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1. 发明申请

WO2023287155A1 기판처리장치용 상부돔 및 기판처리장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2023287155A1
公开(公告)日：2023-01-19
申请号：PCT/KR2022/010106
申请日：2022-07-12
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 우람 , 김기범 , 김도형 , 김재홍 , 안민
IPC分类号： C23C16/00 , H01J37/32 , C30B25/08
摘要： 본 발명은 기판에 대한 처리공정이 이루어지는 챔버; 상기 챔버의 내부에서 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판지지부; 상기 챔버의 상부(上部)를 덮는 상부돔; 및 상기 챔버의 하부(下部)에 결합된 하부돔을 포함하되, 상기 상부돔의 에지부가 상기 상부돔의 센터부보다 두꺼운 두께로 형성된 기판처리장치에 관한 것이다.

2. 发明申请

WO2016182299A1 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-公开
标题翻译：衬底处理装置安装在过程室内，以及操作方法
公开(公告)号：WO2016182299A1
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：PCT/KR2016/004842
申请日：2016-05-10
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 최승대 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
摘要： 기판 처리장치의 일 실시예는, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터의 하부에 결합하고, 중심이 상기 서셉터의 중심과 일치하도록 배치되는 금속링; 및 상기 디스크 하부에 상기 디스크의 중심을 기준으로 방사상으로 배치되고, 적어도 일부가 상기 금속링과 상하방향으로 대향되도록 구비되는 마그네트를 포함할 수 있다.
摘要翻译：衬底处理装置的实施例可以包括：设置成能够旋转的盘; 设置在所述盘上的至少一个感受体，衬底位于所述基座的上表面上，所述基座随着所述盘旋转而旋转，并以所述圆盘的中心为轴线旋转; 金属环，其耦合到所述基座的下部并且布置成使得所述金属环的中心与所述基座的中心重合; 以及相对于盘的中心径向设置在盘的下部的磁体，并且设置成使得至少一部分磁体在上/下方向上面对金属环。

3. 发明申请

WO2019045537A1 지지구조체 审中-公开
公开(公告)号：WO2019045537A1
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：PCT/KR2018/010196
申请日：2018-09-03
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 우람 , 김기범 , 김희정 , 배종태 , 이길제 , 하윤규
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687
摘要： 지지구조체의 일 실시예는, 기판지지핀이 삽입되는 중공이 길이방향으로 형성되는 핀삽입부재; 상기 핀삽입부재의 상부 및 하부에 원주방향으로 복수로 구비되고, 상기 기판지지핀과 롤링접촉하여 상기 기판지지핀의 상기 핀삽입부재의 길이방향 이동을 지지하는 지지부재; 및 상기 핀삽입부재 외주면에 결합하며, 복수의 상기 지지부재를 둘러싸도록 구비되어 상기 지지부재를 상기 핀삽입부재의 직경방향으로 가압하고, 복수의 상기 지지부재를 상기 핀삽입부재에 결합하는 결합부재를 포함할 수 있다.

4. 发明申请

WO2020159064A1 샤워헤드 및 이를 포함하는 기판처리장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2020159064A1
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：PCT/KR2019/016913
申请日：2019-12-03
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 우람 , 김기범 , 김재홍 , 이길제 , 이주영 , 하윤규
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 본 발명은 결합수단을 이용하여 샤워헤드를 사이드월에 고정시킴으로써 사이드월과 샤워헤드의 이탈 현상을 방지할 수 있는 샤워헤드 및 이를 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 샤워헤드에 의하면, 결합수단을 이용하여 샤워헤드를 사이드월에 고정시킴으로써 열팽창에 의해 보조홈의 직경이 커지더라도 결합수단의 제2 단부에 의해 결합수단이 보조홈에서 빠지는 현상을 방지하여 사이드월과 샤워헤드의 결합력을 향상시킬 수 있으며, 유지 보수 작업을 진행하는 경우에도 보조홈이 커지는 문제가 발생하지 않으며, 결합수단의 제2 단부를 커팅하기만 하면 용이하게 사이드월의 교체가 가능한 장점이 있다.

5. 发明申请

WO2016204452A1 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-公开
标题翻译：基板处理装置安装在工艺室内及其工作方法中
公开(公告)号：WO2016204452A1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：PCT/KR2016/006163
申请日：2016-06-10
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 김수웅 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 정석철 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 기판 처리장치의 일 실시예는, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터의 하부에 결합하고, 중심이 상기 서셉터의 중심과 일치하도록 배치되는 금속링; 상기 디스크의 하부에 배치되고, 적어도 일부에 상기 금속링의 외주면과 측방향으로 대향되는 내주면이 형성되는 지지블록을 포함할 수 있다.
摘要翻译：基板处理装置的一个实施例可以包括：设置成可旋转的盘; 设置在盘上的至少一个感受体，具有上表面，基板被装载在该上表面上，并且根据盘的旋转并通过使用盘的中心作为其轴线旋转; 金属环，其耦合到所述基座的下部并且布置成使得其中心对应于所述基座的中心; 以及布置在所述盘的下部上的支撑块，并且在其至少一部分中具有在横向方向上面对所述金属环的外周表面的内周面。

6. 发明公开

KR1020170039320A 완충공간을 구비한 로드락챔버 审中-实审
标题翻译：负载锁定室具有缓冲空间
公开(公告)号：KR1020170039320A
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：KR1020150138282
申请日：2015-10-01
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이명진 , 우람 , 이용현 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/02
摘要： 완충공간을구비한로드락챔버가개시된다. 본발명에따른로드락챔버는, 대기압상태와진공상태를반복하는상호인접하는챔버와챔버사이에완충공간을형성한다. 그리고, 완충공간을사이에두고상호인접하면서상이한압력을가지는챔버들중, 상대적으로저압상태를유지하는챔버와상대적으로고압상태를유지하는챔버의압력사이의압력으로완충공간의압력을감압한다. 그러면, 완충공간과고압인챔버의압력차 및완충공간과저압인챔버의압력차가상대적으로작으므로, 고압인챔버의변형정도와저압인챔버의변형정도가감소된다. 이로인해, 고압인챔버와저압인챔버를결합시키는체결부재에상대적으로작은하중이작용하게되므로, 체결부재가손상되는것을방지할수 있는효과가있을수 있다.
摘要翻译：公开了一种具有缓冲空间的负载锁定室。根据本发明的负载锁定腔室在相邻腔室和腔室之间形成在大气压力和真空条件下重复的缓冲空间。然后，在具有不同的压力，同时夹持彼此相邻的膨胀空间，相对于在腔室中的压力，以保持相对于所述腔室中的高的压力，以保持所述低压力状态的室中的一个之间的压力的真空压力在膨胀空间。于是，由于缓冲空间和高压室之间的压力差以及缓冲空间和低压室之间的压力差相对较小，因此高压室的变形程度和低压室的变形程度不同，结果，相对较小的载荷施加到用于联接高压室和低压室的紧固构件，从而具有能够防止紧固构件被损坏的效果。

7. 发明公开

KR1020160148157A 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-实审
标题翻译：布置在处理室中的基板布置装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020160148157A
公开(公告)日：2016-12-26
申请号：KR1020150084765
申请日：2015-06-16
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 김수웅 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 정석철 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 기판처리장치의일 실시예는, 자전가능하도록구비되는디스크; 상기디스크에배치되고, 상면에기판이안착되며, 상기디스크가자전함에따라자전및 상기디스크의중심을축으로공전하는적어도하나의서셉터; 상기서셉터의하부에결합하고, 중심이상기서셉터의중심과일치하도록배치되는금속링; 상기디스크의하부에중심이상기디스크의중심과일치하도록배치되고, 적어도일부에상기금속링의외주면과측방향으로대향되는내주면이형성되는지지블록을포함할수 있다.
摘要翻译：基板处理装置的一个实施例可以包括：设置成可旋转的盘; 设置在盘上的至少一个感受体，具有上表面，基板被装载在该上表面上，并且根据盘的旋转并通过使用盘的中心作为其轴线旋转; 金属环，其耦合到所述基座的下部并且布置成使得其中心对应于所述基座的中心; 以及布置在所述盘的下部上的支撑块，并且在其至少一部分中具有在横向方向上面对所述金属环的外周表面的内周面。

8. 发明公开

KR1020160132743A 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-实审
标题翻译：布置在处理室中的基板布置装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020160132743A
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020150097515
申请日：2015-07-09
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 최승대 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/683 , H01L21/02 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68785 , H01L21/68792
摘要： 기판처리장치의일 실시예는, 자전가능하도록구비되는디스크; 상기디스크에배치되고, 상면에기판이안착되며, 상기디스크가자전함에따라자전및 상기디스크의중심을축으로공전하는적어도하나의서셉터; 상기서셉터의하부에결합하고, 중심이상기서셉터의중심과일치하도록배치되는금속링; 및상기디스크하부에상기디스크의중심을기준으로방사상으로배치되고, 적어도일부가상기금속링과상하방향으로대향되도록구비되는마그네트를포함할수 있다.

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