 포토레지스트를 제거하는 공정 시간 동안 배선금속을 부식시키지 않으며, 제거력은 매우 우수한 장점을 지니고 있다.
레지스트 제거용 조성물, 수용성 용매

5. 发明公开

KR1020070121523A 포토레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：去除光电组合物的组合物
公开(公告)号：KR1020070121523A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：KR1020070058536
申请日：2007-06-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성배 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 박희진 , 신성건 , 정세환 , 허현 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/425 , C11D1/526 , C11D3/044 , C11D3/2068 , C11D7/10 , G03F7/322 , G03F7/422 , G03F7/426
摘要： A composition for removing a photoresist is provided to prevent corrosion of metal wiring while removing a photoresist layer for a metal wiring pattern, and have excellent removability of a photoresist layer. A composition for removing a photoresist comprises (a) 1-20wt% of at least one diamine compound selected from compounds represented by the following formula 1, and (b) the balance of a glycol ether compound. In the formula, each of R and R', independently, is hydrogen or a C1-10 alkyl group, and R" is hydrogen, a C1-10 alkanol, or a C1-10 alkyl group. The composition further comprises at least one polar solvent.
摘要翻译：提供去除光致抗蚀剂的组合物，以防止金属布线的腐蚀，同时去除金属布线图案的光致抗蚀剂层，并且具有优异的光致抗蚀剂层的可除去性。用于除去光致抗蚀剂的组合物包含（a）1-20重量％的至少一种选自下式1表示的化合物的二胺化合物，和（b）二醇醚化合物的余量。在该式中，R 1和R 2各自独立地为氢或C 1-10烷基，R“为氢，C 1-10链烷醇或C 1-10烷基，该组合物还包含至少一个极性溶剂。

6. 发明授权

KR100908399B1 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 약액 재순환 방법 및장치 失效
标题翻译： 반도체또는디스플레이제조공정의약액재순환방법및장
公开(公告)号：KR100908399B1
公开(公告)日：2009-07-20
申请号：KR1020080038161
申请日：2008-04-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성배 , 이성현 , 허현 , 김병욱
IPC分类号： B01D17/038 , H01L21/304
摘要： 본 발명은 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 약액 재순환 방법 및 장치에 관한 것으로 반도체 또는 디스플레이 공정장비로부터 사용된 약액을 공급받아, 상기 공급된 사용된 약액을 원심 분리하여 i) 슬러지와 ii) 약액으로 분리하는 원심분리 단계; 상기 원심분리 단계에서 원심력으로 분리 배출되는 약액을 수집하여 상기 공정장비로 재공급하는 재순환 단계; 및, 상기 원심분리 단계로부터 분리된 슬러지를 수득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 약액 재순환 방법 및 이를 수행하는 장치에 관한 것으로 이를 통하여 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 약액 특히, 세정 또는 박리 공정에서 세정액 또는 박리액 내부에 포함되는 슬러지를 공정 진행 중에 제거가 가능하여, 연속운전 및 실시간 운전이 가능하게 하고, 공정상 제거하기 힘든 입자상의 particle을 원심가속도, 체류시간 등을 조절하여 원하는 입도 범위까지 손쉽게 고/액 분리를 수행할 수 있는 효과가 있다.
약액, 원심, 분리
摘要翻译：提供一种用于在半导体或显示器制造过程中再循环化学溶液的方法和设备，以通过在设备的操作中除去收集的材料来连续操作制造过程设备，使得设备能够以如下状态实时操作：该设备连接到处理设备，并且通过控制在该处理中难以控制的颗粒的离心加速度，滞留时间等，容易地进行固液分离至期望的颗粒尺寸范围。一种用于在半导体或显示器制造过程中再循环化学溶液的方法，包括：将来自半导体或显示处理设备的用过的化学溶液供应到外部的步骤; 离心步骤，离心所述用过的化学溶液以从所述用过的化学溶液分离污泥和化学溶液; 循环步骤，收集在离心分离步骤中通过离心力分离和排出的化学溶液，并将收集的化学溶液重新提供给处理设备; 以及获得从离心分离步骤分离出的污泥的步骤。

7. 发明公开

KR1020090051583A 마그네슘 및 마그네슘 합금의 식각 및 표면처리제 无效
标题翻译： MG和MG合金的蚀刻和表面处理材料
公开(公告)号：KR1020090051583A
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：KR1020070118043
申请日：2007-11-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 허현
IPC分类号： C23F1/22
CPC分类号： C23F1/22
摘要： 본 발명은 마그네슘 및 마그네슘 합금의 식각 및 표면처리제에 관한 것으로, 특히 마그네슘 및 마그네슘 합금 표면에 대하여 식각성능을 나타내며, 식각시 검은 얼룩(smut)을 발생시키지 않으며, 표면 식각 속도 조절이 용이하며, 식각과 동시에 마그네슘 및 마그네슘 합금 표면의 금속광택을 향상 시킬 수 있으며, 표면광택과 표면 질감 조절이 용이하며, 환경에 유해한 중금속을 발생시키지 않는 마그네슘 및 마그네슘 합금 식각 및 표면처리제에 관한 것이다.
마그네슘, 마그네슘 합금, 식각액, 표면처리제, 포토리소그라피

8. 发明公开

KR1020090059752A 마그네슘 및 마그네슘 합금의 표면처리방법 无效
标题翻译： MG和MG合金的表面处理方法
公开(公告)号：KR1020090059752A
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：KR1020070126782
申请日：2007-12-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 허현
IPC分类号： C23C20/00 , C23C22/00
CPC分类号： C23F1/22 , G03F7/423
摘要： A surface processing method of magnesium and magnesium alloy is provided to prevent the harmfulness by excluding the heavy metal in the surface processing and to reduce the processing time. A surface processing method of magnesium and magnesium alloy comprises a step of contacting the surface treating agent to the surface of the magnesium and the magnesium alloy. The surface treating agent contains dicarboxylic acid 0.5~25 wt.%, inorganic acid 0.1~10 wt.%, peroxide 0.1~10 wt.% and residual water.
摘要翻译：提供镁和镁合金的表面处理方法，以通过排除表面处理中的重金属来防止有害性并且缩短处理时间。镁和镁合金的表面处理方法包括使表面处理剂与镁和镁合金的表面接触的步骤。表面处理剂含有0.5〜25重量％的二羧酸，0.1〜10重量％的无机酸，0.1〜10重量％的过氧化物和残留的水。

9. 发明公开

KR1020090027847A 평판 표시소자 제조용 애싱 장치 无效
标题翻译：平面显示面板装置的平行装置
公开(公告)号：KR1020090027847A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：KR1020070092981
申请日：2007-09-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 허현
IPC分类号： G02F1/13 , H01L21/306
CPC分类号： G02F1/1303 , H01L21/67069 , H01L21/76826
摘要： An ashing device for a flat display panel device is provided to remove a contamination problem during a wet ashing process and reduce damage of a circuit wire except a masking material while simultaneously processing a large area. A heating unit(201) heats up to the temperature of 50~300 °C. A substrate(204) is preheated before an ashing process by microwave plasma through heating. Damage of a substrate is minimized by heat impact by preventing rapid heat expansion of the substrate through preheating of the substrate because a microwave plasma torch(205) is instant high temperature heating. An ashing speed increases when ashing the substrate through heating. A heating temperature of the substrate is determined by a decomposition temperature of a corresponding material. In an ashing apparatus(202), the substrate is heated by upper pressure microwave plasma(106).
摘要翻译：提供一种用于平板显示面板装置的灰化装置，用于消除湿灰化过程中的污染问题，并减少除掩模材料之外的电路线的损坏，同时处理大面积。加热单元（201）加热到50〜300℃的温度。在通过加热通过微波等离子体进行灰化处理之前对衬底（204）进行预热。由于微波等离子体焰炬（205）是即时高温加热，因此通过预热衬底来防止衬底的快速热膨胀，从而使衬底的损伤最小化。当通过加热对基板进行灰化时，灰化速度增加。基板的加热温度由相应材料的分解温度决定。在灰化装置（202）中，通过高压微波等离子体（106）对衬底进行加热。

10. 发明公开

KR1020090015784A 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 약액 재순환 방법 및장치 失效
标题翻译：化学溶液在半导体或显示器制造工艺中的再循环方法和装置
公开(公告)号：KR1020090015784A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020080038161
申请日：2008-04-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성배 , 이성현 , 허현 , 김병욱
IPC分类号： B01D17/038 , H01L21/304
摘要： A method and an apparatus for recirculating a chemical solution in a semiconductor or display manufacturing process are provided to continuously operate manufacturing process equipment by removing collected materials in the operation of the apparatus, enable the apparatus to be operated in real-time in a state that the apparatus is connected to the process equipment, and easily perform solid-liquid separation to a desired particle size range by controlling centrifugal acceleration, residence time, etc. of particles which are hard to be controlled in the process. A method for recirculating a chemical solution in a semiconductor or display manufacturing process comprises: a step of supplying a spent chemical solution from semiconductor or display process equipment to the outside; a centrifuging step of centrifuging the spent chemical solution to separate sludge and a chemical solution from the spent chemical solution; a recirculating step of collecting the chemical solution separated and discharged by centrifugal force in the centrifuging step, and re-supplying the collected chemical solution to the process equipment; and a step of obtaining the sludge separated from the centrifuging step.
摘要翻译：提供了一种用于在半导体或显示器制造过程中再循环化学溶液的方法和装置，以通过在装置的操作中去除所收集的材料来连续地操作制造工艺设备，使得该装置可以在以下状态下实时操作：该设备连接到处理设备，并且通过控制在该过程中难以控制的颗粒的离心加速度，停留时间等，容易地将固液分离成所需的粒度范围。一种用于在半导体或显示器制造工艺中再循环化学溶液的方法包括：从半导体或显示处理设备向外部提供废化学溶液的步骤; 将用过的化学溶液离心分离污泥和化学溶液的离心分离步骤; 循环步骤，在离心步骤中收集通过离心力分离和排出的化学溶液，并将收集的化学溶液重新供给到处理设备; 以及获得从离心分离步骤分离的污泥的步骤。

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