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1. 发明申请

WO2014081127A1 포토레지스트 박리액 조성물 및 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
标题翻译：光电离子流体组合物和剥离光电离子的方法
公开(公告)号：WO2014081127A1
公开(公告)日：2014-05-30
申请号：PCT/KR2013/009634
申请日：2013-10-28
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 허순범 , 김병욱 , 조태표 , 윤석일 , 정세환 , 장두영 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 포토레지스트 박리 효과 및 부식 방지 효과를 나타내는 포토레지스트 박리액 조성물 및 포토레지스트 박리방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 N,N-디메틸 프로피온아미드, Solketal, 및 유기아민을 포함하며, 환경과 인체에 유해한 글리콜에테르 화합물을 대체할 수 있는 포토레지스트 제거용 박리액 조성물에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及显示光刻胶剥离效果和防腐蚀效果的光致抗蚀剂剥离液组合物，以及剥离光致抗蚀剂的方法。更具体地说，本发明涉及用于除去包括N，N-二甲基丙酰胺，Solketal和有机胺的光致抗蚀剂的剥离液组合物，其可以取代对环境和人体有害的二醇醚化合物。

2. 发明申请

WO2013168903A1 신너 조성물 审中-公开
标题翻译：薄膜组成
公开(公告)号：WO2013168903A1
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：PCT/KR2013/003262
申请日：2013-04-18
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , G02B5/3016
摘要： 본 발명은 중합성 액정 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 광학 필름에 사용되었을 경우 열적 안정성과 액정상 구간의 온도 범위가 넓은 특성을 지니며, 비용면에서도 효율적인 중합성 액정 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 코어 구조가 연결기를 가지지 않고 서로 단일 결합으로 연결되거나 다중환 구조로 연결된 하나 이상의 환 구조를 가지는 액정성 화합물을 중합성 메소겐 화합물과 혼합하여 중합성 액정 조성물을 구성함으로써, 액정 재료간 상용성이 우수하고, 화학적으로 안정하며, 넓은 온도 범위 내에서 액정 상을 유지하고, 또한 액정 광학 필름에 사용한 경우 우수한 배향성, 내화학적으로 안정적 성질을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있으며, 제조방법이 비교적 간단하기 때문에 비용면에서도 효율적이다.
摘要翻译：本发明涉及一种可聚合液晶组合物，更具体地说，涉及一种在光学膜中使用时，液晶相中热稳定性和温度范围广泛的成本低廉的聚合性液晶组合物。本发明的聚合性液晶组合物通过将具有至少一个环结构的核心结构不具有连接基但通过单键彼此连接的多个环结构混合而形成，具有可聚合的介晶化合物，因此在液晶材料之间具有优异的常用性质，是化学稳定的，并且在宽的温度范围内保持液晶相。在本发明用于液晶光学膜的情况下，可以制造出具有优异取向性和耐化学性特性的光学膜，并且成本效益高，因为可以通过相对简单的方式进行制造处理。

3. 发明申请

WO2010002194A2 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：去除剂和使用该脱模剂制造显示面板的方法
公开(公告)号：WO2010002194A2
公开(公告)日：2010-01-07
申请号：PCT/KR2009/003599
申请日：2009-07-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제 및 게이트 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 반도체를 형성하는 단계, 상기 반도체 위에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 색 필터를 형성하는 단계, 상기 색 필터 위에 절연막을 형성하는 단계, 그리고 상기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 절연막을 형성하는 단계 및 상기 화소 전극을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 감광막을 도포하는 단계, 상기 감광막을 노광하여 복수의 감광 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광 패턴을 사용하여 식각하는 단계, 그리고 상기 감광 패턴을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 감광 패턴을 박리하는 단계는 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제를 사용하는 표시판의 제조 방법에 대한 것이다.
摘要翻译：
本发明包括一种形成剥离剂和包含重量的1至20％的环状胺化合物，10〜90重量％的乙二醇醚化合物的，的极性溶剂的栅极电极的步骤和剩余量，所述在栅极上形成栅电极绝缘膜，形成于所述栅极绝缘膜，形成滤色器，其包括半导体：形成源极电极和在所述半导体漏电极，在源电极和漏电极，滤色器在形成绝缘膜，并且形成在绝缘膜上，形成步骤中的至少一个，和像素电极的像素电极，以形成所述绝缘膜包括将光敏薄膜的步骤中，由光敏膜暴露形成多个感光图案，蚀刻感光图案，和剥离图案的步骤中，剥离光敏图案的步骤是使用释放剂，其包含重量的从1％至20％的环胺化合物的极性溶剂，乙二醇醚化合物的10〜90重量％，其余在这种情况下，

4. 发明授权

KR102057158B1 포토레지스트 제거용 박리액 조성물 有权
公开(公告)号：KR102057158B1
公开(公告)日：2019-12-18
申请号：KR1020190065144
申请日：2019-06-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 허순범 , 김병욱 , 조태표 , 윤석일 , 정세환 , 장두영 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D11/00 , C11D7/50 , C11D3/00 , C11D3/43

5. 发明授权

KR101891501B1 증착 재료 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR101891501B1
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：KR1020110011876
申请日：2011-02-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/32 , H05B33/10 , C11D11/00
摘要： 본발명은 N-메틸-2-피롤리돈및 1,3-디메틸-2-이미다조리디논(1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)을포함하는증착재료세정액조성물및 이를이용한세정방법에관한것으로서, 이러한조성물을이용하면전기광학기기의제조장치에부착된증착재료를신속히제거하여제조공정의시간을단축하고생산비용을절감할수 있으며, 공정의안정성을확보할수 있다.

6. 发明授权

KR101488265B1 박리 조성물 및 박리 방법 有权
标题翻译：汽提和汽提方法的组成
公开(公告)号：KR101488265B1
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：KR1020070098028
申请日：2007-09-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이지선 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 기판 상에 칼라 필터 또는 유기 절연막을 형성하는 공정 중에 불량이 발생하는 경우, 기판상에 형성된 칼라 레지스트 또는 유기 절연막을 용이하게 박리시키고 기판을 재사용할 수 있도록 하는 박리 조성물 및 박리 방법에 관한 것으로서, 하이드록사이드계 화합물 0.5 내지 45 중량%, 알킬렌글리콜알킬에테르계 화합물 10 내지 89 중량%, 알칸올아민계 화합물 5 내지 45 중량% 및 무기 염 화합물 0.01 내지 5 중량%를 포함하는 박리 조성물을 제공하여, 칼라 레지스트 또는 유기 절연막의 제거시 하지의 박막 트랜지스터에 손상을 가하지 않으면서 박리 공정을 진행할 수 있다.
칼라 필터, 칼라 레지스트, 유기 절연막, 박리 조성물

7. 发明授权

KR101399502B1 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 有权
标题翻译：去除TFT-LCD热固性树脂的去除组合物
公开(公告)号：KR101399502B1
公开(公告)日：2014-06-27
申请号：KR1020080091951
申请日：2008-09-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 티에프티 엘시디의 제조공정에서 티에프티 엘시디의 열경화성 수지 형성공정 중 발생하는 불량의 기판을 재사용하기 위한 박리액 조성물에 관한 것으로, (a) 암모늄 하이드록사이드 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬 암모늄 하이드록사이드 화합물 0.5 내지 15 중량부; (b) 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬렌글리콜에테르 9 내지 89 중량부; (c) 글리콜 화합물 10 내지 40 중량부; (d) 부식방지제 0.01 내지 5 중량부; 및 (e) 물 0.1 내지 5 중량부를 포함하는 열경화성 수지 박리액 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 박리액 조성물은 칼라 레지스트뿐 아니라, 네가티브 및 포지티브 유기절연막를 하부막질인 무기절연막 및 각종 금속 배선에 손상을 주지 않고 단시간에 제거하여 칼라필터 기판 및 티에프티 기판을 재사용할 수 있도록 한다.
열경화성수지, 유기절연막, 박리액, 티에프티 엘시디

8. 发明公开

KR1020110068483A 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：剥离器组合物
公开(公告)号：KR1020110068483A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020090125458
申请日：2009-12-16
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D11/00
CPC分类号： G03F7/422 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A resist stripper composition is provided to completely remove and clean a resist without generating a corrosion on a metal wire during a removing and cleaning process. CONSTITUTION: A resist stripper composition contains an imidazolidine system compound marked with chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, R1 and R2 are a linear or branched alkyl with 1~5carbons, alkyl amino with 1~5carbons, alryl, hydroxyalkyl with 1~5carbons, or alkylphenyl with 1~5carbons, separately. The solvent is selected from the group consisting of a protic polar solvent, an aprotic polar solvent, and there mixture.
摘要翻译：目的：提供抗蚀剂剥离剂组合物，以在去除和清洁过程中完全除去和清洁抗蚀剂，而不会在金属丝上产生腐蚀。构成：抗蚀剂剥离剂组合物含有用化学式1标记的咪唑烷体系化合物和溶剂。在化学式1中，R 1和R 2分别是具有1〜5个碳原子的直链或支链烷基，具有1〜5个碳原子的烷基氨基，1〜5个碳原子的烷基氨基，1〜5个碳原子的烷基苯基，1〜5个碳原子的烷基苯基。溶剂选自质子极性溶剂，非质子极性溶剂和混合物。

9. 发明公开

KR1020100033006A 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 有权
标题翻译：去除TFT-LCD热敏树脂的组合物
公开(公告)号：KR1020100033006A
公开(公告)日：2010-03-29
申请号：KR1020080091951
申请日：2008-09-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C08G77/38 , C08L61/34 , C11D11/0047 , G03F7/34 , G03F7/422
摘要： PURPOSE: A stripper composition is provided to reuse a color filter base material and a TFT substrate by removing a color resist and negative and positive organic insulating films in a short time. CONSTITUTION: A stripper composition comprises 0.5 ~ 15 parts by weight of alkylammonium hydroxide compound with ammonium hydroxide or C1-4 alkyl group, 9 ~ 89 parts by weight of alkyleneglycolether with C1-4 alkyl group, 10 ~ 40 parts by weight of glycol ether compound, 10 ~ 40 parts by weight of glycol ether compound, 0.01 ~ 5 parts by weight of corrosion inhibitor, and 0.1 ~ 5 parts by weight of water.
摘要翻译：目的：提供剥离剂组合物以在短时间内除去彩色抗蚀剂和负极和正性有机绝缘膜来再利用滤色器基材和TFT基板。组成：汽提组合物包含0.5〜15重量份的烷基氢氧化铵与氢氧化铵或C1-4烷基，9〜89重量份的具有C1-4烷基的亚烷基二醇醚，10〜40重量份的乙二醇醚化合物，10〜40重量份的二醇醚化合物，0.01〜5重量份的缓蚀剂和0.1〜5重量份的水。

10. 发明授权

KR101420571B1 드라이필름 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 드라이필름 레지스트의 제거방법 有权
标题翻译：用于干燥电阻的去除组合物和使用该组合物的除去方法
公开(公告)号：KR101420571B1
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：KR1020130079083
申请日：2013-07-05
申请人： 삼성전기주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 조은인 , 오용수 , 이수흥 , 손명찬 , 지영식 , 이태곤 , 이경상 , 정세환 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 황종원
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/046 , C11D7/32 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0955 , G03F7/32
摘要： The present invention relates to a remover composition for a dry film resist comprising a hydroxide-based compound, a chain type amine compound, a triazole compound, and pure water in a certain mixture ratio, and to a method for removing a dry film resist using the same, which completely removes the dry film resist, prevents the corrosion of a metal layer, and is capable of reusing a remover.
摘要翻译：本发明涉及一种干膜抗蚀剂的去除剂组合物，其含有一定混合比例的氢氧化物基化合物，链型胺化合物，三唑化合物和纯水，以及使用以下方法除去干膜抗蚀剂的方法：完全去除干膜抗蚀剂，防止金属层的腐蚀，并且能够重新使用去除剂。

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