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1. 发明申请

WO2010002194A2 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：去除剂和使用该脱模剂制造显示面板的方法
公开(公告)号：WO2010002194A2
公开(公告)日：2010-01-07
申请号：PCT/KR2009/003599
申请日：2009-07-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제 및 게이트 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 반도체를 형성하는 단계, 상기 반도체 위에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 색 필터를 형성하는 단계, 상기 색 필터 위에 절연막을 형성하는 단계, 그리고 상기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 절연막을 형성하는 단계 및 상기 화소 전극을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 감광막을 도포하는 단계, 상기 감광막을 노광하여 복수의 감광 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광 패턴을 사용하여 식각하는 단계, 그리고 상기 감광 패턴을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 감광 패턴을 박리하는 단계는 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제를 사용하는 표시판의 제조 방법에 대한 것이다.
摘要翻译：
本发明包括一种形成剥离剂和包含重量的1至20％的环状胺化合物，10〜90重量％的乙二醇醚化合物的，的极性溶剂的栅极电极的步骤和剩余量，所述在栅极上形成栅电极绝缘膜，形成于所述栅极绝缘膜，形成滤色器，其包括半导体：形成源极电极和在所述半导体漏电极，在源电极和漏电极，滤色器在形成绝缘膜，并且形成在绝缘膜上，形成步骤中的至少一个，和像素电极的像素电极，以形成所述绝缘膜包括将光敏薄膜的步骤中，由光敏膜暴露形成多个感光图案，蚀刻感光图案，和剥离图案的步骤中，剥离光敏图案的步骤是使用释放剂，其包含重量的从1％至20％的环胺化合物的极性溶剂，乙二醇醚化合物的10〜90重量％，其余在这种情况下，

2. 发明授权

KR101359919B1 포토레지스트 박리 조성물, 이를 사용한 포토레지스트 박리방법 및 표시 장치의 제조 방법 有权
标题翻译：用于剥离光刻胶的组合物，剥离光刻胶的方法和使用其制造显示装置的方法
公开(公告)号：KR101359919B1
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：KR1020070111177
申请日：2007-11-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 김봉균 , 이지선 , 이병진 , 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범
IPC分类号： G03F7/34
摘要： 본 발명에 따른 포토레지스트 박리 조성물은 술폰계 화합물 80 내지 98.5 중량%, 락톤계 화합물 1 내지 10 중량% 및 알킬 술폰산 0.1 내지 5 중량%를 포함한다. 포토레지스트 박리 조성물은 실질적인 박리 성능의 감소나 금속 패턴의 손상 없이 재사용될 수 있어서 사진 식각 공정의 비용을 감소시킬 수 있다.
포토레지스트 박리 조성물, 오존

3. 发明公开

KR1020100003526A 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법 无效
标题翻译：使用其制造显示面板的剥离器和方法
公开(公告)号：KR1020100003526A
公开(公告)日：2010-01-11
申请号：KR1020080063461
申请日：2008-07-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D1/72 , G02F1/1333 , G02F1/13458 , G02F1/136227 , G03F7/34 , H01L27/124
摘要： PURPOSE: A stripper is provided to ensure excellent strippability of a photosensitive film, to remarkably reduce swelling phenomenon in a color filter and insulating layer, and to suppress display defects by preventing the unevenness caused by swelling of the surface of the color filter and insulating layer. CONSTITUTION: A stripper comprises 1-20 weight% cyclic amine compound, 10-90 weight% glycol ether compound, and the remaining amount of polar solvent. A method for manufacturing a display panel using a release agent comprises the steps of: forming a gate electrode(124); forming an insulating layer(140) on the gate electrode; forming a semiconductor(151) on the gate insulating layer; forming a source electrode(173) and a drain electrode(175) on the semiconductor; forming a color filter(230) on the source electrode and drain electrode; and forming pixel electrode(191) on the insulating layer.
摘要翻译：目的：提供剥离器，以确保感光膜的优异的剥离性，显着减少滤色器和绝缘层中的溶胀现象，并且通过防止由滤色器和绝缘层的表面膨胀引起的不均匀性来抑制显示缺陷。构成：剥离剂包含1-20重量％的环胺化合物，10-90重量％的二醇醚化合物和剩余量的极性溶剂。使用脱模剂制造显示面板的方法包括以下步骤：形成栅电极（124）; 在栅电极上形成绝缘层（140）; 在栅绝缘层上形成半导体（151）; 在半导体上形成源电极（173）和漏电极（175）; 在源电极和漏电极上形成滤色器（230）; 以及在所述绝缘层上形成像素电极（191）。

4. 发明公开

KR1020090044895A 포토레지스트 박리 조성물, 이를 사용한 포토레지스트 박리방법 및 표시 장치의 제조 방법 有权
标题翻译：用于剥离光刻胶的组合物，剥离光刻胶的方法和使用其制造显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020090044895A
公开(公告)日：2009-05-07
申请号：KR1020070111177
申请日：2007-11-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 김봉균 , 이지선 , 이병진 , 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범
IPC分类号： G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425 , C11D7/08 , C11D7/263 , C11D7/264 , C11D7/265 , G03F7/34 , G03F7/422 , G03F7/426
摘要： 본 발명에 따른 포토레지스트 박리 조성물은 술폰계 화합물 80 내지 98.5 중량%, 락톤계 화합물 1 내지 10 중량% 및 알킬 술폰산 0.1 내지 5 중량%를 포함한다. 포토레지스트 박리 조성물은 실질적인 박리 성능의 감소나 금속 패턴의 손상 없이 재사용될 수 있어서 사진 식각 공정의 비용을 감소시킬 수 있다.
포토레지스트 박리 조성물, 오존
摘要翻译：本发明提供一种用于光致抗蚀剂剥离的组合物，具有该组合物的光致抗蚀剂剥离方法以及一种用于制造显示装置的方法。用于光致抗蚀剂剥离的组合物可以循环使用，而不必减少剥离能力或金属图案的损坏，从而降低了照片中蚀刻过程的成本。用于光刻胶剥离的组合物包括80wtt146420430f砜系列化合物，1wtt25113530f内酯系列化合物和0.1wtt1f烷基磺酸。

5. 发明授权

KR101608873B1 금속 배선 식각액 및 이를 이용한 금속 배선 형성 방법 有权
标题翻译：金属丝蚀刻剂及其制造方法
公开(公告)号：KR101608873B1
公开(公告)日：2016-04-05
申请号：KR1020100024250
申请日：2010-03-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 서남석 , 홍선영 , 정종현 , 김봉균 , 박홍식 , 송진호 , 이왕우 , 김도원 , 김상우 , 서원국 , 신현철 , 이기범 , 조삼영
IPC分类号： C23F1/34 , C23F1/02 , H05K3/06
CPC分类号： C09K13/08 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/28088 , H01L21/32134 , H01L27/1214 , H01L27/124 , H05K3/067
摘要： 금속배선식각액을제공한다. 본발명의한 실시예에따른금속배선식각액은과산화이황산암모늄, 유기산, 암모늄염, 불소함유화합물, 글리콜계화합물및 아졸계화합물을포함한다.

6. 发明公开

KR1020080085274A 포토레지스트 제거용 박리액 조성물 无效
标题翻译：剥离剂组合物去除光电离子
公开(公告)号：KR1020080085274A
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：KR1020070026497
申请日：2007-03-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 정종현 , 윤석일 , 허현 , 김병욱 , 박홍식 , 홍선영 , 이지선 , 정종현 , 신원석 , 김봉균 , 이병진
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/2068 , C11D11/0047 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/426
摘要： A stripper composition is provided to remove positive photoresist and negative photoresist at the same time, and to have excellent strippability. A stripper composition for removing a photoresist includes 10-30wt% of monoethanolamine, 10-40wt% of diethyleneglycolmonomethylether, and 40-80wt% of dimethylsulfoxide. A method for manufacturing a liquid crystal display device includes a step of etching a resist pattern formed on a substrate, and stripping and removing the resist pattern layer from the substrate. The process of stripping and removing the resist pattern layer removes both positive type and negative type resist patterns using the stripper composition.
摘要翻译：提供汽提器组合物以同时去除正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂，并且具有优异的剥离性。用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物包括10-30重量％的单乙醇胺，10-40重量％的二甘醇单甲醚和40-80重量％的二甲基亚砜。一种制造液晶显示装置的方法包括：蚀刻形成在基板上的抗蚀剂图案，并从基板剥离和去除抗蚀剂图案层的步骤。剥离和去除抗蚀剂图案层的过程使用剥离剂组合物去除正型和负型抗蚀剂图案。

7. 发明公开

KR1020080077419A 포토레지스트 제거 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트제거방법 有权
标题翻译：用于剥离光刻胶的组合物和使用其的剥离光刻胶的方法
公开(公告)号：KR1020080077419A
公开(公告)日：2008-08-25
申请号：KR1020070016881
申请日：2007-02-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 김봉균 , 신원석 , 이지선 , 이병진 , 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322 , C11D3/044 , C11D7/266 , C11D11/0047 , G03F7/038 , G03F7/0758 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/426
摘要： A composition for stripping a photoresist, and a method for removing a photoresist by using the composition are provided to allow the composition to be reused without the deterioration of performance or the damage of a metal pattern. A composition for stripping a photoresist comprises 80-98.5 wt% of gamma-butyrolactone; 1-10 wt% of an alkyl carbamate; 0.1-5 wt% of an alkyl sulfonic acid; and 0.1-5 wt% of a nonionic surfactant. A method for removing a photoresist comprises the steps of (S10) applying the composition to a photoresist pattern formed on a substrate; (S20) withdrawing the composition applied to the photoresist pattern; and (S30) applying an ozone gas to the withdrawn photoresist removing composition to degrade the photoresist impurities contained in the composition.
摘要翻译：提供用于剥离光致抗蚀剂的组合物，以及通过使用该组合物除去光致抗蚀剂的方法，以使组合物重复使用，而不会降低性能或金属图案的损坏。用于剥离光致抗蚀剂的组合物包含80-98.5重量％的γ-丁内酯; 1-10重量％的氨基甲酸烷基酯; 0.1-5重量％的烷基磺酸; 和0.1-5重量％的非离子表面活性剂。去除光致抗蚀剂的方法包括以下步骤：（S10）将所述组合物施加到形成在基底上的光致抗蚀剂图案; （S20）取出施加到光致抗蚀剂图案上的组合物; 和（S30）将臭氧气体施加到所取出的光致抗蚀剂去除组合物上，以降低组合物中所含的光致抗蚀剂杂质。

8. 发明授权

KR101619380B1 식각액 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조방법 有权
标题翻译：使用其的阵列基板的蚀刻和方法
公开(公告)号：KR101619380B1
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：KR1020090042173
申请日：2009-05-14
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김봉균 , 정종현 , 이병진 , 홍선영 , 박홍식 , 김시열 , 이기범 , 조삼영 , 김상우 , 신현철 , 서원국
IPC分类号： C09K13/08
CPC分类号： C23F1/26 , C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L29/458
摘要： 식각액조성물은과산화이황산암모늄((NH)SO, ammonium persulfate) 0.1 내지 30 중량%, 무기산 0.1 내지 10 중량%, 아세테이트염0.1 내지 10 중량%, 불소함유화합물 0.01 내지 5 중량%, 술폰산화합물 0.01 내지 5 중량%, 아졸계화합물 0.01 내지 2 중량% 및여분의물을포함한다. 이에따라, 식각액의안정성을확보하고식각공정상마진을보장하여비용을절감할수 있다.

9. 发明授权

KR101310310B1 박막트랜지스터 액정표시장치의 식각액 조성물 有权
标题翻译：薄膜晶体管 - 液晶显示器的蚀刻
公开(公告)号：KR101310310B1
公开(公告)日：2013-09-23
申请号：KR1020070104166
申请日：2007-10-16
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 박홍식 , 홍선영 , 김봉균 , 이지선 , 이병진 , 이기범 , 조삼영 , 구병수 , 신현철 , 서원국 , 박귀홍
IPC分类号： C09K13/04
摘要： 본 발명은 액정표시 장치의 회로 패턴에 사용되는 구리 배선을 식각하는 식각액 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 식각액 조성물은 과산화이황산암모늄과 아졸계 화합물을 포함한다. 본 발명의 식각액 조성물은 과산화수소를 함유하지 않으므로 안정성과 공정상 마진을 확보할 수 있으며, 우수한 테이퍼 식각 프로파일을 얻을 수 있는 특징을 지닌다.
과산화이황산암모늄, 식각액, 구리

10. 发明公开

KR1020100070087A 포토레지스트 박리제 조성물 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电子剥离器的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020100070087A
公开(公告)日：2010-06-25
申请号：KR1020080128684
申请日：2008-12-17
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 김봉균 , 박홍식 , 홍선영 , 최영주 , 이병진 , 서남석 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , H01L27/124 , H01L27/1288
摘要： PURPOSE: A photoresist stripper composition and a method for manufacturing a thin film transistor array substrate using the same are provided to prevent the damage of an underlayer film when photoresist is stripped. CONSTITUTION: A photoresist stripper composition comprises: chain type amine compound 5 ~ 30 weight%; cyclic amine compound 0.5 ~ 10 weight%; glycol ether compound 10 ~ 80 weight%; distilled water 5 ~ 30 weight%; and anticorrosive agent 0.1 ~ 5 weight%. The chain type amine compound is selected from a group comprising monoethanolamine, diethanolamine, triethanolammine, propanolamin, dipropanolamine, tripropanolamine, isopropanol amine, diisopropanol, triisopropanol amine, 2-(2-aminoetoxy) ethanol.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂剥离剂组合物和使用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法，以防止当光致抗蚀剂剥离时下层膜的损伤。构成：光致抗蚀剂剥离剂组合物包含：链型胺化合物5〜30重量％; 环胺化合物0.5〜10重量％; 乙二醇醚化合物10〜80重量％; 蒸馏水5〜30重量％; 和防腐剂0.1〜5重量％。链型胺化合物选自单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，丙醇胺，二丙醇胺，三丙醇胺，异丙醇胺，二异丙醇，三异丙醇胺，2-（2-氨氧基）乙醇。

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